CN107436540B - 物体交换方法、物体交换系统、曝光装置、平面显示器的制造方法、及组件制造方法 - Google Patents

物体交换方法、物体交换系统、曝光装置、平面显示器的制造方法、及组件制造方法 Download PDF

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Abstract

将载置于基板载台装置(20)上的基板(P1)交换成其他基板(P2)，其包含：使保持有基板(P1)的基板载台装置(20)位于既定的物体交换位置的动作；使基板(P1)悬垂支撑于设在物体交换位置的悬垂支撑装置(50)的动作；使悬垂支撑于悬垂支撑装置(50)的基板(P1)从基板载台装置(20)离开的动作；将基板(P2)插入悬垂支撑于悬垂支撑装置(50)的基板(P1)与基板载台装置(20)之间而将该基板(P2)移交至基板载台装置(20)的动作；以及通过使基板(P1)相对悬垂支撑装置(50)移动以将基板(P1)从物体交换位置搬出的动作。

Description

物体交换方法、物体交换系统、曝光装置、平面显示器的制造 方法、及组件制造方法
本案是申请日为2013年08月07日，国家申请号为201380049087.5，发明名称为“物体交换方法、物体交换系统、曝光装置、平面显示器的制造方法、及组件制造方法”的专利申请的分案申请。
技术领域
本发明是关于物体交换方法、物体交换系统、曝光装置、平面显示器的制造方法、及组件制造方法，更具体的，是关于保持于物体保持装置中的物体的交换方法及系统、具备所述物体交换系统的曝光装置、使用所述曝光装置的平面显示器及组件的制造方法。
背景技术
以往，于用以制造液晶显示组件、半导体组件等电子组件的光刻工艺中使用曝光装置，该曝光装置是使用能量束将形成于掩膜(或标线片)上的图案转印至玻璃基板(或晶圆)上。
作为此种曝光装置，已有一种使用既定基板搬送装置将基板载台装置上的曝光完毕的玻璃基板搬出后，通过使用上述基板搬送装置将其他玻璃基板搬入基板载台装置上，依序交换保持于基板载台装置中的玻璃基板，以对多个玻璃基板连续进行曝光处理者(参照例如专利文献1)。
此处，在对多个玻璃基板连续进行曝光时，为了整体产能的提升，最好是迅速地交换基板载台装置上的玻璃基板。
先前技术文献
专利文献
专利文献1：美国专利第6,559,928号说明书
发明内容
用以解决课题的手段
本发明是有鉴于上述情事而完成者，从第1观点来看，为一种物体交换方法，是将配置于既定的物体交换位置的物体交换成其他物体，其包含：使保持有第1物体的物体保持装置位于所述物体交换位置的动作；使所述第1物体悬垂支撑于设在所述物体交换位置的支撑装置的动作；使悬垂支撑于所述支撑装置的所述第1物体从所述物体保持装置离开的动作；将第2物体插入悬垂支撑于所述支撑装置的所述第1物体与所述物体保持装置之间，而将所述第2物体移交至所述物体保持装置的动作；以及通过在将所述第2物体移交至所述物体保持装置后，使所述第1物体相对所述支撑装置移动，以将所述第1物体从所述物体交换位置搬出的动作。
藉此，以第1物体悬垂支撑于支撑装置的状态将第2物体移交至物体保持装置，其后，第1物体从物体交换装置被搬出。亦即，由于第2物体对物体保持装置的搬入较保持于物体保持装置的第1物体的搬出动作的结束还优先进行，因此，能迅速地进行物体保持装置上的物体的交换动作。
本发明从第2观点来看，为一种物体交换系统，是将配置于既定的物体交换位置处的物体交换成其他物体，其具备：物体保持装置，能保持所述物体；支撑装置，设于所述物体交换位置、能悬垂支撑所述物体；驱动系，以保持有所述物体的所述物体保持装置位于所述物体交换位置处且所述物体被悬垂支撑于所述支撑装置中的状态，以及使所述物体从所述物体保持装置离开；以及物体交换装置，通过在所述物体保持装置与所述物体离开的状态下，将其他物体插入该物体保持装置与该物体之间，而将该其他物体移交至所述物体保持装置，且通过在将所述其他物体移交至所述物体保持装置后，使所述物体相对所述支撑装置移动，以将所述物体从所述物体交换位置搬出。
藉此，以物体悬垂支撑于支撑装置的状态将其他移交至物体保持装置，其后物体从物体交换装置被搬出。亦即，由于其他物体对物体保持装置的搬入较保持于物体保持装置的物体的搬出动作的结束还优先进行，因此能迅速地进行物体保持装置上的物体的交换动作。
本发明从第3观点来看，为一种曝光装置，具备：本发明的第2观点的物体交换系统；以及使用能量束于保持于所述物体保持装置的所述物体，形成既定图案的图案形成装置。
本发明从第4观点来看，为一种平面显示器的制造方法，其包含：使用本发明的第3观点的曝光装置使所述物体曝光的动作；以及使曝光后的所述物体显影的动作。
本发明从第5观点来看，为一种组件制造方法，其包含：使用本发明的第3观点的曝光装置使所述物体曝光的动作；以及使曝光后的所述物体显影的动作。
附图说明
图1为概略显示第1实施形态的液晶曝光装置的构成的图。
图2为图1所示的液晶曝光装置(一部分省略)的俯视图。
图3(A)为图2所示的液晶曝光装置所具有的基板交换装置的前视图，图3(B)为其变形例的示意图。
图4(A)～图4(C)为图1所示的液晶曝光装置所具有的基板搬入装置的动作示意图。
图5(A)～图5(C)为第1实施形态的液晶曝光装置的基板交换动作的一示意图。
图6(A)～图6(C)为第1实施形态的液晶曝光装置的基板交换动作的另一示意图。
图7(A)～图7(C)为第1实施形态的液晶曝光装置的基板交换动作的再一示意图。
图8(A)及图8(B)为第1实施形态的液晶曝光装置的基板交换动作的又一示意图。
图9为第2实施形态的基板载台装置的基板交换装置的俯视图。
图10(A)为第2实施形态的基板载台装置的侧剖面图，图10(B)为其变形例的示意图。
图11(A)～图11(C)为第2实施形态的液晶曝光装置的基板交换动作的一示意图。
图12(A)～图12(C)为第2实施形态的液晶曝光装置的基板交换动作的另一示意图。
图13(A)～图13(C)为第3实施形态的液晶曝光装置的基板交换动作的再一示意图。
图14(A)为第3实施形态的液晶曝光装置的基板交换动作的一示意图(其4)，图14(B)为其变形例的示意图。
图15(A)～图15(C)为第4实施形态的液晶曝光装置的基板交换动作的一示意图。
图16(A)～图16(C)为第4实施形态的液晶曝光装置的基板交换动作的另一示意图。
图17(A)及图17(B)为第4实施形态的液晶曝光装置的基板交换动作的再一示意图。
附图标号说明
10 液晶曝光装置
20 基板载台装置
26 基板保持具
30 基板交换装置
36 基板驱动装置
38 空气导引装置
44 吸附垫
50 悬垂支撑装置
52 非接触夹具装置
P 基板
具体实施方式
《第1实施形态》
以下，使用图1～图8(B)说明第1实施形态。
图1中，概略的显示了第1实施形态的液晶曝光装置10的构成。液晶曝光装置10是以用于例如液晶显示设备(平面显示器)等的矩形(角型)玻璃基板P(以下单称为基板P)作为曝光对象物的步进扫描方式的投影曝光装置，所谓扫描仪。
液晶曝光装置10，具有照明系12、保持掩膜M的掩膜载台14、投影光学系16、保持于表面(图1中为朝向+Z侧的面)涂布有抗蚀剂(感应剂)的基板P的基板载台装置20、基板交换装置30、悬垂支撑装置50、以及此等的控制系等。以下说明中，是设曝光时使掩膜M与基板P相对投影光学系16分别被扫描的方向为X轴方向、在水平面内与X轴正交的方向为Y轴方向、与X轴及Y轴方向正交的方向为Z轴方向。又，将在X轴、Y轴、以及Z轴方向的位置分别设为X位置、Y位置、以及Z位置来进行说明。
照明系12，是与例如美国专利第5,729,331号说明书等所揭示的照明系同样的构成。亦即，照明系12是将从未图示的光源(例如水银灯)射出的光，分别经由未图示的反射镜、分光镜(dichroic mirror)、遮帘、波长选择滤波器、各种透镜等，作为曝光用照明光(照明光)IL照射于掩膜M。照明光IL，是使用例如i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或上述i线、g线、h线的合成光)。
掩膜载台14，例如以真空吸附方式吸附保持有其掩膜M。掩膜载台14通过例如包含线性马达的掩膜载台驱动系(未图标)以既定长行程驱动于扫描方向(X轴方向)。掩膜载台14于XY平面内的位置信息是通过包含未图标的激光干涉仪的掩膜干涉仪系统求出。
投影光学系16配置在掩膜载台14的下方。投影光学系16具有与例如美国专利第6,552,775号说明书所揭示的投影光学系相同的构成、所谓多透镜的投影光学系，具备例如以两侧远心的等倍系形成正立正像的多个投影光学系。
液晶曝光装置10，当以来自照明系12的照明光IL照明掩膜M上的照明区域时，即通过掩膜M的照明光IL，透过投影光学系16将该照明区域内的掩膜M的电路图案的投影像(部分正立像)，形成于与基板P上的照明区域共轭的照明光IL的照射区域(曝光区域)。并通过相对照明区域(照明光IL)使掩膜M移动于扫描方向且相对曝光区域(照明光IL)使基板P移动于扫描方向，据以进行基板P上一个照射区域的扫描曝光，于该照射区域转印形成于掩膜M的图案。
基板载台装置20具备XY粗动载台22、微动载台24、以及基板保持具26。
XY粗动载台22是用以将基板保持具26以既定的长行程驱动于X轴方向及Y轴方向的装置。作为XY粗动载台22，能使用例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书所揭示，将能以既定的长行程移动于X轴方向的X粗动载台与能以既定的长行程移动于Y轴方向的Y粗动载台组合而成的所谓门型(gantry)的双轴载台装置(X、Y粗动载台的图示省略)。微动载台24配置于XY粗动载台22的上方，透过例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书所揭示的重量消除装置28载置于固定座18上。固定座18由俯视矩形的板状构件构成，透过防振装置19设置于地11上。
基板保持具26由俯视矩形的板状构件(或高度低的长方体状)构成，一体固定于微动载台24的上面。基板保持具26通过被上述XY粗动载台22诱导而相对投影光学系16(照明光IL)以既定的长行程移动于X轴方向及/或Y轴方向。基板保持具26(亦即基板P)的XY平面内的位置信息，是通过包含未图标的激光干涉仪的基板干涉仪系统求出。此外，XY粗动载台22的构成只要至少能将基板P以既定的长行程驱动于扫描方向，则不特别限定。
于基板保持具26的上面(朝向+Z侧的面)形成有多个未图示的微小孔部。于基板保持具26可选择地连接有设置在基板载台装置20外部的真空吸引装置、以及加压气体供应装置(均未图示)。基板保持具26能通过从上述真空吸引装置透过上述多个孔部供应的真空吸引力吸附保持载置于其上面的基板P，以及能通过从上述加压气体供应装置透过上述多个孔部(或其他孔部)供应的加压气体悬浮支撑(非接触支撑)载置于其上面的基板P。
如图2所示，基板保持具26在X轴及Y轴方向各自的尺寸，设定为较基板P在X轴及Y轴方向各自的尺寸短些许，在于基板保持具26上载置有基板P的状态下，基板P的端部从基板保持具26的端部超出些许。此是因有抗蚀剂附着于基板P的背面的可能性，而为了使该抗蚀剂不附着于基板保持具26的原故。
如图2所示，于基板保持具26的-Y侧，于Y轴方向以既定间隔配置有一对Y按压销装置25y。Y按压销装置25y具有固定于基板保持具26(亦可是微动载台24或XY粗动载台22(均参照图1))的底座25a、能相对该底座25a以既定(例如10～100mm程度)行程移动于Y轴方向的销25b、以及用以驱动销25b的未图示的致动器。销25b的前端部(+Z侧的端部)较基板保持具26的上面往+Z侧突出。又，于基板保持具26的+Y侧，于X轴方向以既定间隔(相对一对Y按压销装置25y隔着基板保持具26于纸面上下对称)配置有一对Y定位销装置27y。Y定位销装置27y除了销为固定这点以外，与Y按压销装置25y大致相同构成。此外，一对Y按压销装置25y亦可配置于基板保持具26的+Y侧，此情形下，一对Y定位销装置27y则配置于基板保持具26的-Y侧。又，亦可分别于基板保持具26的-Y侧、+Y侧配置Y按压销装置25y。
又，于基板保持具26的+X侧，于Y轴方向以既定间隔配置有一对X按压销装置25x。X按压销装置25x具有固定于基板保持具26(亦可是微动载台24或XY粗动载台22(均参照图1))的底座25a、能相对该底座25a以既定(例如1～100mm程度)行程移动于Y轴方向的销25b、以及用以驱动销25b的未图示的致动器。此处，X按压销装置25x所具有的销25b，能在前端部从基板保持具26的上面往+Z侧突出的位置与前端部较基板保持具26的上面往-Z侧下降的位置之间驱动于上下方向。又，于基板保持具26的-X侧，于Y轴方向以既定间隔(相对一对X按压销装置25x隔着基板保持具26于纸面左右对称)配置有一对X定位销装置27x。X定位销装置27x除了销为固定这点以外，与X按压销装置25x大致相同构成。上述X按压销装置25x、X定位销装置27x、Y按压销装置25y、以及Y定位销装置27y，在基板P对基板保持具26的预对准动作时使用。
基板交换装置30，用于进行保持于基板保持具26的基板P从基板保持具26的搬出、以及基板P对空的(未保持基板P)的基板保持具26的搬入。如图1所示，基板交换装置30配置于基板载台装置20的+X侧区域，设置于地11上。基板载台装置20与基板交换装置30收容于液晶曝光装置10所具有的未图示的处理室内。
基板交换装置30具有架台32、底板34、基板驱动装置36、以及多个空气导引装置38。架台32由设置于地11上的高度低的桌台状构件构成。底板34由与XY平面平行配置的板状构件构成，如图3(A)所示，透过固定在架台32上面的X线性导件33a与固定于底板34下面的多个X滑件33b构成的多个(例如四个)X线性导引装置33搭载于架台32上。底板34通过包含固定在架台32上面的X固定子31a与固定于底板34下面的X可动子31b所构成的多个(例如两个)X线性马达31的底板驱动系，在架台32上以既定的行程适当驱动于X轴方向。
返回图1，基板驱动装置36在基板保持具26上的基板P的交换动作时驱动搬入对象或搬出对象的基板P。基板驱动装置36具备X驱动部40、支柱42、以及吸附垫44。X驱动部40具有X固定部40a及X可动部40b。X固定部40a由延伸于X轴方向的构件构成，固定于底板34上面的在Y轴方向的中央部(参照图2及图3(A))。X可动部40b搭载于X固定部40a的上面上，通过包含例如X固定部40a具有的固定子与X可动部40b具有的可动子所构成的X线性马达的驱动系，沿X固定部40a于X轴方向以例如与基板P的X轴方向尺寸相同程度的行程被直进驱动。此外，用以驱动上述底板34及X可动部40b的致动器的种类并不特别限定，亦可是例如进给螺杆装置、皮带驱动装置等。
支柱42由延伸于X轴方向的构件构成，下端部一体固定于X可动部40b。吸附垫44由XZ剖面逆L字形的构件构成，与XY平面平行的部分形成为俯视矩形的板状。吸附垫44连接于未图标的真空装置，上述与XY平面平行的部分的上面发挥基板吸附面部的功能。吸附垫44的与YZ平面平行的部分的一面对向于支柱42上端部近旁的一面(朝向-X侧的面)。吸附垫44是被安装成透过Z线性导引装置46(由固定于上述支柱42的一面(-X侧面)的Z线性导件46a与固定于上述吸附垫44的与YZ平面平行的部分(+X侧面)的多个Z滑动构件46b构成)相对支柱42可移动于Z轴方向。又，吸附垫44是通过安装于X可动部40b的Z致动器48(例如汽缸等)，在其上面(基板吸附面)较基板保持具26及多个空气导引装置38各自的上面往+Z侧突出的位置与较基板保持具26及多个空气导引装置38的上面下降的位置之间被驱动于Z轴方向。
多个空气导引装置38的各个由以X轴方向为长度方向的长方体构件构成，透过支柱37a搭载于中间底板37b上。中间底板37b如图3(A)所示，以不阻碍上述基板驱动装置36的支柱42移动的方式于Y轴方向以既定间隔设置有例如两个。例如两个的中间底板37b，各自透过支柱37c连接于底板34。因此，多个空气导引装置38与底板34一体地移动于X轴方向。如图2所示，多个空气导引装置38以大致均等地支撑基板P下面的方式以既定间隔彼此分离配置。本第1实施形态中，于X轴方向以既定间隔排列的多个(例如三台)的空气导引装置38所构成的空气导引装置列是于Y轴方向以既定间隔排列有多列(例如六列)，而以合计例如十八台的空气导引装置38从下方支撑基板P。此外，空气导引装置38的数目及配置、以及通过多个空气导引装置38形成的基板导引面的形状等能视例如基板P的大小等来适当变更。
多个空气导引装置38各自的上面形成有多个未图示的微小孔部。又，多个空气导引装置38的各个可选择地连接有未图标的加压气体供应装置及真空吸引装置(均未图示)。多个空气导引装置38的各个，能通过从上述加压气体供应装置透过上述多个孔部供应的加压气体悬浮支撑载置于其上面的基板P(非接触支撑)，以及能通过从上述真空吸引装置透过上述多个孔部(或其他孔部)供应的真空吸引力吸附保持载置于其上面的基板P。
此处，使用图4(A)～图4(C)说明使用基板交换装置30进行的基板P的搬入动作。液晶曝光装置10中，基板P对基板保持具26的搬入动作、以及从后述的基板保持具26搬出基板的搬出动作(以下总称为基板P的交换动作)，是以基板保持具26位于既定的基板交换位置的状态下进行。基板交换位置设定于固定座18的+X侧端部近旁。在基板保持具26位于基板交换位置的状态下(图1中基板保持具26配置于以虚线显示的位置的状态)，如图4(A)所示，多个空气导引装置38与基板保持具26于X轴方向邻接，通过多个空气导引装置38形成的基板导引面与基板保持具26的上面形成连续的导引面。
在使用基板交换装置30将基板P往基板载台装置20搬入时，是将基板保持具26的Z位置定位成基板保持具26上面的Z位置与多个空气导引装置38上面的Z位置成为大致相同(或基板保持具26侧较低些许)。又，X按压销装置25x的销25b的位置被控制成上端部较基板保持具26上面位于-Z侧(不突出)。在基板交换装置30，如图4(A)所示，在+X侧端部近旁的Y轴方向的中央部被吸附保持于吸附垫44的基板P，通过吸附垫44被往-X方向驱动而沿由多个空气导引装置38上面与基板保持具26上面形成的导引面移动。
接着，如图4(B)所示，在基板P的+X侧端部位于较X按压销装置25x更靠-X侧后，如图4(C)所示，吸附垫44即解除基板P的吸附保持，被往+X方向驱动。又，X按压销装置25x的销25b被往+Z方向及-X方向驱动。藉此，基板P的+X侧端部被销25b按压，基板P的-X侧端部抵接于X定位销装置27x，进行基板P在X轴方向的预对准。又，虽未图示，但同样地，通过Y按压销装置25y于+Y侧按压基板P的-Y侧端部，以进行基板P在Y轴方向的预对准。此外，亦可在如图4(A)所示的基板P的移动中，解除吸附垫44对基板P的吸附保持，分离该吸附垫44与基板P，通过惯性力使基板P移动。又，亦可于基板保持具26的+X侧端部的Y轴方向中央部形成吸附垫44一部分可插入的缺口。此情形下，由于能使用基板驱动装置36调整基板保持具26上的基板P的X位置，因此不需要上述X按压销装置25x、以及X定位销装置27x。
返回图2，悬垂支撑装置50是与上述基板交换装置30一起用于将保持于基板保持具26的基板P从基板保持具26搬出的搬出动作。悬垂支撑装置50是配置成在使基板载台装置20位于基板交换位置的状态下，位于基板保持具26上方。
悬垂支撑装置50具有多个非接触夹具装置52。非接触夹具装置52亦称为贝努里夹具，其构成揭示于例如美国专利第5,067,762号说明书等。亦即，于多个非接触夹具装置52的各个连接有未图标的气体供应装置，在悬垂支撑装置50的下面与基板P的上面隔着既定的空隙对向的状态下，多个非接触夹具装置52的各个对基板P的上面以高速喷出加压气体(例如空气)。接着，通过高速通过多个非接触夹具装置52各自的下面与基板P的上面间的气体的作用(所谓贝努里效果及喷射器效果)，对基板P产生沿重量方向往上的力(吸引力)的作用，基板P被悬垂支撑装置50非接触保持(吸引保持)。
本第1实施形态中，虽是以能均等地使吸引力作用于基板P的整体的方式将例如二十五台非接触夹具装置52于X轴方向及Y轴方向以既定间隔配置，但非接触夹具装置52的数目及配置并不限于此，亦可视例如基板P的大小等来适当变更。
多个非接触夹具装置52，是以悬吊支撑的状态安装于通过在Y轴方向以既定间隔配置的多个与X轴平行的棒状构件与在X轴方向以既定间隔配置的多个与Y轴平行的棒状构件形成为网状的支撑构件54(参照图1)。支撑构件54通过多个(本第1实施形态中例如为四台)Z致动器56被以既定行程驱动于Z轴方向(上下方向)。Z致动器56具备以透过未图示的支撑构件与基板载台装置20物理分离的状态设置于地11(参照图1)上的Z固定部56a与相对该Z固定部56a被驱动于Z轴方向的Z可动部56b，于Z可动部56b连接有上述支撑构件54。
以下，将通过多个非接触夹具装置52的下面形成的面，称为悬垂支撑装置50的基板保持面来说明。悬垂支撑装置50，通过在将基板P非接触保持的状态下支撑构件54被驱动于Z轴方向，基板P与支撑构件54一体地移动于Z轴方向。藉此，悬垂支撑装置50能在位于基板交换位置的基板保持具26的上方使基板P上下动。此外，使支撑构件54上下动的致动器的种类可适当变更，例如亦可以绳等悬吊支撑构件54，通过将该绳卷起来使支撑构件54上下动。
又，如图1所示，于支撑构件54的+X侧、-X侧、+Y侧、以及-Y侧端部近旁分别配置有从支撑构件54下面往下方突出的销58(+Y侧及-Y侧的销58未图示)。多个销58被配置成在使用多个非接触夹具装置52悬垂支撑基板P的状态下包围该基板P的外周，以限制基板P相对悬垂支撑装置50往与XY平面平行的方向的非意图的移动。此外，销58的数目只要能限制上述基板P的非意图的移动即可，并不特别限定。又，配置于支撑构件54的+X侧端部近旁的销58，能在下端部较基板保持面往下方突出的位置与下端部不较基板保持面往下方突出的位置(不阻碍基板P相对悬垂支撑装置50的往+X方向的移动的位置)之间驱动。此外，亦能使多个销58可移动于X轴及/或Y轴方向，并通过使用该多个销58按压被多个非接触夹具装置52悬垂支撑的基板P的端部，进行基板P在XY平面内的位置对齐(预对准)。
