CN1075111A - 打磨抛光的砂轮组合物 - Google Patents
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Abstract
本发明属于机械制造中磨具制造领域,它是一种
打磨抛光的砂轮组合物,其特征是:生橡胶100份(以
重量计算)、硫黄5—6份、硫化促进剂M1.5—2份、
硫化促进剂D1—1.5份、硫化促进剂CE1.5—2份、
氧化锌8—10份、防老剂D1—1.5份、苯甲酸0.5—
0.6份、白炭黑30—33份、甘油1—1.5份、古马隆树
脂5—6份、磨料850—880份。用这种组合物做成
的砂轮,硬度比较均匀、重量轻、使用寿命长、不损伤
工作表面,能获得较小的表面粗糙度。
Description
本发明是一种用于打磨抛光的砂轮组合物,属于机械制造中磨具制造领域。
砂轮在工矿企业的生产、作业中,应用非常广泛,它控制简单、安装使用方便,是一种理想的生产工具。已公知的硬质砂轮,只能用于对金属和其它材料的切削,而在磨削量很小的情况下,对机件、模具进行抛光时,由于砂轮的刚性大,容易损伤零件表面,降低零件的表面质量。申请号为88205608.5的中国专利申请文件公开了名为“软研磨头”的基本构思是,在软质薄片上粘结着硬质的颗粒,将多个粘结着硬质颗粒的薄片的一端绕某一钢质轴粘合在一起,当钢质轴以一定速度运转时,带动具有硬质颗粒的薄片作回转运动,在与工件接触时就可清除金属表面的锈或磨光工件的表面。但这种“软研磨头”使用寿命短,使用过程中难以控制其磨削量。
1983年10月郑州机械专科学校编的“有机磨具制造”(下册)一书中公开了“滚压导轮的配方”是:1)结合剂:天然橡胶100份、硫黄40份、硫化促进剂M0.3份、硫化促进剂D0.4份、黑油膏30份、碳酸镁(MgCO3)5份。2)磨料。
磨料:结合剂(按重量计算)=82∶18
但这种砂轮硬度不均匀、质量也不稳定,使用起来效果不理想。
本发明的目的是提供一种用于打磨抛光用的砂轮组合物,这种组合物做成的砂轮硬度均匀、外形尺寸小、重量轻、使用寿命长、可对平面和凹凸型表面进行打磨抛光,可供不同材质、外形及内腔的工件使用。
本发明的砂轮组合物是这样实现的:它的各组份(以重量计算)为:生橡胶 100份
硫黄 5-6份
硫化促进剂M 1.5-2份
硫化促进剂D 1-1.5份
硫化促进剂CE 1.5-2份
氧化锌 8-10份
防老剂D 1-1.5份
苯甲酸 0.5-0.6份
白碳黑 30-33份
甘油 1-1.5份
古马隆树脂 5-6份
磨料 850-880份
以上所述的硫黄、硫化促进剂M、硫化促进剂D、硫化促进剂CE、氧化锌、防老剂D、苯甲酸、白碳黑和古马隆树脂均是粉料,磨料可以选用金刚石、立方氮化硼、SiO2、Al2O3、Cr2O3、SlC、TlC、WC、VC、BC、Si3N4中的一种,其粒度大小可参照GB2477-83的标准,在180#-W20的范围内,可根据需要做成系列产品。
用这种组合物做成的砂轮硬度比较均匀,质量比较好,砂轮转动时比较平稳,砂轮有一定的柔性,不损伤工作表面,使工件表面质量高,能获得较小的表面粗糙度。这种砂轮特点适宜加工钟表表面的太阳纹。
下面结合实施例加以详细描述:
实施例:
生橡胶 100份(以重量计算)
硫黄 6份
硫化促进剂M 2份
硫化促进剂D 1份
硫化促进剂CE 1.5份
氧化锌 8份
防老剂D 1份
苯甲酸 0.5份
白碳黑 30份
甘油 1份
古马隆树脂 5份
金刚石 854份
把硫黄、硫化促进剂M、硫化促进剂D、硫化促进剂CE、氧化锌、防老剂D、苯甲酸、白碳黑、甘油、古马隆树脂和金刚石混和加入搅拌机,搅拌4小时,然后均匀加入生橡胶中并通过炼胶机滚压8小时,然后分段剪断,放在温度约为250℃的模具中成型。
Claims (2)
1、一种打磨抛光的砂轮组合物,其特征在于各组份(以重量计算)为:生橡胶100份、硫黄5-6份、硫化促进剂M1.5-2份、硫化促进剂D1-1.5份、硫化促进剂CE1.5-2份、氧化锌8-10份、防老剂D1-1.5份、苯甲酸0.5-0.6份、白碳黑30-33份、甘油1-1.5份、古马隆树脂5-6份、磨料850-880份。
2、根据权利要求1所述的砂轮组合物,其特征在于:硫黄、硫化促进剂M、硫化促进剂D、硫化促进剂CE、氧化锌、防老剂D、苯甲酸、白碳黑和古马隆树脂均是粉料,磨料选用金刚石、立方氮化硼、SiO2、Al2O3、Cr2O3、SiC、TiC、WC、VC、BC、Si3N4中的一种,磨料的粒度在180#-W20的范围内。
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---|---|---|---|
CN 92100825 CN1075111A (zh) | 1992-02-01 | 1992-02-01 | 打磨抛光的砂轮组合物 |
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CN1075111A true CN1075111A (zh) | 1993-08-11 |
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- 1992-02-01 CN CN 92100825 patent/CN1075111A/zh active Pending
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PB01 | Publication | ||
C01 | Deemed withdrawal of patent application (patent law 1993) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |