CN107475675A - 蒸镀机 - Google Patents

蒸镀机 Download PDF

Info

Publication number
CN107475675A
CN107475675A CN201710812416.7A CN201710812416A CN107475675A CN 107475675 A CN107475675 A CN 107475675A CN 201710812416 A CN201710812416 A CN 201710812416A CN 107475675 A CN107475675 A CN 107475675A
Authority
CN
China
Prior art keywords
evaporation
glass substrate
bracket
screw mandrel
metal mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710812416.7A
Other languages
English (en)
Inventor
蔡丰豪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd filed Critical Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority to CN201710812416.7A priority Critical patent/CN107475675A/zh
Publication of CN107475675A publication Critical patent/CN107475675A/zh
Priority to PCT/CN2018/072702 priority patent/WO2019047464A1/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders

Abstract

本发明提供一种蒸镀机，用于对玻璃基板的蒸镀，所述蒸镀机包括真空蒸镀腔、以及收容于所述真空蒸镀腔内的蒸镀源、金属掩膜板、移动部以及托架，所述托架装设于所述移动部上，所述金属掩膜板被支撑于所述托架下方并位于所述蒸镀源上方可相对所述托架移动，所述玻璃基板吸附于所述托架朝向所述金属掩膜的表面并与所述金属掩膜板之间留有间隙，所述玻璃基板至少包括两个蒸镀区域，所述移动部带动所述托架移动，进而带动所述玻璃基板相对于所述金属掩膜板移动，以使所述玻璃基板的蒸镀区域与所述金属掩膜板的位置对应。本发明以分区域蒸镀的方式解决了玻璃基板蒸镀范围受限制的技术问题。

Description

蒸镀机
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种蒸镀机。
背景技术
目前，蒸镀制程作为一种制程方式主要使用在OLED(Organic Light-EmittingDiode，有机发光二极管)的有机层及电机层的制作，具有制作流程简单、制作精度高、膜的平坦度小的特点，但是目前蒸镀技术均是对一个基板进行蒸镀，蒸镀范围和质量有一定的局限性，例如很难制作比现有蒸镀产品尺寸大的产品。
发明内容
本发明提供一种蒸镀机，用以分区域蒸镀以解决蒸镀范围受限制的技术问题。
本发明提供一种蒸镀机，用于对玻璃基板的蒸镀，所述蒸镀机包括真空蒸镀腔、以及收容于所述真空蒸镀腔内的蒸镀源、金属掩膜板、移动部以及托架，所述托架装设于所述移动部上，所述金属掩膜板被支撑于所述托架下方并位于所述蒸镀源上方可相对所述托架移动，所述玻璃基板吸附于所述托架朝向所述金属掩膜的表面并与所述金属掩膜板之间留有间隙，所述玻璃基板至少包括两个蒸镀区域，所述移动部带动所述托架移动，进而带动所述玻璃基板相对于所述金属掩膜板移动，以使所述玻璃基板的所述蒸镀区域与所述金属掩膜板的位置对应。
其中，所述蒸镀机还包括被支撑于所述金属掩膜板下方的与所述蒸镀源正对的挡板，所述挡板用于控制所述蒸镀源的蒸镀范围。
其中，所述挡板包括第一板体、第二板体以及导轮，所述导轮与所述第一板体以及所述第二板体滑动连接，所述第一板体朝向所述蒸镀源的位置设置有通槽，所述第二板体用于盖合所述通槽或滑开所述通槽。
其中，所述托架包括两组相对设置的架框，其中一组所述架框的中部位置设置有一架臂，所述架框以及所述架臂吸附所述玻璃基板的表面设有真空孔，通过真空装置充气至所述真空孔以吸附所述玻璃基板。
其中，所述移动部包括第一丝杆、连接于所述第一丝杆的第一驱动件、与所述第一丝杆垂直设置的第二丝杆以及连接于所述第二丝杆的第二驱动件，所述托架与所述第一丝杆滑动连接，所述第一驱动件驱动所述第一丝杆以及所述托架移动，所述第一丝杆连接所述第二丝杆，所述第二驱动件驱动所述第二丝杆带动所述第一丝杆及所述托架移动。
其中，所述第一驱动件以及所述第二驱动件可以为气缸或者马达。
其中，所述蒸镀机还包括相对所述金属掩膜板设置的影像采集装置及支架，所述影像采集装置支撑于所述支架上，所述影像采集装置对所述玻璃基板的所述蒸镀区域与所述金属掩膜进行对位。
其中，所述蒸镀源包括加热器、坩埚以及蒸镀材料，所述坩埚的顶面设置有通孔，所述蒸镀材料装设于所述坩埚中并可通过所述通孔到达所述玻璃基板的所述蒸镀区域，所述加热器用于加热所述蒸镀材料。
其中，所述真空蒸镀腔具有一真空管，所述真空管用于抽走所述真空蒸镀腔内的空气。
其中，所述蒸镀机还包括控制装置，所述控制装置用于控制所述第一驱动件、所述第二驱动件以及所述影像采集装置的启动以及关闭。
综上所述，本发明的蒸镀机通过所述玻璃基板的步进式移动，可以实现对所述玻璃基板所有蒸镀区域的蒸镀，进而解决蒸镀区域受限制的技术问题，可以实现蒸镀比现有蒸镀产品尺寸大的产品。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明蒸镀机的结构示意图。
图2是图1中托架的结构示意图。
图3是图1中挡板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1，本发明提供一种蒸镀机，用于对玻璃基板1的蒸镀，所述蒸镀机包括真空蒸镀腔2以及收容于所述真空蒸镀腔2内的蒸镀源3、金属掩膜板4、移动部5以及托架6，所述托架6装设于所述移动部5上，所述金属掩膜板4被支撑于所述托架6下方并位于所述蒸镀源3上方并可相对所述托架6移动，所述玻璃基板1吸附于所述托架6朝向所述金属掩膜板4的表面并与所述金属掩膜板4之间留有间隙，所述玻璃基板1至少包括两个蒸镀区域，所述移动部5带动所述托架6移动，进而带动所述玻璃基板1相对于所述金属掩膜板4移动，以使所述玻璃基板1的蒸镀区域与所述金属掩膜板4的位置对应。
所述蒸镀源3包括加热器31、坩埚32以及蒸镀材料33，所述坩埚32的顶面设置有通孔321，所述蒸镀材料33装设于所述坩埚32中并可通过所述通孔321到达所述玻璃基板1的所述蒸镀区域。所述蒸镀材料33为小分子材料或者金属材料，用于在所述玻璃基板1上形成膜层；所述坩埚32由耐高温材料制作而成，用于所述蒸镀材料33的存放；所述加热器31用于将所述蒸镀材料33加热至蒸汽状态。
本实施例中，所述金属掩膜板4由金属材料制作而成，具有一个或至少2个镂空的图形，所述蒸汽状态的所述蒸镀材料可以通过所述通孔321并穿过所述金属掩膜板4的所述镂空的图形到达所述玻璃基板1的所述蒸镀区域，进而在所述玻璃基板1上形成有图形的膜层。
所述玻璃基板1具有至少两个蒸镀区域，所述蒸镀源3对每一所述蒸镀区域单独进行蒸镀，在完成一个区域的蒸镀后，所述移动部5带动所述托架6移动，使另一蒸镀区域与所述金属掩膜板4对应，所述蒸镀源3对所述另一蒸镀区域蒸镀，重复上述步骤，依次完成所有蒸镀区域的蒸镀。其有益效果为：通过所述移动部5带动所述托架6移动，可以实现对所述玻璃基板1的每一个蒸镀区域完成蒸镀，进而解决蒸镀区域受限制的技术问题，可以制作比现有蒸镀产品尺寸大的蒸镀产品。
本实施例中，所述移动部5包括第一丝杆51、连接于所述第一丝杆的第一驱动件52、与所述第一丝杆51垂直设置的第二丝杆53以及连接于所述第二丝杆53的第二驱动件54，所述托架6与所述第一丝杆51滑动连接，所述第一驱动件52驱动所述第一丝杆51以及所述托架6移动，所述第一丝杆51连接所述第二丝杆53，所述第二驱动件54驱动所述第二丝杆53带动所述第一丝杆51及所述托架6移动。具体为，在蒸镀所述玻璃基板1第一方向的蒸镀区域时，当完成所述玻璃基板1一个区域的蒸镀后，所述第一驱动件52驱动所述第一丝杆51及所述托架6移动，进而带动所述玻璃基板1到达所述第一方向的另一个蒸镀区域，完成所述另一个蒸镀区域的蒸镀；在第二方向对所述蒸镀区域进行蒸镀时，在完成所述玻璃基板1的一个区域蒸镀后，所述第二驱动件54驱动所述第二丝杆53带动所述第一丝杆51及所述托架6移动，进而带动所述玻璃基板1到达所述第二方向的另一个蒸镀区域，完成所述另一个蒸镀区域的蒸镀，重复上述步骤，从而完成所述玻璃基板1的所有蒸镀区域的蒸镀。所述第一方向为与所述第一丝杆51平行的方向，所述第二方向为与所述第一方向垂直的方向。
所述第一驱动件52以及所述第二驱动件54可以是气缸或者马达。
请参阅图2，所述托架6包括两组相对设置的架框61，其中一组所述架框61的中部位置设置有一架臂62，所述架框61以及所述架臂62吸附所述玻璃基板1的表面设有真空孔63，通过真空装置充气至所述真空孔63以吸附所述玻璃基板1。其有益效果在于：通过一组所述架框61中部位置设置的所述架臂62，可以进一步支撑和吸附所述玻璃基板1，减少由于所述金属掩膜板4或所述玻璃基板1变形的位置偏差，进而在制作比现有技术尺寸大的蒸镀产品时，可以避免所述蒸镀区域蒸镀不均匀的技术问题，可以解决蒸镀范围受限制的技术问题，实现蒸镀比现有技术尺寸大的蒸镀产品，且所述蒸镀产品的所有蒸镀区域蒸镀均匀。
请参阅图3，所述蒸镀机还包括被支撑于所述金属掩膜板下方的挡板7，所述挡板7用于控制所述蒸镀源3的蒸镀范围。所述挡板7包括第一板体71、第二板体72以及导轮73，所述导轮73与所述第一板体71以及所述第二板体72滑动连接，所述第一板体71朝向所述蒸镀源3上方的位置设置有通槽711，所述第二板体72用于盖合所述通槽711或滑开所述通槽711。
本实施例中，所述导轮73设于所述第二板体72的相对两侧周缘，所述第一板体71的相对两侧周缘设有两条并行设置的滑轨凹槽712，所述滑轨凹槽712与所述导轮73相对应，且所述滑轨凹槽712的延伸方向与所述导轮73的行进方向平行，所述导轮73沿所述滑轨凹槽712滑动地安装于所述滑轨凹槽712内。具体为，所述玻璃基板1的一个蒸镀区域蒸镀时，所述第二板体72滑开所述通槽711，使所述蒸镀源3与所述金属掩膜板4相对应，进而使所述蒸镀材料33可以通过所述通槽711达到所述金属掩膜板4；所述玻璃基板1的所述蒸镀区域完成蒸镀时，所述第二板体盖合所述通槽711，避免所述蒸镀材料33到达所述玻璃基板1的非蒸镀区域，进而避免在蒸镀比现有蒸镀产品尺寸大的蒸镀产品时，由于蒸镀的的不均匀而造成蒸镀产品的不均匀，从而进一步保证所有蒸镀区域蒸镀均匀。
请继续参阅图1，所述蒸镀机还包括相对所述金属掩膜板4设置的影像采集装置8以及支架，所述影像采集装置8支撑于支架上；所述影像采集装置8对所述玻璃基板1的所述蒸镀区域与所述金属掩膜板4进行对位。具体为，在所述金属掩膜板4与所述玻璃基板1实现第一次对位后，所述影像采集装置8采集所述金属掩膜板4与所述玻璃基板1的标记图像，进而实现所述玻璃基板1的所述蒸镀区域与所述金属掩膜板4的进一步对位。
进一步地，所述蒸镀机还包括处理装置，所述处理装置连接于所述影像采集装置8，且所述处理装置可以根据所述影像采集装置8的采集结果计算所述金属掩膜板4与所述玻璃基板1的所述蒸镀区域的偏移量，并将所述偏移量传送至所述第一驱动件52以及所述第二驱动件54，所述第一驱动件52驱动所述第一丝杆51带动托架6移动，进而带动所述玻璃基板1移动；所述第二驱动件54驱动所述第二丝杆53带动所述第一丝杆51及所述托架6移动，进而带动所述玻璃基板1移动，从而实现调节所述玻璃基板1相对所述金属掩膜板4的位置。
所述蒸镀机还包括控制装置，所述控制装置用于控制所述第一驱动件52、所述第二驱动件54以及所述影像采集装置8的启动以及关闭。具体为，当所述玻璃基板1的一个蒸镀区域与所述金属掩膜板4对位时，所述控制装置控制所述第一驱动件52、所述第二驱动件54及所述影像采集装置8启动，所述玻璃基板1的一个蒸镀区域与所述金属掩膜板4对位完成时，所述第一驱动件52、所述第二驱动件54及所述影像采集装置8关闭。当所述玻璃基板1的一个蒸镀区域完成蒸镀，另一个蒸镀区域蒸镀时，所述第一驱动件52、所述第二驱动件54及所述影像采集装置8启动，所述玻璃基板1的另一个蒸镀区域与所述金属掩膜板4对位完成时，所述第一驱动件52、所述第二驱动件54及所述影像采集装置8关闭。重复上述步骤，至所述蒸镀区域完成蒸镀。
在本实施例中，所述蒸镀机真空蒸镀腔的腔壁还具有一真空管9，所述真空管9用于抽走所述真空蒸镀腔2内的空气。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种蒸镀机，用于对玻璃基板的蒸镀，其特征在于，所述蒸镀机包括真空蒸镀腔、以及收容于所述真空蒸镀腔内的蒸镀源、金属掩膜板、移动部以及托架，所述托架装设于所述移动部上，所述金属掩膜板被支撑于所述托架下方并位于所述蒸镀源上方可相对所述托架移动，所述玻璃基板吸附于所述托架朝向所述金属掩膜的表面并与所述金属掩膜板之间留有间隙，所述玻璃基板至少包括两个蒸镀区域，所述移动部带动所述托架移动，进而带动所述玻璃基板相对于所述金属掩膜板移动，以使所述玻璃基板的所述蒸镀区域与所述金属掩膜板的位置对应。
2.根据权利要求1所述的蒸镀机，其特征在于，所述蒸镀机还包括被支撑于所述金属掩膜板下方的与所述蒸镀源正对的挡板，所述挡板用于控制所述蒸镀源的蒸镀范围。
3.根据权利要求2所述的蒸镀机，其特征在于，所述挡板包括第一板体、第二板体以及导轮，所述导轮与所述第一板体以及所述第二板体滑动连接，所述第一板体朝向所述蒸镀源的位置设置有通槽，所述第二板体用于盖合所述通槽或滑开所述通槽。
4.根据权利要求1所述的蒸镀机，其特征在于，所述托架包括两组相对设置的架框，其中一组所述架框的中部位置设置有一架臂，所述架框以及所述架臂吸附所述玻璃基板的表面设有真空孔，通过真空装置充气至所述真空孔以吸附所述玻璃基板。
5.根据权利要求1所述的蒸镀机，其特征在于，所述移动部包括第一丝杆、连接于所述第一丝杆的第一驱动件、与所述第一丝杆垂直设置的第二丝杆以及连接于所述第二丝杆的第二驱动件，所述托架与所述第一丝杆滑动连接，所述第一驱动件驱动所述第一丝杆以及所述托架移动，所述第一丝杆连接所述第二丝杆，所述第二驱动件驱动所述第二丝杆带动所述第一丝杆及所述托架移动。
6.根据权利可要求5所述的蒸镀机，其特征在于，所述第一驱动件以及所述第二驱动件可以为气缸或者马达。
7.根据权利要求1所述的蒸镀机，其特征在于，所述蒸镀机还包括相对所述金属掩膜板设置的影像采集装置及支架，所述影像采集装置支撑于所述支架上，所述影像采集装置对所述玻璃基板的所述蒸镀区域与所述金属掩膜进行对位。
8.根据权利要求1所述的蒸镀机，其特征在于，所述蒸镀源包括加热器、坩埚以及蒸镀材料，所述坩埚的顶面设置有通孔，所述蒸镀材料装设于所述坩埚中并可通过所述通孔到达所述玻璃基板的所述蒸镀区域，所述加热器用于加热所述蒸镀材料。
9.根据权利要求1所述的蒸镀机，其特征在于，所述真空蒸镀腔具有一真空管，所述真空管用于抽走所述真空蒸镀腔内的空气。
10.根据权利要求1-9所述的蒸镀机，其特征在于，所述蒸镀机还包括控制装置，所述控制装置用于控制所述第一驱动件、所述第二驱动件以及所述影像采集装置的启动以及关闭。
CN201710812416.7A 2017-09-11 2017-09-11 蒸镀机 Pending CN107475675A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710812416.7A CN107475675A (zh) 2017-09-11 2017-09-11 蒸镀机
PCT/CN2018/072702 WO2019047464A1 (zh) 2017-09-11 2018-01-15 蒸镀机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710812416.7A CN107475675A (zh) 2017-09-11 2017-09-11 蒸镀机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107475675A true CN107475675A (zh) 2017-12-15

Family

ID=60584411

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710812416.7A Pending CN107475675A (zh) 2017-09-11 2017-09-11 蒸镀机

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN107475675A (zh)
WO (1) WO2019047464A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019047464A1 (zh) * 2017-09-11 2019-03-14 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀机
CN114555854A (zh) * 2019-11-11 2022-05-27 韩商则舒穆公司 用于制造oled的掩模以及oled制造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101622703A (zh) * 2007-02-28 2010-01-06 周星工程股份有限公司 基板支持框架及包含此支持框架的基板处理设备和利用此支持框架装载与卸载基板的方法
CN202712149U (zh) * 2012-06-06 2013-01-30 京东方科技集团股份有限公司 一种基板吸附装置
CN202898515U (zh) * 2012-10-31 2013-04-24 四川虹视显示技术有限公司 一种oled金属掩膜板对位装置
CN103695846A (zh) * 2013-12-18 2014-04-02 京东方科技集团股份有限公司 一种真空镀膜装置及方法
CN103839864A (zh) * 2014-02-24 2014-06-04 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种镀膜对位装置和镀膜系统

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004183044A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Seiko Epson Corp マスク蒸着方法及び装置、マスク及びマスクの製造方法、表示パネル製造装置、表示パネル並びに電子機器
WO2012053402A1 (ja) * 2010-10-19 2012-04-26 シャープ株式会社 蒸着装置、蒸着方法、並びに、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
JP2013055039A (ja) * 2011-08-11 2013-03-21 Canon Inc Ｅｌ発光装置の製造方法および蒸着装置
WO2013094707A1 (ja) * 2011-12-22 2013-06-27 株式会社ブイ・テクノロジー 蒸着装置
CN103496845B (zh) * 2013-09-25 2016-06-29 深圳市华星光电技术有限公司 用于基板加工的给料系统以及基板切割机
CN105174753A (zh) * 2015-09-25 2015-12-23 嵊州市寰鼎玻璃科技有限公司 一种用于生产中空玻璃的玻璃合片机
CN105256283B (zh) * 2015-10-30 2017-08-11 京东方科技集团股份有限公司 一种基板固定载具、基板固定分离方法及基板蒸镀方法
CN107475675A (zh) * 2017-09-11 2017-12-15 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀机

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101622703A (zh) * 2007-02-28 2010-01-06 周星工程股份有限公司 基板支持框架及包含此支持框架的基板处理设备和利用此支持框架装载与卸载基板的方法
CN202712149U (zh) * 2012-06-06 2013-01-30 京东方科技集团股份有限公司 一种基板吸附装置
CN202898515U (zh) * 2012-10-31 2013-04-24 四川虹视显示技术有限公司 一种oled金属掩膜板对位装置
CN103695846A (zh) * 2013-12-18 2014-04-02 京东方科技集团股份有限公司 一种真空镀膜装置及方法
CN103839864A (zh) * 2014-02-24 2014-06-04 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种镀膜对位装置和镀膜系统

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019047464A1 (zh) * 2017-09-11 2019-03-14 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀机
CN114555854A (zh) * 2019-11-11 2022-05-27 韩商则舒穆公司 用于制造oled的掩模以及oled制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2019047464A1 (zh) 2019-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10066289B2 (en) Evaporation crucible and evaporation device
CN102057477B (zh) 具有定位功能的载物台、包括该具有定位功能的载物台的处理装置和基板定位方法
CN101783397B (zh) 有机el器件制造装置、成膜装置及其成膜方法、液晶显示基板制造、定位装置及定位方法
CN101762985B (zh) 用于处理基板的装置
CN101667630A (zh) 有机el设备制造装置和其制造方法以及成膜装置和成膜方法
CN107475675A (zh) 蒸镀机
CN102157708B (zh) 有机el设备制造装置和制造方法及成膜装置和成膜方法
JP2010165571A (ja) 有機ｅｌデバイス製造装置、成膜装置及びそれらの成膜方法
TW202023969A (zh) 玻璃熱彎上下料機
CN103088300A (zh) 有机el器件制造装置
KR102154706B1 (ko) 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조 방법 및 유기발광 디스플레이 장치
WO2019171545A1 (ja) 成膜装置、蒸着膜の成膜方法および有機ｅｌ表示装置の製造方法
CN105695939A (zh) 线性蒸发源、蒸镀装置及方法
CN102092958A (zh) 自动对位装置及自动对位方法
KR20090108497A (ko) 증착 장치
CN111041424B (zh) 成膜装置、制造系统、有机el面板的制造系统、成膜方法及有机el元件的制造方法
JP6754474B2 (ja) 成膜装置、蒸着膜の成膜方法および有機ｅｌ表示装置の製造方法
KR102290893B1 (ko) 연속 레이저 조형이 가능한 레이저 신터링 장치
KR101167079B1 (ko) Ｏｌｅｄ 제조용 박막 증착 장치
KR102157725B1 (ko) 진공 성막 장치
JP2014070242A (ja) 真空蒸着装置及び真空蒸着方法
KR101758820B1 (ko) 증착장치
KR20060028628A (ko) 기판 처짐 방지수단을 구비한 유기물 증착장치
CN219880423U (zh) 一种带有稳定限位结构的镜片加工用涂墨机
JP6077142B2 (ja) 人工窓製造設備の封口装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20171215

RJ01 Rejection of invention patent application after publication