CN107608141A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括相对设置的第一基板及第二基板、支撑于所述第一基板与所述第二基板之间的隔垫物、填充于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层，以及增设于所述隔垫物底部与所述第一基板之间的分隔层，所述分隔层用于分隔所述隔垫物底部与所述第一基板。本发明通过在隔垫物和与其相连接的膜层之间设置分隔层，所述分隔层可以与所述隔垫物之间形成清晰的分界线，从而界定出隔垫物上下两端的界线，以便于准确测量出隔垫物的厚度，提高显示面板的显示品质。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法，及具有该显示面板的显示装置。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称LCD)是显示器中的主流产品。在液晶显示器中，隔垫物是液晶显示器的重要部件，隔垫物的高度决定了需注入液晶的厚度，也就是盒厚。盒厚会影响液晶显示面板的透光率及液晶的反应时间，是影响液晶显示面板性能的重要参数。

如果隔垫物在受力不均匀或者是受到外力影响之后不能回复到原状的情况，隔垫物上方和下方的基板容易发生偏移，造成显示器出现白不良的现象，因此需要对隔垫物的厚度进行检测，以便根据测量的隔垫物厚度对液晶的注入量进行调整，以便更好地控制盒厚。现有技术中，如图1所示，隔垫物130和与其相连接的膜层160之间的界线模糊，该膜层可以是色阻层或者平坦层。由于隔垫物130和与其相连接的膜层160均为有机材料，两者的界线L从扫描电子显微镜(scanning electron microscopy，SEM)中难以区分，因此，难以准确地量测出隔垫物的厚度。在现有需求下，如何能有效准确地量测出隔垫物的厚度极为关键。

发明内容

针对以上的问题，本发明的目的是提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，以实现准确地量测出隔垫物的厚度。

为了解决背景技术中存在的问题，一方面，本发明提供了一种显示面板，包括相对设置的第一基板及第二基板、支撑于所述第一基板与所述第二基板之间的隔垫物、填充于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层，以及增设于所述隔垫物底部与所述第一基板之间的分隔层，所述分隔层用于分隔所述隔垫物底部与所述第一基板。

其中，所述分隔层与所述隔垫物在所述第一基板上的投影面积相等。

其中，所述显示面板还包括像素电极层，所述像素电极层设于所述第一基板与所述液晶层之间，所述像素电极层与所述分隔层设于同一层，且与所述分隔层相间隔设置。

其中，所述分隔层的材质与所述像素电极层的材质相同。

其中，所述第一基板包括叠设的平坦层、色阻层及TFT阵列基板，所述平坦层设于所述隔垫物底部与所述色阻层之间。

其中，所述第一基板包括叠设的色阻层及TFT阵列基板，所述色阻层设于所述隔垫物底部与所述TFT阵列基板之间。

其中，所述显示面板还包括黑矩阵，所述黑矩阵设于所述第一基板与所述液晶层之间，且连接于所述隔垫物底部的周缘处，所述黑矩阵与所述隔垫物的材质相同。

另一方面，本发明提供了一种显示装置，包括上述任一实施方式所述的显示面板，还包括背光模组及边框，所述边框用于固定所述背光模组与所述显示面板。

再一方面，本发明提供了一种显示面板制备方法，包括

提供第一基板；

在所述第一基板上成型相间隔的像素电极层及分隔层；

在所述分隔层上成型隔垫物；

提供第二基板，将所述第一基板与所述第二基板对位，以使所述隔垫物支撑于所述第二基板与所述分隔层之间；及

在所述第一基板与所述第二基板之间成型液晶层，密封所述液晶层。

其中，在所述第一基板上沉积一层透明导电材料，通过光刻工艺在所述透明导电材料上成型所述分隔层和所述像素电极层。

本发明针对隔垫物和与其相连接的膜层之间分界不清晰，而造成的无法准确测量所述隔垫物厚度的问题，通过在隔垫物和与其相连接的膜层之间设置分隔层，所述分隔层可以与所述隔垫物之间形成清晰的分界线，从而界定出隔垫物两端的界线，通过扫描电子显微镜测量出可以隔垫物的厚度，以严格控制盒厚，获得高对比度、高亮度、高响应速度的显示效果。同时，设置所述分隔层与像素电极层在同一制程中制得，这样可以在实现准确地界定所述隔垫物边界的同时，不增加额外的工艺制程和材料，节省工序和时间，节省成本，操作简便。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是现有技术中隔垫物和与其连接的膜层分界处的电子扫描显像图。

图2是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

图3是本发明实施例提供的一种显示面板局部的结构示意图。

图4是图3提供的显示面板中隔垫物和与其连接的膜层分界处的电子扫描显像图。

图5是本发明第一实施例提供的显示面板局部的结构示意图。

图6是本发明第二实施例提供的显示面板局部的结构示意图。

图7是本发明第三实施例提供的显示面板局部的结构示意图。

图8是本发明施例提供的一种显示面板制备方法的流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明中所提到的方向用语，例如，“顶部”、“底部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本发明，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

请参阅图2，图2是本发明实施例提供的显示装置10。所述显示装置10可以是液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等具有显示面板的电子设备。

所述显示装置10包括显示面板100、背光模组200及边框300。所述背光模组200可以与所述显示面板100层叠设置，也可以设于所述显示面板100周侧。所述边框300设于所述显示面板100与所述背光模组200的外围，用于固定所述背光模组200与所述显示面板100。

请参阅图3，图3是本发明实施例提供的一种显示面板100。所述显示面板100包括相对设置的第一基板110及第二基板120、支撑于所述第一基板110与所述第二基板120之间的隔垫物130、填充于所述第一基板110与所述第二基板120之间的液晶层140，以及增设于所述隔垫物130底部与所述第一基板110之间的分隔层150，所述分隔层150用于分隔所述隔垫物130底部与所述第一基板110。所述隔垫物130的材质与所述第一基板110的材质不同，以区分出所述隔垫物130与所述第一基板110的交界处的第一膜层界线L1。所述分隔层150设于所述隔垫物130与所述第一基板110之间，所述分隔层150的材质与所述隔垫物130的材质不同，以区分出所述分隔层150与所述隔垫物130的交界处的第二膜层界线L2。所述第一膜层界线L1与所述第二膜层界线L2用于界定出所述隔垫物130的厚度H。

由于隔垫物130的厚度较薄，可以通过在扫描电子显微镜(scanning electronmicroscopy，SEM)中观察并测量出隔垫物130的厚度H。本发明中，为了便于描述，所述第一膜层界线L1定义为在扫描电子显微镜下可以清晰地区分出所述隔垫物130与所述第一基板110的分界线，所述第二膜层界线L2定义为在扫描电子显微镜下可以清晰地区分出所述分隔层150与所述隔垫物130的分界线。其中，所述第一膜层界线L1与所述第二膜层界线L2之间的间距为所述隔垫物130的厚度H。

为了避免显示面板在弯曲过程中，隔垫物掉入薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)阵列基板上的通孔处，及降低传统工艺中的彩膜层一侧的制作难度，可以将显示面板中的彩膜层叠设于TFT阵列基板上，且隔垫物设于彩膜层上。本实施例以这一显示面板为例。

本实施例中，所述第二基板120包括公共电极层121。所述公共电极层121连接于所述隔垫物150的顶部。所述公共电极层121的材质为金属氧化物，例如铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧化物、铟锗锌氧化物、或其它合适的氧化物、或者是上述至少二者的组合。而所述隔垫物130的材质为有机材料，例如聚酰亚胺(PI)，优选具有一定弹性的材料。由于所述公共电极层121和所述隔垫物130分别为金属氧化物和有机材料，两者的分子密度不同，因此，所述公共电极层121和所述隔垫物130在扫描电子显微镜中可以看到很清晰的第一膜层界线L1。

请参阅图1，第一基板110一侧与所述隔垫物130相连接的膜层由有机材料组成，这样就会导致所述隔垫物130与所述第一基板110之间的分解线不清晰，从而难以在扫描电子显微镜中测量出所述隔垫物130的厚度H。

请参阅图3及图4，本申请通过在所述第一基板110和所述隔垫物130之间增设一层分隔层150，该分隔层150的材质不是有机材料，可以在扫描电子显微镜中与所述隔垫物130形成第二膜层界线L2，通过测量第一膜层界线L1与所述第二膜层界线L2之间的距离，即可测量所述隔垫物130的厚度H。

本实施例中，液晶层140作为一种显示介质，液晶层140还可以用电泳显示介质、或是其它可适用的介质替代。在本发明下列实施例中的显示介质是以液晶分子当作范例，但不限于此。再者，在本发明下列实施例中的液晶分子，较佳地，是以可被水平电场转动或切换的液晶分子或者是可被横向电场转动或切换的液晶分子为范例，但不限于此。

可选的，所述隔垫物130可以是柱状隔垫物，柱状隔垫物具有以下的优点，尺寸易于控制，高对比度，减少因震动所产生的对彩膜层的刮伤、均匀性好、高耐久度。所述隔垫物130的两端分别支撑于薄膜晶体管基板与彩膜基板之间，以控制所述液晶层140的盒厚。

一种可能的实施方式中，请参阅图5，所述分隔层150与所述隔垫物130在所述第一基板110上的投影面积相等。原因在于：若分隔层150的尺寸小于所述隔垫物130的尺寸，可能造成所述隔垫物130的位置不稳定、甚至产生倾斜，从而造成显示面板100的盒厚不均匀及显示不良等问题。

可选的，所述分隔层150在所述第一基板110上的投影面积还可以大于所述隔垫物130在所述第一基板110上的投影面积，以免在所述隔垫物130的制作过程中，各个隔垫物130的尺寸之间具有一定的差异，所述分隔层150的尺寸大于隔垫物130，可补偿这些隔垫物130的尺寸之间的差异，以避免某些隔垫物130的尺寸大于所述分隔层150的尺寸。

一种可能的实施例中，请参阅图5，所述显示面板100还包括像素电极层160。所述像素电极层160位于所述第一基板110与所述液晶层140之间，且连接至所述第一基板110。也就是说，所述分隔层150和像素电极层160设于同一层。而且，所述像素电极层160与所述分隔层150相间隔设置。所述分隔层150与所述像素电极层160相间隔，即所述分隔层150与所述像素电极层160之间不会电连接，所述分隔层150不带电，这样可以避免所述分隔层150与其他金属层之间产生寄生电容，从而影响显示面板100的性能。

所述像素电极层160可以为透明导电材料，其包括金属氧化物，例如铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧化物、铟锗锌氧化物、或其它合适的氧化物、或者是上述至少二者的组合。

优选地，所述分隔层150的材质可以与所述像素电极层160的材质相同。也就是说，所述分隔层150可以与所述像素电极层160在同一膜层由同一制程制得。具体地，利用镀膜工序在第一基板110上形成透明导电材料层，然后在透明导电材料层上涂布光阻层，并进行曝光显影，蚀刻以形成所述分隔层150与所述像素电极层160。这样可以在实现准确地界定所述隔垫物130的边界的同时，不增加额外的工艺制程和材料，节省工序和时间，节省成本，操作简便。

可选的，所述分隔层150的材质还可以为氧化硅、氮化硅、氧化铝其中一种或多种的组合。在此实施方式中，所述分隔层150可以利用镀膜工序形成在第一基板110上，无需图案化，且设于所述像素电极层160与液晶层140之间。

此外，所述分隔层150的材质还可以为金属材质等。只需满足该分隔层150在扫描电子显微镜下与所述隔垫物130形成第二膜层界线L2即可。

第一种可能的实施例中，请参阅图5，所述第一基板110包括依次层叠设置的平坦层170、色阻层180及TFT阵列基板190，所述TFT阵列基板190设于所述第一基板110上。所述分隔层150连接于所述隔垫物130与所述平坦层170之间。所述平坦层170和所述色阻层180设有通孔111，所述通孔111贯穿于所述平坦层170和所述色阻层180。所述像素电极层160设于所述平坦层170上，且伸入于所述通孔111，并与所述TFT阵列基板190的漏极电连接。所述分隔层150设于所述通孔111之外，且与所述像素电极层160相间隔。所述隔垫物130通过所述分隔层150设于所述平坦层170上。

本实施例中，所述平坦层170为有机材料(例如：聚酯类(PET)、聚烯类、聚丙酰类、聚碳酸酯类、聚环氧烷类、聚苯烯类、聚醚类、聚酮类、聚醇类、聚醛类、或其它合适的材料、或上述的组合)、或其它合适的材料、或上述的组合。

本实施例中，所述分隔层150设于所述平坦层170与所述隔垫物130之间，可以与所述隔垫物130形成分界线，从而在显微镜下清晰地区分出所述隔垫物130的底部，以便于准确测量隔垫物130的厚度。

第二种可能的实施例中，请参阅图6，所述第一基板110包括色阻层180及TFT阵列基板190，所述TFT阵列基板190设于所述第一基板110上。所述分隔层150连接于所述隔垫物130与所述色阻层180之间。所述色阻层180设有通孔111，所述通孔111贯穿于所述色阻层180。所述像素电极层160设于所述色阻层180上，且伸入于所述通孔111，并与所述TFT阵列基板190的漏极电连接。所述分隔层150设于所述通孔111之外，且与所述像素电极层160相间隔。所述隔垫物130通过所述分隔层150设于所述色阻层180上。

本实施例中，色阻层180的材质为有机材料，所述分隔层150设于所述色阻层180与所述隔垫物130之间，可以与所述隔垫物130形成分界线，从而在显微镜下清晰地区分出所述隔垫物130的底部，以便于准确测量隔垫物130的厚度。

本实施例中，所述TFT阵列基板190的结构和组成为现有技术，本申请对此不做限定。

第三种可能的实施例中，请参阅图7，所述显示面板100还包括黑矩阵112，所述黑矩阵112设于所述第一基板110与所述液晶层140之间，且连接于所述隔垫物130底部的周缘处。所述黑矩阵112与所述隔垫物130的材质相同。

本实施方式中，所述黑矩阵112可以与所述隔垫物130在同一制程中制得，其中所述黑矩阵112的厚度远小于所述隔垫物130。所述黑矩阵112覆盖于薄膜晶体管、扫描线及数据线之上，用以遮光。

本发明中，所述显示面板100还包括配向层(未图示)，所述配向层可以包括上配向层及下配向层，所述上配向层及下配向层分别设于所述第二基板120及所述第一基板110，用以对所述液晶层140中的液晶分子配向。本发明对于上配向层及下配向层的具体位置不做限定。

请参阅图5～图8，本发明还提供了一种显示面板的制备方法S100，包括

S101、提供第一基板110。

所述第一基板110包括叠设的TFT阵列基板190、色阻层180、平坦层170以及贯穿于所述色阻层180及所述平坦层170的通孔111。

提供第一基板110的步骤包括以下的步骤。

在所述第二基板110上形成栅极、覆盖所述栅极的栅绝缘层。在栅绝缘层上形成有源层，在有源层上形成源极和漏极，以成型TFT(薄膜晶体管)；在TFT位置处形成覆盖所述源极金属层、漏极金属层和有源层的钝化层，形成TFT阵列基板190。

在所述TFT阵列基板190上形成色阻层180。

在所述色阻层180上形成平坦层170。

在所述色阻层180及所述平坦层170上设置通孔111，所述通孔111贯穿所述色阻层180、平坦层170、钝化层。

S102、在所述第一基板110上成型相间隔的像素电极层160及分隔层150。

其中，所述像素电极层160覆盖于所述通孔111。

步骤S102包括，利用镀膜工序在平坦层170上形成透明导电材料层，然后在透明导电材料层上涂布光阻层，并进行曝光显影，蚀刻以形成所述分隔层150与所述像素电极层160。其中，所述像素电极层160覆盖于所述通孔111，且像素电极层160伸入所述通孔111与TFT阵列基板190的源极电连接。所述分隔层150与所述像素电极层160相间隔。

S103、在所述分隔层150上形成隔垫物130。

其中，所述分隔层150的材质与所述隔垫物130的材质不同，以区分出所述隔垫物130与所述分隔层150的膜层界线L2。

在步骤S103中，在所述第一基板110上成型有机材料层，在有机材料层上成型隔垫物130和黑矩阵112，隔垫物130与分隔层150相对应，黑矩阵112覆盖于薄膜晶体管、通孔111及扫描线、数据线等，用以遮光。

S104、提供第二基板120。其中，所述第二基板120包括公共电极层121，将所述第一基板110与所述第二基板120对位，以使所述隔垫物130支撑于所述公共电极层121与所述分隔层150之间。

其中，所述公共电极层121的材质与所述隔垫物150的材质不同，以区分出所述隔垫物150与所述公共电极层121的膜层界线L1。所述膜层界线L1与所述膜层界线L2之间的间距为隔垫物150的厚度H。

S105、在所述第一基板110与所述第二基板120之间形成液晶层140，密封所述液晶层140，以形成显示面板100。

本实施例提供的一种显示面板的制备方法，用于制备第一实施例所述的显示面板。第二实施例所述的显示面板的制备方法与第一实施例所述的显示面板的制备方法相似，不同之处在于，在第一实施例所述的显示面板的制备方法的基础上，减少了平坦层的制程，所以本申请将不再赘述第二实施例所述的显示面板的制备方法。

本申请实施例针对隔垫物130和与其相连接的膜层之间分界不清晰造成的无法准确测量所述隔垫物130厚度的问题，通过在隔垫物130和与其相连接的膜层之间设置分隔层150，所述分隔层150可以与所述隔垫物130之间形成清晰的分界线，从而界定出隔垫物130两端的界线，通过扫描电子显微镜测量出可以隔垫物130的厚度H，以严格控制盒厚，获得高对比度、高亮度、高响应速度的显示效果。同时，设置所述分隔层150与同层的像素电极层160在同一制程中制得，这样可以在实现准确地界定所述隔垫物130的边界的同时，不增加额外的工艺制程和材料，节省工序和时间，节省成本，操作简便。

综上所述，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，但该较佳实施例并非用以限制本发明，该领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括相对设置的第一基板及第二基板、支撑于所述第一基板与所述第二基板之间的隔垫物、填充于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层，以及增设于所述隔垫物底部与所述第一基板之间的分隔层，所述分隔层用于分隔所述隔垫物底部与所述第一基板。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述分隔层与所述隔垫物在所述第一基板上的投影面积相等。

3.如权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括像素电极层，所述像素电极层设于所述第一基板与所述液晶层之间，所述像素电极层与所述分隔层设于同一层，且与所述分隔层相间隔设置。

4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述分隔层的材质与所述像素电极层的材质相同。

5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一基板包括叠设的平坦层、色阻层及TFT阵列基板，所述平坦层设于所述隔垫物底部与所述色阻层之间。

6.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一基板包括叠设的色阻层及TFT阵列基板，所述色阻层设于所述隔垫物底部与所述TFT阵列基板之间。

7.如权利要求1～6任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括黑矩阵，所述黑矩阵设于所述第一基板与所述液晶层之间，且连接于所述隔垫物底部的周缘处，所述黑矩阵与所述隔垫物的材质相同。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～7任意一项所述的显示面板，还包括背光模组及边框，所述边框用于固定所述背光模组与所述显示面板。

9.一种显示面板制备方法，其特征在于，包括

提供第一基板；

在所述第一基板上成型相间隔的像素电极层及分隔层；

在所述分隔层上成型隔垫物；

提供第二基板，将所述第一基板与所述第二基板对位，以使所述隔垫物支撑于所述第二基板与所述分隔层之间；及

在所述第一基板与所述第二基板之间成型液晶层，密封所述液晶层。

10.如权利要求9所述的显示面板制备方法，其特征在于，在所述第一基板上沉积一层透明导电材料，通过光刻工艺在所述透明导电材料上成型所述分隔层和所述像素电极层。