又，如图1所示，于液晶曝光装置10外部配置有从液晶曝光装置10外部将基板P搬入液晶曝光装置10内的外部搬送机械臂99(于图1及图2仅图示外部搬送机械臂99所具有的臂构件98)。如图2所示，臂构件98具有由与X轴平行延伸的板状构件构成的多个支撑部98a与将多个支撑部98a一端彼此相互连接的连接部98b，亦称为叉形臂(fork hand)等。外部搬送机械臂99，虽未图示但具有例如可将臂构件98以既定行程至少驱动于X轴方向及Z轴(上下)方向的驱动装置(例如机械臂等)。
此处，外部搬送机械臂99的臂构件98中，多个支撑部98a为了抑制基板P的弯曲而于Y轴方向以大致均等的间隔配置。又，上述的基板交换装置30所具有的多个空气导引装置38的Y轴方向间隔，是考虑上述多个支撑部98a的Y轴方向间隔来决定。具体说明如下，多个空气导引装置38的Y轴方向间隔，设定为在臂构件98位于该多个空气导引装置38上的状态下相对该臂构件98的多个支撑部98a于Y轴方向不重迭。借此，能将空气导引装置38隔着既定的空隙插入相邻的支撑部98a间。
以上述方式构成的液晶曝光装置10(参照图1)，是在未图标的主控制装置的管理下，通过未图示的掩膜装载器进行对掩膜载台装置14上的掩膜M的装载，且通过基板交换装置30进行对基板保持具26上的基板P的装载。其后，通过主控制装置，使用未图标的对准检测是执行对准测量，在该对准测量结束后，对设定于基板P上的多个照射区域逐次进行步进扫描方式的曝光动作。此外，由于此曝光动作与现有进行的步进扫描方式的曝光动作相同，因此其详细说明省略的。接着，已结束曝光处理的基板P被基板交换装置30从基板保持具26上搬出，且次一曝光的其他基板P被搬送至基板保持具26，藉此进行基板保持具26上的基板P的交换，对多个基板P连续进行曝光动作等。
以下，使用图5(A)～图8(B)说明液晶曝光装置10中的基板保持具26上的基板P(为了说明方便，将多个基板P称为基板P1、基板P2、基板P3)的交换动作。以下的基板交换动作，是在未图标的主控制装置的管理下进行。此外，为了图示的简化，图5(A)～图8(B)中，将基板载台装置20、基板交换装置30、以及悬垂支撑装置50的各个分别简化(一部分要素不图示)显示。
图5(A)是显示于基板保持具26上载置有曝光完毕的基板P1的基板载台装置20从曝光动作结束位置移动至基板交换位置的状态。于基板交换装置30的多个空气导引装置38上，载置有基板P1的后预定进行曝光处理的基板P2。此外，图5(A)中虽省略了动作的图示，但在基板交换装置30，是与基板载台装置20往基板交换位置移动对应地，多个空气导引装置38被驱动往-X方向(接近基板载台装置20的方向)。又，在基板载台装置20位于基板交换位置后(或基板载台装置20往基板交换位置移动中)，悬垂支撑装置50是下降驱动多个非接触夹具装置52。
基板载台装置20，在位于基板交换位置的状态下，如图5(B)所示，解除基板保持具26对基板P1的吸附保持，且从基板保持具26的上面对该基板P1的下面喷出加压气体。又，悬垂支撑装置50，是从多个非接触夹具装置52以高速喷出气体，藉此对基板P1作用重力方向往上的力(悬浮力)(图5(B)中的箭头非显示气体的流动而是显示力的方向)，该基板P1被吸附保持于悬垂支撑装置50。又，基板交换装置30，从多个空气导引装置38对基板P2的下面喷出加压气体，该基板P2在多个空气导引装置38上悬浮。又，吸附垫44吸附保持基板P2的下面。其次，如图5(C)所示，吸附保持有基板P1的悬垂支撑装置50被上升驱动，基板P1的下面与基板保持具26的上面分离。
此后，如图6(A)所示，吸附垫44被驱动往-X方向。借此，基板P2沿多个空气导引装置38的上面及基板保持具26的上面所形成的导引面移动。以下，如上所述，是在基板保持具26上使用X按压销装置25x及Y按压销装置25y(图6(A)中未图示。参照图4(A)～图4(C))进行预对准后，基板P2被吸附保持于基板保持具26。在上述基板P2的移动时，以及预对准动作时，曝光完毕的基板P1是在被悬垂支撑装置50吸附保持的状态下待机于基板交换位置。以下，基板载台装置20如图6(B)所示，为了进行对基板P2的曝光动作而从基板交换位置往既定的曝光动作开始位置移动。
在基板载台装置20从基板交换位置离开后，如图6(C)所示，悬垂支撑装置50所具有的多个非接触夹具装置52被下降驱动。此时，基板P1的Z位置，被定位成吸附垫44能吸附保持基板P2的下面的位置、亦即与被搬入基板保持具26时(参照图6(A))的基板P1的Z位置大致相同。
以下，如图7(A)所示，吸附保持有基板P1的下面的吸附垫44被驱动往+X方向，藉此，基板P1沿多个非接触夹具装置52的下面及多个空气导引装置38的上面所形成的导引面移动。此时，悬垂支撑装置50的+X侧的销58(图7(A)中未图示，参照图1)以不接触于基板P1的方式退避。此外，图7(A)～图8(B)中虽为了说明方便而图示有保持有基板P2的基板载台装置20，但以下说明的基板交换装置30上的基板P1与基板P3的交换动作与基板P2的曝光动作是并行进行，基板载台装置20的实际位置是不同。
接着，如图7(B)所示，在基板P1被搬送至多个空气导引装置38上方后，即解除吸附垫44对基板P1的吸附保持，且该吸附垫44被下降驱动。又，从空气导引装置38对基板P1的下面的加压气体的喷出停止。又，在图7(B)中虽省略动作的图示，但在基板交换装置30，多个空气导引装置38是被驱动往+X方向(从基板载台装置20离开的方向)。此外，多个空气导引装置38的X位置亦可固定。
此后，为了将基板P1搬出至液晶曝光装置10(参照图1)外部，而如图7(C)所示，外部搬送机械臂99的臂构件98在插入基板P1的下方空间后，被上升驱动。此时，如上所述，外部搬送机械臂99的臂构件98与多个空气导引装置38不接触。借此，基板P1被该臂构件98从下方支撑，在此状态下该臂构件98被驱动往+X方向，借此基板P1被搬出至液晶曝光装置10(参照图1)外。此外，图7(B)中，虽为了避免吸附垫44与臂构件98的接触而将吸附垫44下降驱动，但亦可使吸附垫44往-X方向移动以避免与臂构件98的接触。
以下，如图8(A)所示，外部搬送机械臂99的臂构件98(亦可是与上述已搬出基板P1的臂构件98相同，亦可为其他)，将基板P2的后预定进行曝光处理的基板P3搬送至多个空气导引装置38上方后，如图8(B)所示，上述外部搬送机械臂99的臂构件98被驱动往-Z方向及-X方向，基板P3载置于多个空气导引装置38上。借此，返回图5(A)所示的状态(不过，基板P1替换为基板P2，基板P2替换为基板P3)。此外，亦可在基板P3被移交至多个空气导引装置38上后，以悬浮于多个空气导引装置38上的状态进行该基板P3的位置对齐(对准)。上述对准，例如可一边以边缘传感器或CCD(Charge Coupled Device)摄影机等检测基板P3的端部(边缘)位置、一边按压基板P3的端部的多处，由此来进行。以下，通过反复进行图5(A)～图8(B)所示的动作，来对多个基板P连续进行曝光动作。
根据以上说明的本第1实施形态，由于在使曝光完毕基板P1在基板交换位置待机(从接着预定曝光的基板P2的搬入路径退避)的状态下，进行基板P2的搬入动作，并进行该基板P2对基板载台装置20的移交后，将基板P1从上述待机位置搬出，因此与例如在曝光完毕的基板P1的搬出动作结束后，开始基板P2对基板载台装置20的搬入动作的情形相较，能缩短基板交换的循环时间。
又，通常而言，由于相较于对基板P2的曝光动作所需要的时间，曝光完毕的基板P1往液晶曝光装置10外的搬出动作及基板P3对多个空气导引装置38上的载置动作所需要的时间较短即可(在对基板P2的曝光动作结束为止前能准备基板P3)，因此如本实施形态所示，即使较曝光完毕的基板P1的搬出动作优先地进行基板P2的搬入动作，对于对多个(例如三片以上)基板P连续进行曝光处理时的整体产能并无影响。
又，悬垂支撑装置50中，由于多个非接触夹具装置52能上下动，因此能使基板P的搬入路径与搬出路径相同，而能使液晶曝光装置10省空间。又，用以驱动基板P(基板P1～P3)的驱动系(本实施形态中为基板驱动装置36)为一个即可，不需要独立设置搬入用的驱动系与搬出用的驱动系。因此，液晶曝光装置10的构成简单，成本亦能下降。
又，悬垂支撑装置50虽是多个非接触夹具装置52对基板P的上面(曝光面)喷出气体，但由于保持于悬垂支撑装置50的基板P是曝光完毕，因此假使于上述加压气体包含尘埃亦无曝光不良现象。又，多个非接触夹具装置52由于在XY平面内的位置为固定，因此使基板P落下的可能性亦少。
此外，上述第1实施形态的液晶曝光装置10的构成能适当变更。例如，亦可如图3(B)所示的基板交换装置30a，构成为多个空气导引装置38能上下动。具体说明的，于基板交换装置30a中，多个空气导引装置38，是取代图3(A)所示的基板交换装置30的支柱37c而改以Z致动器37d被支撑在底板34a上。在从基板载台装置20(参照图1等)搬出曝光完毕的基板P时，相较于上述第1实施形态中为下降驱动悬垂支撑装置50(参照图6(C))，本变形例的基板交换装置30a则只要将多个空气导引装置38上升驱动即可。此外，此时只要将吸附垫44的Z轴方向的可动行程设定为较上述第1实施形态长以吸附保持基板P的下面即可。
藉此，由于可在不改变悬垂支撑装置50的Z位置的情形下进行曝光完毕的基板P的搬出，因此能简化悬垂支撑装置50的动作。又，由于无须下降驱动悬垂支撑装置50，因此能不需等待基板载台装置20从基板交换位置(悬垂支撑装置50的下方)完全退避即开始基板搬出动作。因此，能缩短基板交换动作的时间。又，用以驱动吸附垫44的X固定部40a，亦可如图3(B)所示的基板交换装置30a般固定于架台32上(X固定部40a本身亦可不移动于X轴方向)。此情形下，只要将底板34a分别配置于X固定部40a的一侧及另一侧并同步驱动该一对底板34a即可。
《第2实施形态》
其次使用图9～图12(C)说明第2实施形态(及其变形例)。此外，对以下说明的第2～第4实施形态、以及该等的变形例中与上述第1实施形态相同的构成要素，赋予与上述第1实施形态相同的符号，省略其说明。
图9所示的第2实施形态的液晶曝光装置中，基板载台装置60、悬垂支撑装置50a(图9中未图示。参照图10(A))、以及基板交换装置70的构成与上述第1实施形态相异。基板载台装置60如图10(A)所示，包含XY粗动载台22、微动载台24、以及基板保持具62。XY粗动载台22及微动载台24(包含重量消除装置28)的构成与上述第1实施形态相同。基板保持具62由俯视矩形的板状构件构成，一体固定于微动载台24的上面。
如图9所示，于基板保持具62的上面，在Y轴方向以既定间隔形成有多条(本第2实施形态中例如为六条)延伸于X轴方向的X槽62a。于多个X槽62a的各个中插入有空气导引装置64。空气导引装置64由延伸于X轴方向的构件构成，其长度方向的尺寸设定为与基板P的X轴方向尺寸相同程度(本第2实施形态中为短些许)。于空气导引装置64的上面形成有多个未图示的微小孔部。于空气导引装置64连接有设置于基板载台装置60外部的加压气体供应装置(未图示)，能从上述多个微小孔部喷出加压气体。
又，如图10(A)所示，于空气导引装置64下面且为空气导引装置64的长度方向两端部近旁，固定有延伸于Z轴方向的脚部66。于用以规定上述X槽62a的底面形成有一对在上下方向贯通基板保持具62的贯通孔62b，于该一对贯通孔62b的各个插通有脚部66。XY粗动载台22与上述一对脚部66对应地具有一对Z致动器68。空气导引装置64，通过该一对Z致动器68，而在上面从基板保持具26的上面往上方突出的位置与上面较基板保持具26的上面往下方下降的位置(空气导引装置64收容于X槽62a的位置)之间被适当控制其Z位置。
图10(A)所示的悬垂支撑装置50a的构成，除了悬吊支撑多个非接触夹具装置52的支撑构件54的Z位置为固定(不具有Z致动器56(参照图1))这点以外，其他则与上述第1实施形态相同。
图9所示的基板交换装置70具有多台(本第2实施形态中是于Y轴方向以既定间隔设有例如六台)的空气导引装置74。空气导引装置74是与基板保持具62的空气导引装置64同样地(较其宽些许)构成。亦即，空气导引装置74由延伸于X轴方向的构件构成，如图11(A)所示，于其下面具有一对脚部76。空气导引装置74通过固定于底板34的一对Z致动器78被以既定行程驱动于Z轴方向。
于空气导引装置74的上面形成有多个未图示的微小孔部。于空气导引装置74连接有加压气体供应装置(未图示)，能从上述多个微小孔部喷出加压气体。本第2实施形态中，基板P从上述基板载台装置60所具有的多个空气导引装置64、及/或基板交换装置70所具有的多个空气导引装置74从下方被支撑，空气导引装置64、74通过对基板P的下面喷出加压气体，来悬浮支撑基板P(非接触支撑)。此外，图9所示的基板驱动装置36的构成由于与上述第1实施形态相同，因此省略说明。
以下，使用图11(A)～图12(C)说明第2实施形态的基板交换动作。图11(A)显示保持有曝光完毕的基板P1的基板载台装置60位于基板交换位置(悬垂支撑装置50a的下方)的状态。又，于基板交换装置70的空气导引装置74上载置有基板P2。配置于基板交换位置的基板载台装置60，如图11(B)所示，悬垂支撑装置50a将空气导引装置64上升驱动至能吸附保持(悬垂支撑)基板P1的位置。悬垂支撑装置50a吸附保持基板P1，与上述第1实施形态同样地，使基板P1从基板P2的动作路径退避至基板P2对基板载台装置60的搬入动作结束为止。又，在基板交换装置70，吸附垫44吸附保持基板P2。
在基板P1被移交至悬垂支撑装置50a后，如图11(C)所示，下降驱动空气导引装置64。此时，是控制Z致动器68使空气导引装置64上面的Z位置成为与基板交换装置70的空气导引装置74上面的Z位置大致相同(或低些许)。在此状态下，是将空气导引装置74的Z位置设定成空气导引装置64的上面位于较基板保持具62的上面更靠+Z侧。
其次，如图12(A)所示，吸附垫44被驱动往-X方向。藉此，基板P2沿通过空气导引装置74的上面与空气导引装置64的上面形成的导引面移动，从空气导引装置74上移载至空气导引装置64上。以下，虽未图示，但吸附垫44在解除基板P2的吸附保持后，通过被驱动往-Z方向、以及+X方向而从基板P2与基板保持具62上面之间被拔除后，如图12(B)所示，下降驱动空气导引装置64，基板P2载置于基板保持具62的上面。进而，虽未图示，但吸附垫44是被驱动往+Z方向、以及-X方向，而吸附保持基板P1的下面。又，在基板交换装置70，上升驱动空气导引装置74。此时，是控制Z致动器78以使空气导引装置74的上面较保持于悬垂支撑装置50a的基板P1的下面的Z位置略靠-Z侧。
此后，如图12(C)所示，从空气导引装置74上面喷出加压气体，吸附垫44被驱动往+X方向。藉此，基板P1沿多个非接触夹具装置52以及多个空气导引装置74的各个所规定的导引面移动，而载置于多个空气导引装置74上。以下，与上述第1实施形态同样地，在多个空气导引装置74上，使用外部搬送机械臂99(在图12(C)中为未图示)进行基板P1与基板P2的后预定进行曝光处理的其他基板(未图示)的交换动作(参照图7(B)～图8(B))。
