CN107479286B - 一种改善灰阶斜纹的过孔结构 - Google Patents

一种改善灰阶斜纹的过孔结构 Download PDF

Info

Publication number
CN107479286B
CN107479286B CN201710785784.7A CN201710785784A CN107479286B CN 107479286 B CN107479286 B CN 107479286B CN 201710785784 A CN201710785784 A CN 201710785784A CN 107479286 B CN107479286 B CN 107479286B
Authority
CN
China
Prior art keywords
hole
annular
gray scale
twill
via hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710785784.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107479286A (zh
Inventor
宋乔乔
姚晓慧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201710785784.7A priority Critical patent/CN107479286B/zh
Publication of CN107479286A publication Critical patent/CN107479286A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107479286B publication Critical patent/CN107479286B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222—Colour filters incorporated in the active matrix substrate

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本发明公开了一种改善灰阶斜纹的过孔结构，包括色阻层、阵列基板，所述色阻层覆于所述阵列基板上，所述色阻层设有过孔，该过孔的孔壁与所述色组层上表面之间为平滑过渡的弧形面；其中，所述过孔对应所述阵列基板中PV层的蚀刻区。

Description

一种改善灰阶斜纹的过孔结构
技术领域
本发明涉及显示器等领域，具体为一种改善灰阶斜纹的过孔结构。
背景技术
LCD显示原理：背光源发出白光，通过阵列基板的偏光片后，由于液晶旋转角度的不同，造成光偏振态的改变，通过CF上的偏光片后，造成不同Pixel亮度的不同。而全彩显示器则是在阵列基板的CF基板上面加了一层色阻(Color Filter)，使得不同Pixel RGB三基色的混光强度不同，以实现彩色显示。
对于非COA产品，Pixel电极之间，通过Via Hole蚀刻PV层，实现信号之间的连通。
为了增大开口率以及降低Pixel寄生电容等的影响，目前COA(Color Filter on阵列)技术被广泛采用。
对于COA产品，由于Color Filter直接覆盖在阵列基板上，Color Filter较厚，通常会有几个微米的厚度。Pixel电极信号之间连通，除了需要蚀刻掉PV层，还必须把几微米厚的色阻挖空。在蚀刻区域的过孔处，色阻被挖孔，由于色阻厚度差异大，挖孔的地形会有一个很陡峭的台阶。对于VA显示来说，需要滴入PI液对液晶进行配相。现有的方法是：在过孔设计时会直接挖成一个正方形的孔，曝光蚀刻之后，就会形成比较陡峭的台阶。PI液滴入时，容易在过孔处堆积，引起配相不良，造成灰阶斜纹的显示器亮度不均匀,造成各种痕迹的现象(Mura)。
发明内容
本发明的目的是：提供一种改善灰阶斜纹的过孔结构，通过重新设计的过孔，防止PI液堆积在过孔处而产生的灰阶斜纹等不良现象。
实现上述目的的技术方案是：一种改善灰阶斜纹的过孔结构，包括色阻层、阵列基板，所述色阻层覆于所述阵列基板上，所述色阻层设有过孔，其特征在于，该过孔的孔壁与所述色组层上表面之间为平滑过渡的弧形面；其中，所述过孔对应所述阵列基板中PV层的蚀刻区。
在本发明一较佳实施例中，所述过孔包括多层环形孔，该环形孔的孔心同心。
在本发明一较佳实施例中，所述环形孔的水平截面的形状为圆环形。
在本发明一较佳实施例中，所述环形孔包括第一环形孔、第二环形孔，所述第一环形孔的内壁面与第二环形孔的外壁面之间的面为向上凸起的弧形面。
