CN107346093A - 一种纳米压印机卡位机构 - Google Patents

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赵敏洁
杨彦涛
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Wuxi Imprint Nano Technology Co Ltd
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

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Abstract

本发明公开了一种纳米压印机卡位机构，包括支撑平台、下压平台、模型压头和液压升降缸，所述支撑平台上固定设置有限位平台，所述限位平台为空心结构，所述限位平台上分别设置有横向的第一开口和纵向的第二开口，所述限位平台内设置有伸缩电机，所述限位平台具备四个伸缩轴，所述四个伸缩轴上均设置有限位杆，所述四个限位杆分别穿过第一开口和第二开口朝着限位平台上方延伸。本发明与现有技术相比，通过对伸缩电机中四个伸缩轴的位置参数的分别设定，使得能够对支撑平台上的待压印的产品的位置进行精确化的限位固定，从而大幅提升了产品在支撑平台上的位置精确度，因此大幅提升了压印的位置精确度，产品的压印质量得到了提升和保障。

Description

一种纳米压印机卡位机构
技术领域
本发明属于纳米压印技术领域，具体涉及一种纳米压印机卡位机构。
背景技术
现有的纳米压印机主要是通过模型压头对产品进行压印成型，但是由于产品的规格和大小不一，产品放置于支撑平台上是，位置存在一定的误差，这样就导致模型压头和产品的接触位置存在误差，从而使得压印效果不佳，产品质量较差。
发明内容
发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，提供一种能够自动精确化调整产品位置的纳米压印机卡位机构。
技术方案：为实现上述目的，本发明提供一种纳米压印机卡位机构，包括支撑平台、下压平台、模型压头和液压升降缸，所述支撑平台上固定设置有限位平台，所述限位平台为空心结构，所述限位平台上分别设置有横向的第一开口和纵向的第二开口，所述限位平台内设置有伸缩电机，所述伸缩电机具备四个伸缩轴，所述四个伸缩轴上均设置有限位杆，所述四个限位杆分别穿过第一开口和第二开口朝着限位平台上方延伸。
进一步地，所述第一开口和第二开口的长度分别等于限位平台的长度和宽度，这样使得伸缩轴的活动范围达到最大化。
进一步地，所述第一开口和第二开口的重合区域位于限位平台的中心位置。
进一步地，所述第一开口和第二开口的宽度相同且均等于伸缩轴的宽度，这样伸缩轴便不会发生左右晃动，提高了伸缩轴的稳定性。
进一步地，所述模型压头位于下压平台下端的中心位置。
有益效果：本发明与现有技术相比，通过对伸缩电机中四个伸缩轴的位置参数的分别设定，使得能够对支撑平台上的待压印的产品的位置进行精确化的限位固定，从而大幅提升了产品在支撑平台上的位置精确度，因此大幅提升了压印的位置精确度，产品的压印质量得到了提升和保障。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为限位平台的俯视图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本发明，应理解这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围，在阅读了本发明之后，本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。
如图1所示，本发明提供一种纳米压印机卡位机构，包括支撑平台1、下压平台3、模型压头4和液压升降缸8，所述支撑平台1上固定设置有限位平台2，所述限位平台2为空心结构，所述限位平台2上分别设置有横向的第一开口21和纵向的第二开口22，所述限位平台2内设置有伸缩电机6，所述伸缩电机6具备四个伸缩轴7，所述四个伸缩轴7上均设置有限位杆5，所述四个限位杆5分别穿过第一开口21和第二开口22朝着限位平台2上方延伸，所述第一开口21和第二开口22的长度分别等于限位平台2的长度和宽度，所述第一开口21和第二开口22的重合区域位于限位平台2的中心位置，所述第一开口21和第二开口22的宽度相同且均等于伸缩轴7的宽度，所述模型压头4位于下压平台3下端的中心位置。

Claims (5)

1.一种纳米压印机卡位机构，包括支撑平台(1)、下压平台(3)、模型压头(4)和液压升降缸(8)，其特征在于：所述支撑平台(1)上固定设置有限位平台(2)，所述限位平台(2)为空心结构，所述限位平台(2)上分别设置有横向的第一开口(21)和纵向的第二开口(22)，所述限位平台(2)内设置有伸缩电机(6)，所述伸缩电机(6)具备四个伸缩轴(7)，所述四个伸缩轴(7)上均设置有限位杆(5)，所述四个限位杆(5)分别穿过第一开口(21)和第二开口(22)朝着限位平台(2)上方延伸。
2.根据权利要求1所述的一种纳米压印机卡位机构，其特征在于：所述第一开口(21)和第二开口(22)的长度分别等于限位平台(2)的长度和宽度。
3.根据权利要求1或2所述的一种纳米压印机卡位机构，其特征在于：所述第一开口(21)和第二开口(22)的重合区域位于限位平台(2)的中心位置。
4.根据权利要求1所述的一种纳米压印机卡位机构，其特征在于：所述第一开口(21)和第二开口(22)的宽度相同且均等于伸缩轴(7)的宽度。
5.根据权利要求1所述的一种纳米压印机卡位机构，其特征在于：所述模型压头(4)位于下压平台(3)下端的中心位置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN206186647U (zh) * 2016-11-04 2017-05-24 苏州亨达尔工业材料有限公司 一种雕刻机定位装置

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RJ01 Rejection of invention patent application after publication
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