根据以上说明的第2实施形态，由于是与上述第1实施形态同样地，使曝光完毕的基板P1从基板P2的搬入路径退避，较该基板P1的搬出动作优先地进行基板P2的搬入动作，因此能缩短基板P的交换时间。
又，本第2实施形态中，由于多个空气导引装置74能上下动，因此即使不使多个非接触夹具装置52下降驱动，亦能将基板P1从退避位置直接搬出。因此，如图12(C)所示，能在使基板载台装置60位于基板交换位置的状态下，进行基板P1的搬出(亦能与对基板P2的预对准动作并行)，能缩短基板P的交换动作所需的时间。又，由于基板载台装置60所具有的多个空气导引装置64能上下动，因此能将基板P从基板载台装置60移交至悬垂支撑装置50a。因此，能固定多个非接触夹具装置52的Z位置，能使悬垂支撑装置50a的构成简单。
此外，上述第2实施形态的液晶曝光装置的构成能适当变更。例如，亦可如图10(B)所示的基板载台装置60a般，将X轴方向尺寸较上述第2实施形态的空气导引装置64(参照图10(A))短的多个(本变形例中为例如三个)空气导引装置64a于X轴方向以既定间隔收容于X槽62a内。多个空气导引装置64a，通过形成于用以规定X槽62a的底面的凹部62c内所收容的Z致动器69(例如汽缸装置)被同步驱动。又，虽未图标，但基板交换装置70的空气导引装置74(参照图9)亦可同样地构成。
《第3实施形态》
其次，使用图13(A)～图14(B)说明第3实施形态(及其变形例)。本第3实施形态中，虽基板载台装置60的构成与上述第2实施形态相同，悬垂支撑装置50的构成与上述第1实施形态相同，但基板交换动作时的动作(主控制装置的控制)相异。又，基板交换装置70a，虽与图9所示的上述第2实施形态同样地具有多个空气导引装置74(在图13(A)～图14(B)中隐藏于纸面深度方向)，但不具有相当于基板驱动装置36(参照图9)的要素。
第3实施形态中，是利用基板P的自重进行基板P的搬送。图13(A)是显示将曝光完毕的基板P1移交至悬垂支撑装置50后的状态。在基板载台装置60的多个(在图13(A)～图14(B)中隐藏于纸面深度方向)的空气导引装置64将基板P1移交至悬垂支撑装置50后被下降驱动这点虽与上述第2实施形态相同，但在本第3实施形态中，是控制Z致动器68以使空气导引装置64的+X侧(基板交换装置70a侧)端部的Z位置较-X侧端部的Z位置高、亦即通过多个空气导引装置64形成的导引面成为相对XY平面的倾斜面。
又，基板载台装置70a的多个(在图13(A)～图14(B)中隐藏于纸面深度方向)的空气导引装置74亦同样地，是控制Z致动器78以使+X侧端部的Z位置较-X侧(基板载台装置60侧)端部的Z位置高、亦即通过多个空气导引装置74形成的导引面成为相对XY平面的倾斜面。此处，Z致动器68、78的各个，被控制成多个空气导引装置64以及空气导引装置74的各个所形成的导引面形成单一的(无段差(或段差小至不会对基板P2的移动造成影响))导引面。具体而言，多个空气导引装置64以及空气导引装置74的各个所形成的导引面(倾斜面)的角度被设为彼此大致相同，且多个空气导引装置64所形成的导引面的+X侧端部的Z位置与多个空气导引装置74所形成的导引面的-X侧端部的Z位置被设为大致相同(实际上，通过多个空气导引装置74所形成的导引面较高些许)。
藉此，由于基板P2被多个空气导引装置64、74以非接触方式(以实质上可忽视摩擦的状态)支撑，因此如图13(B)所示，基板P2由于自重沿着通过多个空气导引装置64、74所形成的导引面从多个空气导引装置74上往多个空气导引装置64上移动。以下，与上述第1实施形态同样地，使用X按压销装置25x(参照图2)等进行预对准动作后，如图13(C)所示，下降驱动多个空气导引装置74，藉此基板P2被基板保持具62吸附保持。
又，本第3实施形态中，曝光完毕的基板P1的搬出亦利用该基板P1的自重进行。亦即，与上述基板P2的预对准动作并行地，悬垂支撑装置50，是以通过多个非接触夹具装置52所形成的基板保持面相对XY平面倾斜的方式、具体而言是上述基板保持面的+X侧(基板交换装置70a侧)端部的Z位置较-X侧端部的Z位置低的方式，控制多个Z致动器56(图13(C)中未图示，参照图1等)。
又，基板交换装置70a，多个空气导引装置74的各个被驱动成通过多个空气导引装置74所形成的导引面的倾斜角度与上述悬垂支撑装置50的基板保持面的倾斜角度成为大致相同。因此，基板P1是沿着悬垂支撑装置50的基板保持面及/或多个空气导引装置74所形成的导引面移动，而被载置于多个空气导引装置74上。此外，亦可将用以使从悬垂支撑装置50搬出的基板P2在多个空气导引装置74上的所欲位置停止的制动器装置配置于基板交换装置70。
根据以上说明的第3实施形态，由于基板交换装置70a不具有用以驱动基板P的要素，因此构成简单。
此外，上述第3实施形态的液晶曝光装置的构成能适当变更。例如，如图14(B)所示的悬垂支撑装置50b，支撑构件54b被构成得较长，以使通过多个非接触夹具装置52所形成的基板保持面的+X侧端部较基板保持具62的+X侧端部往X侧突出，该突出的部分在上下方向与基板交换装置70a的空气导引装置74的-X侧端部近旁重迭。藉此，能将基板P1更顺畅地从悬垂支撑装置50b移交至多个空气导引装置74上。
《第4实施形态》
其次使用图15(A)～图17(B)说明第4实施形态。第4实施形态的液晶曝光装置，基板载台装置60上的基板P的交换动作是通过配置于液晶曝光装置外部的外部搬送机械臂99进行。此外，基板载台装置60的构成是与上述第2实施形态相同(不过，控制相异)，悬垂支撑装置50b除了在Z轴方向的可移动行程较长这点以外，其他是与上述第1实施形态的悬垂支撑装置50(参照图1等)相同的构成(不过，控制相异)。此外，未设有相当于上述第1实施形态的基板交换装置30或上述第2实施形态的基板交换装置70的要素。
图15(A)显示保持有曝光完毕的基板P1的基板载台装置60位于基板交换位置(悬垂支撑装置50b的下方)的状态。又，于基板交换位置的+X侧区域，有支撑有基板P2的外部搬送机械臂99的臂构件98待机中。此外，支撑有基板P2的臂构件98的待机位置，亦可是收容有基板载台装置60及悬垂支撑装置50b的未图示的处理室的内侧，亦可是该处理室的外侧。当支撑有基板P2的臂构件98的待机位置为处理室的外侧时，以下说明的基板载台装置60上的基板交换动作是透过形成于处理室的开口部进行。
此处，本第4实施形态中，外部搬送机械臂99的臂构件98具有于Y轴方向以既定间隔配置的多个支撑部98a(在图15(A)～图17(B)中重迭于纸面深侧)，基板载台装置60具有于Y轴方向以既定间隔配置的多个空气导引装置64(在图15(A)～图17(B)中重迭于纸面深侧)。又，多个支撑部98a及多个空气导引装置64，其Y轴方向之间隔被设定为在使臂构件98位于基板保持具62上方的状态下Y轴方向的位置不相互重迭(空气导引装置64可通过相邻接的支撑部98a间)。因此，本第4实施形态的外部搬送机械臂99的臂构件98、及/或多个空气导引装置64的构成实际上虽与图2或图9相异，但此处为了说明方便是使用相同符号来说明。
如图15(B)所示，本第4实施形态中，通过上升驱动位于基板交换位置的基板载台装置60的多个空气导引装置64，将曝光完毕的基板P1移交至悬垂支撑装置50b。其次，如图15(C)所示，上升驱动保持有基板P1的多个非接触夹具装置52，在通过悬垂支撑装置50b的基板保持面与多个空气导引装置64所形成的导引面之间形成宽广空间。此后，如图16(A)所示，支撑有基板P2的外部搬送机械臂99的臂构件98插入上述空间。
以下，通过如图16(B)箭头所示下降驱动臂构件98(亦可上升驱动多个空气导引装置64)，基板P2被多个空气导引装置64从下方支撑，进而通过臂构件98被驱动往+X方向，该臂构件98从悬垂支撑装置50b下方退避。其次，如图16(C)所示，下降驱动多个空气导引装置64，基板P2被载置于基板保持具62上。又，并行地将外部搬送机械臂99的臂构件98驱动往+Z方向。又，在进行从上述外部搬送机械臂99的臂构件98往基板保持具62的基板P2的移交动作中，基板P1与上述第1～第3实施形态同样地在基板交换位置待机。
以下，如图17(A)所示，保持有基板P2的基板载台装置20从基板交换位置离开，并行地外部搬送机械臂99的臂构件98被驱动往-X方向，藉此配置于悬垂支撑装置50b下方，在该状态下多个非接触夹具装置52被下降驱动，藉此基板P1被载置于外部搬送机械臂99的臂构件98上。以下，解除悬垂支撑装置50b对基板P1的悬垂支撑，且支撑有基板P1的臂构件98在吸附保持基板P1后被驱动往+X方向，该基板P1被搬送至外部装置(例如涂布显影装置)。又，并行地多个非接触夹具装置52被上升驱动。
根据以上说明的本第4实施形态，由于在基板载台装置60与外部搬送机械臂99之间直接进行基板P的移交动作，因此不需要设置将基板P搬送至液晶曝光装置内的装置(例如相当于上述第1实施形态(参照图7(C)～图8(B))的基板交换装置30的装置)，能使液晶曝光装置的构成简单。此外，本第4实施形态中，基板载台装置60虽具有与上述第2实施形态相同的空气导引装置64，但由于基板P不沿该空气导引装置64移动，因此亦可使用如升降销装置的不具有导引功能的装置。
此外，以上说明的第1～第4实施形态(包含其变形例，以下同)的构成能适当变更。在例如上述第1～第4实施形态中，非接触夹具装置52虽是通过以高速使气体通过与基板P的上面之间以对该基板P作用重力方向往上(+Z方向)的力，但不限于此，亦可使用吸引基板P的上面侧的气体以使+Z方向的力作用于该基板P且对该基板P喷出气体来保持与该基板P之间的空隙的所谓的真空预装载空气轴承(vacuum preload airbearing)。
又，上述第1～第4实施形态中，搬出对象的基板P，虽是通过非接触夹具装置52从上方被保持图案面(上面)，但只要能使基板P从基板保持具26、62离开，则悬垂支撑装置的构成能适当变更，例如使用多个从下面侧接触支撑基板P的端部近旁(从基板保持具26的端部往外侧突出的区域)的支撑构件(例如使吸附垫44(参照图1)上下相反的L字状构件)(亦可与非接触夹具装置52并用)来从上方支撑基板P。
又，上述第1及第2实施形态中，在基板P的搬入及搬出时使基板P移动的基板驱动装置36虽设于基板交换装置30，但不限于此，亦可于基板载台装置20侧(或者基板交换装置30及基板载台装置20的各个)设有驱动基板P的装置。
又，上述第1～第4实施形态(及变形例)中，虽是在使曝光完毕的基板P1悬垂支撑于悬垂支撑装置50(50a,50b)的状态下进行次一基板P2对基板保持具26的搬入动作，但基板交换动作的步骤不限于此，例如亦可在基板P1的曝光动作中使用基板交换装置30将次一基板P2预先从多个空气导引装置38上移交至悬垂支撑装置50(预先使次一基板P2待机于基板交换位置)，在对基板P1的曝光动作结束后，在悬垂支撑装置50(50a,50b)下方进行从移动至基板交换位置的基板保持具26搬出基板P1的搬出动作，其后，通过将非接触夹具装置52下降驱动，来将基板P2载置于基板保持具26上。
照明光可以是ArF准分子激光(波长193nm)、KrF准分子激光(波长248nm)等的紫外光、或F2激光(波长157nm)等真空紫外光。此外，作为照明光，亦可使用例如将从DFB半导体激光或光纤激光发出的红外线带或可见光带的单一波长激光以例如掺杂有铒(或铒及镱两者)的光纤放大器加以増幅，使用非线性光学结晶加以波长转换为紫外光的谐波。再者，亦可使用固体激光(波长：355nm、266nm)等。
又，虽是针对投影光学系16是具备多支投影光学系的多透镜方式的投影光学系的情形作了说明，但投影光学系的支数不限于此，只要是一支以上即可。此外，不限于多透镜方式的投影光学系，亦可以是例如使用欧夫那(Ofner)型大型反射镜的投影光学系等。又，作为投影光学系16，亦可是放大系或缩小系。
又，关于曝光装置的用途，并不限定于将液晶显示组件图案转印至角型的玻璃板的液晶用的曝光装置，亦可广泛适用于例如用来制造有机EL(Electro-Luminescence)面板制造用的曝光装置、半导体制造用的曝光装置、薄膜磁头、微型机器及DNA芯片等的曝光装置。又，除了制造半导体组件等微型组件以外，为了制造用于光曝光装置、EUV曝光装置、X射线曝光装置及电子射线曝光装置等所使用的掩膜或标线片，亦能适用于用以将电路图案转印至玻璃基板或硅晶圆等的曝光装置。
又，曝光对象的物体并不限玻璃板，亦可是例如晶圆、陶瓷基板、膜构件、或者掩膜基板等其他物体。又，当曝光对象物为平面显示器用的基板时，其基板的厚度不特别限定，例如亦包含膜状(具有可挠性的片状构件)者。此外，本实施形态的曝光装置特别是对一边长度或对角长为500mm以上的基板为曝光对象物的情形尤其有效。
液晶显示组件(或半导体组件)等电子组件，是经由下述步骤等所制造，即：进行组件的功能、性能设计的步骤、根据此设计步骤制作掩膜(或标线片)的步骤、制造玻璃基板(或晶圆)的步骤、依据上述各实施形态的曝光装置及其曝光方法将掩膜(标线片)的图案转印至玻璃基板的光刻步骤、使曝光后的玻璃基板显影的显影步骤、通过蚀刻除去抗蚀剂残存的部分以外的部分的露出构件的蚀刻步骤、除去因蚀刻结束而不需要的抗蚀剂的抗蚀剂除去步骤、组件组装步骤、检查步骤等。此情形下，在光刻步骤中，由于使用上述各实施形态的曝光装置执行所述曝光方法，于玻璃基板上形成组件图案，因此能以良好生产性制造高集成度的组件。
此外，援用上述说明所引用的关于曝光装置的所有公报、国际公开公报、美国专利及美国专利申请公开说明书的揭示作为本说明书记载的一部分。
产业上的可利用性
如以上所说明，本发明的物体交换方法适于交换物体保持装置上的物体。又，本发明的平面显示器的制造方法适于生产平面显示器。又，本发明的组件制造方法适于微型组件的生产。

Claims (39)

1.一种物体交换方法，是在物体交换位置交换物体，其包含：
以使位于所述物体交换位置的第1物体保持装置所具有的第1保持面所保持的第1物体从所述第1保持面分离的方式悬垂支撑于位于所述第1物体保持装置的上方的支撑装置的动作；
在悬垂支撑于所述支撑装置的所述第1物体与所述第1保持面之间，第2物体保持装置所具有的第2保持面所保持的第2物体被所述第1保持面与所述第2保持面以非接触状态保持，使所述第2物体沿着所述第1保持面与所述第2保持面搬入所述第1保持面的动作；以及
在将所述第2物体搬入所述第1保持面后将所述第1物体从所述支撑装置往所述第2物体保持装置搬出的动作。
2.如权利要求1所述的物体交换方法，其中，所述搬出的动作，是通过使所述第1物体沿着所述第2保持面移动以将所述第1物体从所述支撑装置搬出。
3.如权利要求1所述的物体交换方法，其中，所述第1物体以保持于所述第1物体保持装置的状态其一面对向于该第1物体保持装置；
所述悬垂支撑的动作，是使所述第1物体的另一面以非接触状态悬垂支撑于所述支撑装置。
4.如权利要求3所述的物体交换方法，其中，所述悬垂支撑的动作，是通过使气体高速通过所述支撑装置与所述第1物体之间，以使重力方向往上的力作用于该第1物体。
5.如权利要求1所述的物体交换方法，其中，所述搬入的动作，是沿通过所述第1及第2保持面而形成的搬入用导引面使所述第2物体移动。
6.如权利要求5所述的物体交换方法，其中，所述搬出的动作，是沿通过所述支撑装置与所述第2保持面而形成的搬出用导引面，使所述第1物体移动。
7.如权利要求1至6任一项所述的物体交换方法，其中，所述搬入的动作及所述搬出的动作，是使用共同的驱动装置使所述第1和第2物体移动。
8.如权利要求7所述的物体交换方法，其中，在所述搬出的动作中的所述第1物体的移动路径与在所述搬入的动作中的所述第2物体的移动路径相同。
9.如权利要求6所述的物体交换方法，其中，所述搬入的动作包含使所述搬入用导引面相对水平面倾斜，通过所述第2物体的自重使该第2物体移动的动作；
所述搬出的动作包含使所述搬出用导引面相对水平面倾斜，通过所述第1物体的自重使该第1物体移动的动作。
10.一种物体交换系统，是在物体交换位置交换物体，其具备：
第1物体保持装置，具有能保持第1物体的第1保持面；
第2物体保持装置，在既定方向设于与所述第1物体保持装置不同的位置，具有能保持与所述第1物体不同的第2物体的第2保持面；
支撑装置，配置于位于所述物体交换位置的所述第1保持装置上方，使所述第1保持面上的所述第1物体从所述第1保持面分离并加以悬垂支撑；以及
驱动装置，在支撑于所述支撑装置的所述第1物体与所述第1保持面之间，保持于所述第2保持面的所述第2物体被所述第1保持面与所述第2保持面以非接触状态保持，使所述第2物体沿着所述第1保持面与所述第2保持面搬入所述第1保持面，将悬垂支撑于所述支撑装置的所述第1物体从所述支撑装置往所述第2物体保持装置搬出。
11.如权利要求10所述的物体交换系统，其中，所述驱动装置，是通过使所述第1物体沿着所述第2保持面移动而将所述第1物体从所述支撑装置搬出。
12.如权利要求11所述的物体交换系统，其中，所述第1及第2保持面，是将所述第1物体或所述第2物体以悬浮的状态保持；
所述驱动装置，使悬浮的所述第1物体或所述第2物体移动。
13.如权利要求10所述的物体交换系统，其中，所述第1物体以保持于所述第1物体保持装置的状态其一面对向于该第1物体保持装置；
所述支撑装置，是将所述第1物体的另一面以非接触状态悬垂支撑。
14.如权利要求11所述的物体交换系统，其中，所述支撑装置，是通过使气体高速通过其与所述第1物体之间，以使沿重力方向往上的力作用于所述第1物体。
15.如权利要求12所述的物体交换系统，其中，所述驱动装置，是沿通过所述第1及第2保持面而形成的搬入用导引面使所述第2物体往所述第1保持面移动。
16.如权利要求15所述的物体交换系统，其中，所述驱动装置，是沿通过所述支撑装置与所述第2保持面而形成的搬出用导引面，使所述第1物体移动以将所述第1物体搬出。
17.如权利要求10至16项任一项所述的物体交换系统，其中，所述驱动装置在所述第2物体的搬入时及所述第1物体的搬出时，是使用共同的驱动装置使所述第2物体及所述第1物体移动。
18.如权利要求17所述的物体交换系统，其中，所述驱动装置在所述第2物体的搬入时及所述第1物体的搬出时，是沿相同移动路径使所述第2物体及所述第1物体移动。
19.如权利要求16所述的物体交换系统，其中，所述第1物体保持装置及所述驱动装置在所述第2物体的搬入时，使所述搬入用导引面相对水平面倾斜，通过所述第2物体的自重使该第2物体移动；
所述支撑装置及所述驱动装置在所述第1物体的搬出时使所述搬出用导引面相对水平面倾斜，通过所述第1物体的自重使所述第1物体移动。
20.如权利要求19所述的物体交换系统，其中，所述支撑装置的对向于所述第1物体的面部与所述第2保持面的对向于所述第1物体的面部至少一部分在上下方向重叠。
21.一种曝光装置，具备：
权利要求10至20任一项所述的物体交换系统；以及
使用能量束于保持于所述第1物体保持装置的所述第1物体，形成既定图案的图案形成装置。
22.如权利要求21所述的曝光装置，其中，所述物体是用于平面显示器装置的基板。
23.如权利要求22所述的曝光装置，其中，所述基板至少一边的长度或对角长为500mm以上。
24.一种平面显示器的制造方法，其包含：
使用权利要求21至23任一项所述的曝光装置使所述物体曝光的动作；以及
使曝光后的所述物体显影的动作。
25.一种组件制造方法，其包含：
使用权利要求21所述的曝光装置使所述物体曝光的动作；以及
使曝光后的所述物体显影的动作。
26.一种物体移动装置，其具备：
第1支撑装置，设成与位于物体交换位置的物体保持装置对向，且具有第1支撑面，所述第1支撑面以使所述物体保持装置所具有的保持面所保持的物体从所述保持面分离的方式，以非接触方式支撑所述物体的上面；
第2支撑装置，具有第2支撑面，所述第2支撑面以非接触方式支撑所述上面被所述第1支撑装置以非接触方式支撑的所述物体的下面；以及
驱动部，在所述物体通过所述第1支撑装置及所述第2支撑装置被以非接触方式分别支撑所述上面与所述下面的状态下，相对于所述第1支撑装置与所述第2支撑装置使所述物体移动。
27.如权利要求26所述的物体移动装置，其中，所述第1支撑装置，以所述物体被所述第1支撑装置与所述第2支撑装置以非接触方式支撑的方式相对所述第2支撑装置移动。
28.如权利要求26所述的物体移动装置，其中，具备保持所述物体的保持装置；
所述第1支撑装置，在以非接触方式支撑所述物体的所述上面的状态下使所述物体从所述保持装置分离。
29.如权利要求28所述的物体移动装置，其中，所述第2支撑装置支撑与所述物体不同的其他物体；
所述驱动部，对通过所述第1支撑装置使所述物体已从所述保持装置分离的所述保持装置，使所述第2支撑装置上的所述其他物体移动。
30.如权利要求29所述的物体移动装置，其中，所述驱动部，将所述其他物体插入所述物体与所述保持装置之间的位置。
31.如权利要求29或30所述的物体移动装置，其中，所述保持装置以接近所述第2支撑装置的方式移动；
所述驱动部，以沿着所述保持装置的表面与所述第2支撑装置的表面的方式使所述其他物体移动。
32.如权利要求31所述的物体移动装置，其中，所述保持装置，移动至在上下方向与所述第1支撑装置重迭的位置。
33.如权利要求32所述的物体移动装置，其中，所述保持装置，在保持所述其他物体的状态下往从所述第2支撑装置离开的方向移动。
34.一种曝光装置，具备：
权利要求29至33任一项所述的物体移动装置；以及
使用能量束于保持于所述保持装置的所述其他物体，形成既定图案的图案形成装置。
35.如权利要求34所述的曝光装置，其中，被所述第1支撑装置与所述第2支撑装置以非接触方式支撑的所述物体，是通过所述图案形成装置而形成有所述既定图案的物体。
36.如权利要求34或35所述的曝光装置，其中，所述物体及所述其他物体是用于平面显示器装置的基板。
37.如权利要求36所述的曝光装置，其中，所述基板至少一边的长度或对角长为500mm以上。
38.一种平面显示器的制造方法，其包含：
使用权利要求34至37任一项所述的曝光装置使所述物体曝光的动作；以及
使曝光后的所述物体显影的动作。
39.一种组件制造方法，其包含：
使用权利要求34至37任一项所述的曝光装置使所述物体曝光的动作；以及
使曝光后的所述物体显影的动作。
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