CN107563202B - 基于电容反馈跨阻放大器芯片顶层防护层完整性检测装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及芯片抗聚焦离子束攻击领域,为提出一种顶层金属防护层完整性检测方法,判断攻击者是否利用FIB对防护层进行修改。本发明,基于电容反馈跨阻放大器芯片顶层防护层完整性检测装置,由电容C、运放AMP、开关S以及防护层走线AB构成,防护层走线AB的B端接输入电压VIN,A端接运放AMP的负向输入端,电容C的一端接运放AMP的负向输入端,另一端接运放AMP的输出端VOUT,开关S与电容C并联,运放AMP的正向输入端接参考电压VREF,开关S由周期为T的时钟信号CLK控制,当时钟CLK处于高电平时,开关闭合;当CLK处于低电平时,开关打开。本发明主要应用于芯片抗聚焦离子束攻击检测场合。
Description
技术领域
本发明涉及芯片抗聚焦离子束攻击领域,尤其涉及一种采用电容反馈跨阻放大器作为检测结构的芯片顶层金属防护层完整性检测方法。具体讲,涉及基于电容反馈跨阻放大器芯片顶层防护层完整性检测方法。
背景技术
聚焦离子束(Focused Ion beam,FIB)攻击通过切断原有走线、生成新的走线、生成芯片内部测试节点等方式修改芯片,使得攻击者能够轻易获取芯片内部信息、屏蔽芯片安全模块,对芯片的信息安全构成了严重的威胁。
针对聚焦离子束攻击,目前主要采用顶层金属防护层作为攻击检测结构。如图1所示,顶层金属防护层采用顶层金属走线,遮蔽防护层下方器件及连线,同时,采用一些检测结构,检测金属走线的某些物理特征,或者在金属走线中通入某些检测信号,以此来确定金属走线是否完整。当金属走线发生变化时,即可知道攻击者通过FIB对金属线进行了修改。
金属走线一般较长,用于检测的物理特征一般为其电阻量与延时量。电阻量检测结构易于实现,故采用较多。整个金属走线电阻与其长度成正比。当FIB采用断路攻击时,金属走线被切断,电阻值变为无穷。当FIB对金属线进行短路攻击时,长金属线的中间某处被短接,电阻值减小。因此,可以通过检测金属走线电阻值是否变化来检测走线是否完整,即是否受到FIB攻击。
发明内容
为克服现有技术的不足,本发明旨在提出一种基于电容反馈跨阻放大器(CapacitiveTrans-impedance Amplifier,CTIA)的顶层金属防护层完整性检测方法,该方法通过检测金属走线电阻值是否改变来检测防护层是否完整,进而判断攻击者是否利用FIB对防护层进行修改。本发明采用的技术方案是,基于电容反馈跨阻放大器芯片顶层防护层完整性检测装置,由电容C、运放AMP、开关S以及防护层走线AB构成,防护层走线AB的B端接输入电压VIN,A端接运放AMP的负向输入端,电容C的一端接运放AMP的负向输入端,另一端接运放AMP的输出端VOUT,开关S与电容C并联,运放AMP的正向输入端接参考电压VREF,开关S由周期为T的时钟信号CLK控制,当时钟CLK处于高电平时,开关闭合,CTIA处于复位状态,VOUT=VREF,当CLK处于低电平时,开关打开,CTIA处于积分状态,输出VOUT与输入有关。
积分结束时刻,输出表达式(1)为:
对于固定的输入电压VIN、参考电压VREF、电容值C以及时钟周期T,当防护层走线确定后,即RAB确定,积分过程中,VOUT将由VREF降至某一固定值VC,若攻击者通过FIB修改走线,会使得等效电阻RAB发生改变,从而使得VOUT改变,因此,一旦识别出积分结束时刻,VOUT相比设计值发生了变化,即可判断受到了FIB攻击;
积分结束时刻,一旦检测到跨阻放大器输出VOUT保持VREF不变,则证明受到FIB断路攻击;一旦跨阻放大器输出VOUT小于固定值VC,则证明受到FIB短路攻击。
在带隙基准输出级电阻R3的上方,再串接一个电阻R2,用以产生VIN,设流过输出级的电流为I,且I为恒定值,则VREF=I*R3,VIN=I*(R2+R3),故VIN-VREF=I*R2,将上式代入式(1)可得式(2):
本发明的特点及有益效果是:
本发明提出的基于电容反馈跨阻放大器的顶层金属防护层完整性检测方法,可以适用于任意图形拓扑结构的顶层金属防护层,并且无需对防护层进行修改。该完整性检测方法检测精度高,可以实现大面积防护层的完整性检测。
附图说明:
图1顶层金属防护层示意图。
图2螺旋形拓扑结构布线图。
图3基于电容反馈跨阻放大器的完整性检测结构示意图。
图4完整性检测结构抽象示意图。
图5经典带隙基准及改进结构示意图。
具体实施方式
本发明提出一种基于电容反馈跨阻放大器(Capacitive Trans-impedanceAmplifier,CTIA)的顶层金属防护层完整性检测方法,该检测方法适用于任意图形拓扑结构的顶层金属防护层,本发明将以螺旋形拓扑结构为例,对该完整性检测方法进行阐述。螺旋形拓扑结构可被替换为任意其他结构。