在本发明一较佳实施例中，所述环形孔的外径由上至下逐渐减小，内径由上至下逐渐增大。
在本发明一较佳实施例中，最内层的所述环形孔的内直径范围为6um～10um。
在本发明一较佳实施例中，最内层的所述环形孔的外直径范围为10um～12um。
本发明的优点是：本发明的改善灰阶斜纹的过孔结构，通过色阻层上过孔的平缓设计，使得PI液顺利的全部通过该过孔，而不在过孔附近积液，有效的改善了灰阶斜纹的Mura现象，可以用于TFT-LCD显示装置上，形成一种新的面板像素及驱动设计方法，结构简单，成本低。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明作进一步解释。
图1是本发明实施例的带有过孔的色阻层的俯视图。
图2是本发明实施例的过孔的竖直方向部分剖面示意图。
图3至图5是本发明实施例的PI液落于过孔的动态示意图。
其中，
1色阻层； 2阵列基板；
3过孔； 31未曝光区；
32曝光区； 33第一环形孔；
34第二环形孔。
具体实施方式
以下实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「顶」、「底」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。
实施例，如图1、图2所示，一种改善灰阶斜纹的过孔结构，包括色阻层1、阵列基板2，所述色阻层1覆于所述阵列基板2上，所述色阻层1设有过孔3，该过孔3的孔壁与所述色组层上表面之间为平滑过渡的弧形面。所述过孔3对应所述阵列基板2中PV层的蚀刻区。
本实施例中，所述过孔3包括两层环形孔，该环形孔的孔心同心。本实施例中，环形孔的环形孔的水平截面的形状为圆环形。环形孔的外径由上至下逐渐减小，内径由上至下逐渐增大。这样设计就满足了色组层上表面之间为平滑过渡的弧形面。使得色阻曝光区32和未曝光区31之间就能够形成平缓的台阶，PI液会顺利流下去，不在过孔3处堆积，液晶配相正常，画面正常显示，如图3至图5所示。
本实施例中，设有两层环形孔，该环形孔包括第一环形孔33、第二环形孔，第一环形孔33在最内层，第二环形孔34在最外层。所述第一环形孔33的内壁面与第二环形孔34的外壁面之间的面为向上凸起的弧形面。
最内层的所述环形孔的内直径范围为不少于6um，可设定范围在6um～10um。即最内层的所述环形孔的中心为未曝光区31，该区为实心的，实心区的直径范围在6um～10um，这种设计是为了考虑蚀刻精度和光的衍射影响，为了有效的保证该过孔3有效，即能够使Pixel电极信号之间能够有效连通。
以上仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种改善灰阶斜纹的过孔结构，包括色阻层、阵列基板，所述色阻层覆于所述阵列基板上，所述色阻层设有过孔，其特征在于，该过孔的孔壁与所述色阻 层上表面之间为平滑过渡的弧形面；其中，所述过孔对应所述阵列基板中PV层的蚀刻区；所述过孔包括多层环形孔，该环形孔的孔心同心；所述环形孔包括第一环形孔、第二环形孔，所述第一环形孔的内壁面与第二环形孔的外壁面之间的面为向上凸起的弧形面。
2.根据权利要求1所述的改善灰阶斜纹的过孔结构，其特征在于，所述环形孔的水平截面的形状为圆环形。
3.根据权利要求2所述的改善灰阶斜纹的过孔结构，其特征在于，所述环形孔的外径由上至下逐渐减小，内径由上至下逐渐增大。
4.根据权利要求3所述的改善灰阶斜纹的过孔结构，其特征在于，最内层的所述环形孔的内直径范围为6um～10um。
5.根据权利要求2所述的改善灰阶斜纹的过孔结构，其特征在于，最内层的所述环形孔的外直径范围为10um～12um。
CN201710785784.7A 2017-09-04 2017-09-04 一种改善灰阶斜纹的过孔结构 Active CN107479286B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710785784.7A CN107479286B (zh) 2017-09-04 2017-09-04 一种改善灰阶斜纹的过孔结构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710785784.7A CN107479286B (zh) 2017-09-04 2017-09-04 一种改善灰阶斜纹的过孔结构

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107479286A CN107479286A (zh) 2017-12-15
CN107479286B true CN107479286B (zh) 2020-08-04

Family

ID=60603652

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710785784.7A Active CN107479286B (zh) 2017-09-04 2017-09-04 一种改善灰阶斜纹的过孔结构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107479286B (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10578784B2 (en) 2017-09-04 2020-03-03 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Color-filter on array (COA) display panel, manufacturing method thereof and COA display device
CN107589582A (zh) * 2017-09-04 2018-01-16 深圳市华星光电技术有限公司 Coa显示面板及其制作方法、coa显示装置
US11099481B2 (en) 2018-03-09 2021-08-24 Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Mask plate, array substrate, and preparation method thereof
CN108508695B (zh) * 2018-03-09 2020-10-02 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板、阵列基板、显示器及阵列基板的制备方法
CN111627339B (zh) * 2020-06-29 2022-01-11 武汉天马微电子有限公司 显示面板及显示装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1971390A (zh) * 2005-11-23 2007-05-30 京东方科技集团股份有限公司 一种tft lcd像素结构
CN106773554A (zh) * 2017-03-13 2017-05-31 武汉华星光电技术有限公司 光罩结构及coa型阵列基板

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3267271B2 (ja) * 1998-12-10 2002-03-18 日本電気株式会社 液晶表示装置およびその製造法
JP3517640B2 (ja) * 2000-09-28 2004-04-12 キヤノン株式会社 マイクロ構造体アレイ用金型、マイクロ構造体アレイ、及びその作製方法
KR101442147B1 (ko) * 2008-01-30 2014-11-03 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
JP2015114374A (ja) * 2013-12-09 2015-06-22 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
CN105206626B (zh) * 2015-11-09 2018-11-20 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板及其制备方法、显示装置
CN106444190B (zh) * 2016-10-31 2020-05-19 深圳市华星光电技术有限公司 一种coa基板及其制造方法、液晶面板

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1971390A (zh) * 2005-11-23 2007-05-30 京东方科技集团股份有限公司 一种tft lcd像素结构
CN106773554A (zh) * 2017-03-13 2017-05-31 武汉华星光电技术有限公司 光罩结构及coa型阵列基板

Also Published As

Publication number Publication date
CN107479286A (zh) 2017-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107479286B (zh) 一种改善灰阶斜纹的过孔结构
US8154568B2 (en) Color filter
JP6568338B2 (ja) 表示基板、それを製造するためのマスク、及び表示基板の製造方法
US10437110B2 (en) Color filter substrate and display panel
CN112002748B (zh) 显示面板及显示装置
WO2019232909A1 (zh) 显示面板
US20120112988A1 (en) Display device
JP4974152B2 (ja) 液晶表示パネル
CN104460118A (zh) 显示基板、制作方法和显示装置
US20170363922A1 (en) Liquid crystal display panel, the manufacturing method thereof and a display apparatus
KR20170013354A (ko) 타일화된 디스플레이 패널들 사이의 기계적 분리의 마스킹
JP2015215597A (ja) 表示パネル
US20230350456A1 (en) Display panel and manufacturing method therefor, and display device
JP2020520041A (ja) 表示基板、表示装置及び表示基板の製造方法
US11374061B2 (en) OLED display panel and intelligent terminal
US20230087559A1 (en) Display panel
CN102540560A (zh) 显示基板及其制造方法和具有其的显示面板
WO2016110034A1 (zh) 多视场显示部件、图案化遮蔽层和多视场显示装置
US20220011482A1 (en) Filter unit, color film structure, display panel, and display device
CN109920820B (zh) 彩色滤光片的制造方法
US11231610B2 (en) Display panel and display apparatus
US20240040899A1 (en) Display panel
US9664944B2 (en) Liquid crystal display device and method of fabricating the same
KR101291797B1 (ko) 유기전계발광표시장치 및 그 제조 방법
CN114023904A (zh) 显示面板

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province

Patentee after: TCL Huaxing Photoelectric Technology Co.,Ltd.

Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province

Patentee before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder