CN107572795A - 一种陶瓷双层裂纹釉及其制作工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种陶瓷双层裂纹釉，包括内釉层和外釉层，其采用两次上釉的方式，将热膨胀系数较大、高温流动性较小的内层釉上于陶瓷坯体之上，之后再上热膨胀系数较小、高温流动性较大的外层釉，两种釉料在高温烧制过程中，内层釉产生疏密想间，错落有致的裂纹，而外层釉布于内层釉表面并形成没有裂纹，且具有一定耐磨性与抗水性的外釉层，成为对内层裂纹釉进行保护，并对陶瓷整体构成保护的外层保护釉。本发明提供的陶瓷双层裂纹釉，可施于普通陶瓷坯体表面，形成具有一定耐磨性与抗水性的裂纹釉陶瓷，可用于制作具有裂纹纹路的日用陶瓷餐具、陶瓷板、陶瓷砖、陶瓷工艺品等。
Description
技术领域
本发明属于陶瓷制造技术领域，具体涉及一种陶瓷双层裂纹釉及其制作工艺。
背景技术
釉面龟裂原是烧成中的一种缺陷，但当某些制品的釉面龟裂很特别，纹路均匀、清晰，布满器面，给人一种特别的美感，于是人们就从中得到了启发，从而总结经验，有意识地去造成这种袖面的裂纹，这样就逐渐创造出了裂纹釉。瓷器裂纹釉釉面布满许多小裂纹，有疏有密，有粗有细，有长有短，有曲有直，形似龟裂、蟹爪或冰裂的纹路。
发明内容
基于以上现有技术，本发明的目的在于提供一种陶瓷双层裂纹釉，其裂纹纹理均匀、疏密有致，表面光滑明亮，手感细腻温润，且本发明提供的裂纹釉，其裂纹存在于釉层内部，其表面具有一定的耐磨性与抗水性，其釉面不会轻易磨损，从而使杂质或水分渗入裂纹釉的裂纹缝隙中。
为了实现以上目的，本发明采用的技术方案如下：一种陶瓷双层裂纹釉，包括内釉层和外釉层，所述内釉层原料包括以下重量份的组分：石英20～30份、高岭土10～15份、镁橄榄石10～15份、锆石7～12份、钛酸钡7～15份、硅酸钠7～12份、硅酸钙7～12份、氧化硅7～12份、滑石6～10份、氧化铝5～8份、氧化锌5～8份、氮化硅4～8份、硼钠钙石1～3份、锂辉石1～3份；所述外釉层原料包括以下重量份的组分：石英20～30份、钠长石23～30份、硅酸钠15～20份、高岭土7～10份、硅酸钙10～15份、氧化硅6～10份、氧化铝5～8份、滑石6～10份、硅酸钙6～10份、锆石3～5份、石膏3～5份、硼砂1～1.5份。
作为优选，所述内釉层原料包括以下重量份的组分：石英25份、高岭土12份、镁橄榄石13份、锆石10份、钛酸钡11份、硅酸钠10份、硅酸钙10份、氧化硅9份、滑石8份、氧化铝6份、氧化锌7份、氮化硅6份、硼钠钙石2份、锂辉石2份；所述外釉层原料包括以下重量份的组分：石英25份、钠长石27份、硅酸钠17份、高岭土8份、硅酸钙12份、氧化硅8份、氧化铝6份、滑石8份、硅酸钙8份、锆石4份、石膏4份、硼砂1.2份。
作为进一步优化，所述致色剂为氧化铁、氧化锰、氧化铜、氧化钴、氧化镍、氧化镉、硫化镉、碲化镉中的至少一种。
本发明提供的陶瓷双层裂纹釉，因其原料中部分组分的熔点较低，在高温烧制陶瓷的过程中，熔化的低熔点原料使釉层呈现具有流动性的熔融状态，其中，内釉层的熔融流动性相对较低，热膨胀系数相对较高，外釉层的熔融流动性相对较高，热膨胀系数相对较低，在烧制陶瓷的过程中，内、外釉层的釉料均发生热膨胀，内釉层因其高的热膨胀系数而产生裂纹，而外釉层因其相对较高的流动性，本身不会产生裂纹，还能对外釉层的裂纹进行填充，最后产生表面光滑的陶瓷双层裂纹釉。
本发明还提供一种制作陶瓷双层裂纹釉的工艺，包括以下步骤：
步骤1、按照所述重量份分别称取原料，备用；
步骤2、采用如下方法分别得到内、外釉层釉水：将原料混合后加入占其总重量1.5～2倍的水，之后升温至50～60℃，在0.01～0.1MPa的真空度下先以800～850r/min的速率搅拌20～30分钟，再以80～120r/min的速率搅拌40～80分钟，之后调节其含水量为55～65％，得到内、外层釉水；
步骤3：采用内层釉水对定型得到的陶瓷坯体进行一次上釉，晾干后采用外层釉水进行二次上釉，其中，一次上釉的厚度为0.5～1mm，二次上釉的厚度为0.7～1.2mm，二次上釉后，将上釉后的坯体在150～180℃的条件下保温烧制30～50分钟，保温结束后淬火得到淬火纹陶瓷，之后将淬火纹陶瓷在1250～1300℃的条件下烧制3～8小时，降温后得到裂纹釉陶瓷，其表面裂纹状釉层即为陶瓷双层裂纹釉。
本发明提供的制作双层裂纹釉的工艺，采用两次上釉方法依次将内层釉、外层釉施于陶瓷坯体表面，之后在150～180℃的条件下保温结束后进行淬火，可使内釉层产生一定程度的裂纹，之后再在1250～1300℃的条件下烧制得到陶瓷制品，观其表面，会发现大小均匀，错落有致的裂纹，手触陶瓷制品，其手感光滑，无具有表面裂纹的制品表面特有的粗糙感。
作为优选，所述步骤2中，调节内层釉水的含水量为55～58％，调节外层釉水的含水量为62～65％。
作为优选，所述步骤3中一次上釉的厚度为0.7±0.05mm，所述步骤3中二次上釉的厚度为1±0.05mm。
作为另一优选，所述步骤3中淬火步骤具体操作为：在150～180℃的条件下保温烧制结束后，将保温烧制得到的陶瓷在10秒内快速浸入常温清水中，保持5～8秒后取出即得到淬火纹陶瓷，其中，淬火过程中水面高出陶瓷高度为30mm以上。
有益效果
本发明提供的陶瓷双层裂纹釉，其采用两次上釉的方式，将热膨胀系数较大、高温流动性较小的内层釉上于陶瓷坯体之上，之后再上热膨胀系数较小、高温流动性较大的外层釉，两种釉料在高温烧制过程中，内层釉产生疏密想间，错落有致的裂纹，而外层釉布于内层釉表面并形成没有裂纹，且具有一定耐磨性与抗水性的外釉层，成为对内层裂纹釉进行保护，并对陶瓷整体构成保护的外层保护釉。
本发明提供的陶瓷双层裂纹釉，可施于普通陶瓷坯体表面，形成具有一定耐磨性与抗水性的裂纹釉陶瓷，可用于制作具有裂纹纹路的日用陶瓷餐具、陶瓷板、陶瓷砖、陶瓷工艺品等。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步详细说明。
实施例1
本实施例提供一种陶瓷双层裂纹釉，包括内釉层和外釉层，所述内釉层原料包括以下重量份的组分：石英20份、高岭土10份、镁橄榄石10份、锆石7份、钛酸钡7份、硅酸钠7份、硅酸钙7份、氧化硅7份、滑石6份、氧化铝5份、氧化锌5份、氮化硅4份、硼钠钙石1份、锂辉石1份；所述外釉层原料包括以下重量份的组分：石英20份、钠长石23份、硅酸钠15份、高岭土7份、硅酸钙10份、氧化硅6份、氧化铝5份、滑石6份、硅酸钙6份、锆石3份、石膏3份、硼砂1份、致色剂氧化钴3份。
本实施例还提供一种制作陶瓷双层裂纹釉的工艺，包括以下步骤：
步骤1、按照所述重量份分别称取原料，备用；
步骤2、采用如下方法分别得到内、外釉层釉水：将原料混合后加入占其总重量1.5倍的水，之后升温至50℃，在0.1MPa的真空度下先以800r/min的速率搅拌30分钟，再以120r/min的速率搅拌40分钟，之后调节其含水量得到内、外层釉水，其中，调节内层釉水的含水量为55～56％，调节外层釉水的含水量为62～63％；
步骤3：采用内层釉水对定型得到的陶瓷坯体进行一次上釉，晾干后采用外层釉水进行二次上釉，其中，一次上釉的厚度为0.6±0.05mm，二次上釉的厚度为1.1±0.05mm，二次上釉后，将上釉后的坯体在150℃的条件下保温烧制50分钟，保温结束后淬火得到淬火纹陶瓷，之后将淬火纹陶瓷在1250℃的条件下烧制8小时，降温后得到裂纹釉陶瓷，其表面裂纹状釉层即为陶瓷双层裂纹釉。
实施例2
本实施例提供一种陶瓷双层裂纹釉，包括内釉层和外釉层，所述内釉层原料包括以下重量份的组分：石英23份、高岭土11份、镁橄榄石12份、锆石8份、钛酸钡9份、硅酸钠8份、硅酸钙9份、氧化硅8份、滑石7份、氧化铝8份、氧化锌5份、氮化硅5份、硼钠钙石2份、锂辉石1份；所述外釉层原料包括以下重量份的组分：石英22份、钠长石25份、硅酸钠16份、高岭土8份、硅酸钙11份、氧化硅6份、氧化铝5份、滑石8份、硅酸钙7份、锆石3份、石膏4份、硼砂1份、致色剂氧化镍4份、氧化镉3份。
本实施例还提供一种制作陶瓷双层裂纹釉的工艺，包括以下步骤：
步骤1、按照所述重量份分别称取原料，备用；
步骤2、采用如下方法分别得到内、外釉层釉水：将原料混合后加入占其总重量1.5倍的水，之后升温至60℃，在0.07MPa的真空度下先以830r/min的速率搅拌25分钟，再以110r/min的速率搅拌60分钟，之后调节其含水量得到内、外层釉水，其中，调节内层釉水的含水量为56～57％，调节外层釉水的含水量为63～65％；
步骤3：采用内层釉水对定型得到的陶瓷坯体进行一次上釉，晾干后采用外层釉水进行二次上釉，其中，一次上釉的厚度为0.7±0.05mm，二次上釉的厚度为1±0.05mm，二次上釉后，将上釉后的坯体在180℃的条件下保温烧制30分钟，保温结束后淬火得到淬火纹陶瓷，之后将淬火纹陶瓷在1300℃的条件下烧制4小时，降温后得到裂纹釉陶瓷，其表面裂纹状釉层即为陶瓷双层裂纹釉。
实施例3
本实施例提供一种陶瓷双层裂纹釉，包括内釉层和外釉层，所述内釉层原料包括以下重量份的组分：石英25份、高岭土12份、镁橄榄石13份、锆石10份、钛酸钡11份、硅酸钠10份、硅酸钙10份、氧化硅9份、滑石8份、氧化铝6份、氧化锌7份、氮化硅6份、硼钠钙石2份、锂辉石2份；所述外釉层原料包括以下重量份的组分：石英25份、钠长石27份、硅酸钠17份、高岭土8份、硅酸钙12份、氧化硅8份、氧化铝6份、滑石8份、硅酸钙8份、锆石4份、石膏4份、硼砂1.2份、致色剂氧化钴6份、氧化锰4份。
本实施例还提供一种制作陶瓷双层裂纹釉的工艺，包括以下步骤：
步骤1、按照所述重量份分别称取原料，备用；
步骤2、采用如下方法分别得到内、外釉层釉水：将原料混合后加入占其总重量1.7倍的水，之后升温至55℃，在0.02MPa的真空度下先以850r/min的速率搅拌20分钟，再以100r/min的速率搅拌60分钟，之后调节其含水量得到内、外层釉水，其中，调节内层釉水的含水量为56～57％，调节外层釉水的含水量为62～64％；
步骤3：采用内层釉水对定型得到的陶瓷坯体进行一次上釉，晾干后采用外层釉水进行二次上釉，其中，一次上釉的厚度为0.7±0.05mm，二次上釉的厚度为1±0.05mm，二次上釉后，将上釉后的坯体在165℃的条件下保温烧制45分钟，保温结束后淬火得到淬火纹陶瓷，之后将淬火纹陶瓷在1270℃的条件下烧制7小时，降温后得到裂纹釉陶瓷，其表面裂纹状釉层即为陶瓷双层裂纹釉。
实施例4
本实施例提供一种陶瓷双层裂纹釉，包括内釉层和外釉层，所述内釉层原料包括以下重量份的组分：石英27份、高岭土14份、镁橄榄石13份、锆石12份、钛酸钡13份、硅酸钠11份、硅酸钙11份、氧化硅11份、滑石9份、氧化铝8份、氧化锌8份、氮化硅7份、硼钠钙石3份、锂辉石3份；所述外釉层原料包括以下重量份的组分：石英27份、钠长石28份、硅酸钠20份、高岭土9份、硅酸钙13份、氧化硅8份、氧化铝7份、滑石9份、硅酸钙9份、锆石5份、石膏4份、硼砂1.3份、致色剂氧化铁6份、氧化锰6份。
本实施例还提供一种制作陶瓷双层裂纹釉的工艺，包括以下步骤：
步骤1、按照所述重量份分别称取原料，备用；
步骤2、采用如下方法分别得到内、外釉层釉水：将原料混合后加入占其总重量1.7倍的水，之后升温至60℃，在0.01MPa的真空度下先以830r/min的速率搅拌25分钟，再以80r/min的速率搅拌60分钟，之后调节其含水量得到内、外层釉水，其中，调节内层釉水的含水量为55～56％，调节外层釉水的含水量为62～64％；
步骤3：采用内层釉水对定型得到的陶瓷坯体进行一次上釉，晾干后采用外层釉水进行二次上釉，其中，一次上釉的厚度为0.7±0.05mm，二次上釉的厚度为0.8±0.05mm，二次上釉后，将上釉后的坯体在170℃的条件下保温烧制45分钟，保温结束后淬火得到淬火纹陶瓷，之后将淬火纹陶瓷在1280℃的条件下烧制7小时，降温后得到裂纹釉陶瓷，其表面裂纹状釉层即为陶瓷双层裂纹釉。
实施例5
本实施例提供一种陶瓷双层裂纹釉，包括内釉层和外釉层，所述内釉层原料包括以下重量份的组分：石英30份、高岭土15份、镁橄榄石15份、锆石12份、钛酸钡15份、硅酸钠12份、硅酸钙12份、氧化硅12份、滑石10份、氧化铝8份、氧化锌8份、氮化硅8份、硼钠钙石3份、锂辉石3份；所述外釉层原料包括以下重量份的组分：石英30份、钠长石30份、硅酸钠20份、高岭土10份、硅酸钙15份、氧化硅10份、氧化铝8份、滑石10份、硅酸钙10份、锆石5份、石膏5份、硼砂1.5份，致色剂氧化镉6份、碲化镉9份。
本实施例还提供一种制作陶瓷双层裂纹釉的工艺，包括以下步骤：
步骤1、按照所述重量份分别称取原料，备用；
步骤2、采用如下方法分别得到内、外釉层釉水：将原料混合后加入占其总重量2倍的水，之后升温至60℃，在0.05MPa的真空度下先以820r/min的速率搅拌20分钟，再以80r/min的速率搅拌80分钟，之后调节其含水量得到内、外层釉水，其中，调节内层釉水的含水量为57～58％，调节外层釉水的含水量为64～65％；
步骤3：采用内层釉水对定型得到的陶瓷坯体进行一次上釉，晾干后采用外层釉水进行二次上釉，其中，一次上釉的厚度为0.8±0.05mm，二次上釉的厚度为1.1±0.05mm，二次上釉后，将上釉后的坯体在1565℃的条件下保温烧制40分钟，保温结束后淬火得到淬火纹陶瓷，之后将淬火纹陶瓷在1280℃的条件下烧制5小时，降温后得到裂纹釉陶瓷，其表面裂纹状釉层即为陶瓷双层裂纹釉。
上述实施例1至5中采用的原料如下表1所示：
表1实施例1至5中采用的原料
对上述实施例1至5制得的具有双层裂纹釉的陶瓷制品进行耐磨性与吸水率测试，其测试过程如下：
耐磨性测试：采用耐磨性测试机对陶瓷制品的碎片进行耐磨性测试，取5片陶瓷制品碎片，在碎片上放置一定颗粒级配的研磨钢球、80号白刚玉和定量的去离子水或蒸馏水，按照规定的旋转速率进行旋转研磨，对已磨损的陶瓷碎片与未磨损的陶瓷碎片进行观察对比，通过陶瓷制品碎片上开始出现磨损的研磨转数来评价其耐磨性，将5片陶瓷制品碎片的耐磨性测试结果求平均值即得陶瓷制品的耐磨性测试结果。
吸水率测试：取5片陶瓷制品碎片，洗净后烘干，分别称其重量，之后将陶瓷制品碎片分隔后置于蒸馏水中，煮沸3小时，期间水面保持高于陶瓷制品碎片10mm以上，之后将陶瓷制品碎片捞出，用已吸水饱和的布揩去陶瓷制品碎片表面附着的水，迅速分别称量其重量，之后通过通过公式计算出各陶瓷制品碎片的吸水率，计算5片陶瓷制品碎片的平均吸水率即得陶瓷制品的吸水率，其吸水率越低，陶瓷制品的抗水性越好。
上述实施例1至5制得的具有双层裂纹釉的陶瓷制品与作为对照例的市面上普通陶瓷制品的耐磨性与吸水率测试结果如下表2所示，
表2测试数据
其中，陶瓷耐磨级别标准为1至5级，5级最好1级最差，其判断标准如下表3所示：
表3陶瓷耐磨级别标准
上述实施例1至5中提供的陶瓷双层裂纹釉，采用其制作而成的陶瓷制品具有匀称均布的裂纹纹路，光滑细腻的手感，还具有可与普通陶瓷相当的耐磨性与抗水性，其中，以实施例3中制得的具有双层裂纹釉的陶瓷制品，其耐磨性与抗水性能最佳，为最佳实施例。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种陶瓷双层裂纹釉，包括内釉层和外釉层，其特征在于，所述内釉层原料包括以下重量份的组分：石英20～30份、高岭土10～15份、镁橄榄石10～15份、锆石7～12份、钛酸钡7～15份、硅酸钠7～12份、硅酸钙7～12份、氧化硅7～12份、滑石6～10份、氧化铝5～8份、氧化锌5～8份、氮化硅4～8份、硼钠钙石1～3份、锂辉石1～3份；所述外釉层原料包括以下重量份的组分：石英20～30份、钠长石23～30份、硅酸钠15～20份、高岭土7～10份、硅酸钙10～15份、氧化硅6～10份、氧化铝5～8份、滑石6～10份、硅酸钙6～10份、锆石3～5份、石膏3～5份、硼砂1～1.5份。
2.根据权利要求1所述的陶瓷双层裂纹釉，其特征在于，所述内釉层原料包括以下重量份的组分：石英25份、高岭土12份、镁橄榄石13份、锆石10份、钛酸钡11份、硅酸钠10份、硅酸钙10份、氧化硅9份、滑石8份、氧化铝6份、氧化锌7份、氮化硅6份、硼钠钙石2份、锂辉石2份；所述外釉层原料包括以下重量份的组分：石英25份、钠长石27份、硅酸钠17份、高岭土8份、硅酸钙12份、氧化硅8份、氧化铝6份、滑石8份、硅酸钙8份、锆石4份、石膏4份、硼砂1.2份。
3.根据权利要求1或2所述的裂纹陶瓷釉，其特征在于，所述内釉层原料还包括3～15份的致色剂。
4.根据权利要求3所述的陶瓷双层裂纹釉，其特征在于，所述致色剂为氧化铁、氧化猛、氧化铜、氧化钴、氧化镍、氧化镉、硫化镉、碲化镉中的至少一种。
5.一种制作权利要求1至4所述陶瓷双层裂纹釉的工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、按照所述重量份分别称取原料，备用；
步骤2、采用如下方法分别得到内、外釉层釉水：将原料混合后加入占其总重量1.5～2倍的水，之后升温至50～60℃，在0.01～0.1MPa的真空度下先以800～850r/min的速率搅拌20～30分钟，再以80～120r/min的速率搅拌40～80分钟，之后调节其含水量为55～65%，得到内、外层釉水；
步骤3：采用内层釉水对定型得到的陶瓷坯体进行一次上釉，晾干后采用外层釉水进行二次上釉，其中，一次上釉的厚度为0.5～1mm，二次上釉的厚度为0.7～1.2mm，二次上釉后，将上釉后的坯体在150～180℃的条件下保温烧制30～50分钟，保温结束后淬火得到淬火纹陶瓷，之后将淬火纹陶瓷在1250～1300℃的条件下烧制3～8小时，降温后得到裂纹陶瓷，其表面裂纹状釉层即为陶瓷双层裂纹釉。
6.根据权利要求5所述的制作陶瓷双层裂纹釉的工艺，其特征在于，所述步骤2中，调节内层釉水的含水量为55～58%。
7.根据权利要求5或6所述的制作陶瓷双层裂纹釉的工艺，其特征在于，所述步骤2中，调节外层釉水的含水量为62～65%。
8.根据权利要求5所述的制作陶瓷双层裂纹釉的工艺，其特征在于，所述步骤3中一次上釉的厚度为0.7±0.05mm。
9.根据权利要求5或8所述的制作陶瓷双层裂纹釉的工艺，其特征在于，所述步骤3中二次上釉的厚度为1±0.05mm。
10.根据权利要求5所述的制作陶瓷双层裂纹釉的工艺，其特征在于，所述步骤3中淬火步骤具体操作为：在150～180℃的条件下保温烧制结束后，将保温烧制得到的陶瓷在10秒内快速浸入常温清水中，保持5～8秒后取出即得到淬火纹陶瓷，其中，淬火过程中水面高出陶瓷高度为30mm以上。
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Application publication date: 20180112 Assignee: Fujian Yongchun Xinhuarui Technology Co.,Ltd. Assignor: FUJIAN DEHUA XINQILI TECHNOLOGY CO.,LTD. Contract record no.: X2023980051216 Denomination of invention: A ceramic double-layer crack glaze and its manufacturing process Granted publication date: 20200807 License type: Common License Record date: 20240131 |
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