如图2所示,为螺旋形拓扑结构的顶层金属防护层布线图。该防护层由金属线AB构成。金属线AB由顶层金属构成,A与B分别为其两个端口。金属线AB的总阻值由其方块电阻R、金属线宽度W、金属线总长度L决定,总阻值大小RAB=RL/W。一旦金属线AB从中间某处被短路,则总阻值RAB将减小。一旦金属线AB从中间某处切断,则RAB将趋近于无穷。
如图3所示,为本发明提出的完整性检测结构示意图。该完整性检测结构主要由电容C、运放AMP、开关S以及防护层走线AB构成。防护层走线AB的B端接输入电压VIN,A端接运放AMP的负向输入端。电容C的一端接运放AMP的负向输入端,另一端接运放AMP的输出端VOUT。开关S与电容C并联。运放AMP的正向输入端接参考电压VREF。开关S由周期为T的时钟信号CLK控制,当时钟CLK处于高电平时,开关闭合,CTIA处于复位状态,VOUT=VREF。当CLK处于低电平时,开关打开,CTIA处于积分状态,输出VOUT与输入有关。
由于防护层走线AB可以抽象为阻值RAB的电阻,因此该完整性检测结构又可以抽象为图4所示的结构。该结构可看成是一个电容反馈跨阻放大器(CTIA)。CTIA由电容C、运放AMP、开关S以及等效电阻RAB构成。
对抽象的完整性检测结构进行分析,可以得出积分结束时刻,其输出表达式(1)为:
对于固定的输入电压VIN、参考电压VREF、电容值C以及时钟周期T,当防护层走线确定后,即RAB确定,积分过程中,VOUT将由VREF降至某一固定值VC。若攻击者通过FIB修改走线,会使得等效电阻RAB发生改变,从而使得VOUT改变。因此,一旦识别出积分结束时刻,VOUT相比设计值发生了变化,即可判断受到了FIB攻击。
若攻击者通过FIB使得金属线AB断开,则会使得RAB趋近于无穷,即CTIA输出VOUT会保持VREF不变。若攻击者通过FIB使得金属线AB中的某处短路,则使得总阻值RAB减小,积分过程中,VOUT将由VREF降至低于固定值VC的某个值。因此,积分结束时刻,一旦检测到跨阻放大器输出VOUT保持VREF不变,则证明受到FIB断路攻击;一旦跨阻放大器输出VOUT小于固定值VC,则证明受到FIB短路攻击。
输入电压VIN和参考电压VREF可由带隙基准电压源提供。如图5(a)所示,为经典的电流模带隙基准电压源。由于本发明仅借助该结构产生VIN和VREF,该结构不为本发明的重点,故此处并不对其进行详细说明。本发明所用的带隙基准结构,需对该经典结构进行改进,如图5(b)所示。在带隙基准输出级电阻R3的上方,再串接一个电阻R2,用以产生VIN。设流过输出级的电流为I,且I为恒定值,则VREF=I*R3,VIN=I*(R2+R3),故VIN-VREF=I*R2,将上式代入式(1)可得式(2):
由式(2)可知,积分结束时刻的VOUT与电阻R2和等效阻值RAB的比值有关。金属走线AB的电阻与温度相关,即等效阻值RAB是与温度有关的量。因此,温度改变会影响VOUT输出,从而造成误差。采用图5(b)方式提供VIN和VREF,可以通过选取适当的电阻R2,使得其温度系数与金属走线AB温度系数接近,从而可以近似抵消温度对电阻的影响,增加检测精度。
使用时,依据图3所示连接防护层与检测结构,并依据图5(b)所示,选择合适的R2,提供输入电压VIN和参考电压VREF,即可实现防护层完整性检测。本发明的保护范围并不以上述实施方式为限,本领域普通技术人员根据本发明所揭示内容所作的等效修饰或变化,皆应纳入保护范围。
Claims (2)
1.一种基于电容反馈跨阻放大器芯片顶层防护层完整性检测装置,其特征是,由电容C、运放AMP、开关S以及防护层走线AB构成,防护层走线AB的B端接输入电压VIN,A端接运放AMP的负向输入端,电容C的一端接运放AMP的负向输入端,另一端接运放AMP的输出端VOUT,开关S与电容C并联,运放AMP的正向输入端接参考电压VREF,开关S由周期为T的时钟信号CLK控制,当时钟CLK处于高电平时,开关闭合,CTIA处于复位状态,VOUT=VREF,当CLK处于低电平时,开关打开,CTIA处于积分状态,输出VOUT与输入有关,其中,积分结束时刻,输出表达式(1)为:
对于固定的输入电压VIN、参考电压VREF、电容值C以及时钟周期T,当防护层走线确定后,即RAB确定,积分过程中,VOUT将由VREF降至某一固定值VC,若攻击者通过FIB修改走线,会使得等效电阻RAB发生改变,从而使得VOUT改变,因此,一旦识别出积分结束时刻,VOUT相比设计值发生了变化,即可判断受到了FIB攻击;
积分结束时刻,一旦检测到跨阻放大器输出VOUT保持VREF不变,则证明受到FIB断路攻击;一旦跨阻放大器输出VOUT小于固定值VC,则证明受到FIB短路攻击。
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