CN107297273A - 一种二氧化硅生产用提纯装置 - Google Patents

Abstract

本发明提出了一种二氧化硅生产用提纯装置，包括箱体、箱盖、导气装置，箱体内设有横隔板，横隔板将箱体内部分隔成第一腔室、第二腔室，横隔板上设有第一开口、第二开口；第一腔室靠近横隔板一端设有斜板，斜板与第一腔室侧壁之间围成一通道，斜板上设有通孔，第一腔室侧壁上设有进气口，进气口与通道相通；第二腔室内设有竖隔板，竖隔板将第二腔室分隔成产品室和杂质室，第一开口与产品室相通，第二开口与杂质室相通；箱盖与第一腔室远离横隔板一端活动连接，箱盖靠近第一腔室一侧分布有多根柱体，柱体内均设有电磁铁，导气装置与进气口接通。本发明能够有效的清除二氧化硅内所含的磁性物质，提高二氧化硅的纯度。

Description

一种二氧化硅生产用提纯装置

技术领域

本发明涉及二氧化硅提纯设备技术领域，尤其涉及一种二氧化硅生产用提纯装置。

背景技术

纳米二氧化硅因为具有很好的耐磨性，以及可以强烈地反射紫外线，当加入到树脂薄膜时可大大减少紫外线对薄膜的降解作用，从而达到延缓材料老化，并提高薄膜的硬度和抗摩擦能力，因此被广泛的应用到了薄膜的合和添加中。

因为纳米材料对纯度要求很高，因此在加工纳米二氧化硅粉末之前需要用各种纯化设备对石英石进行提纯，以满足纳米二氧化硅的性能需求；现有的石英石纯化工艺通常按照以下流程进行；擦洗脱泥→磁选→浮选→酸浸→微生物浸出。其中磁选主要用于除去石英砂中的磁性矿物，如可以通过强磁性机除去赤铁矿、褐铁矿、黑云母等弱磁性矿物，而强磁性矿物如磁铁矿则可以通过弱磁选机除去。

现有的磁选设备主要是干粉振动式、筒式和辊式等类型，以上几种类型的磁选机在清理吸附在磁铁上的物质比较麻烦，通常不是利用高压水进行冲洗就是需要通过卸铁装置来清理吸附在机器上的磁性物质，此种操作不仅费时费力还浪费资源。

发明内容

为了解决背景技术中存在的技术问题，本发明提出了一种二氧化硅生产用提纯装置，能够有效的清除石英砂内所含磁性物质，提高石英砂的纯度，工作效率高。

本发明提出的一种二氧化硅生产用提纯装置，包括箱体、箱盖、导气装置，其中：

箱体内设有横隔板，横隔板将箱体内部分隔成第一腔室、第二腔室，横隔板上设有第一开口、第二开口，第一开口内设有第一活动门，第二开口内设有第二活动门；第一腔室靠近横隔板一端设有斜板，斜板与第一腔室侧壁之间围成一通道，斜板上设有通孔，第一腔室侧壁上设有进气口，进气口与通道相通；第二腔室内设有竖隔板，竖隔板将第二腔室分隔成产品室和杂质室，第一开口与产品室相通，第二开口与杂质室相通，产品室内设有第一出料口，杂质室内设有第二出料口；

箱盖与第一腔室远离横隔板一端可拆卸连接，箱盖靠近第一腔室一侧分布有多根柱体，柱体内均设有电磁铁，电磁铁与外部电源连接；

导气装置与进气口接通。

优选的，箱盖可相对于箱体做转动运动。

优选的，第一腔室远离横隔板一端侧壁山设有环形滑槽，箱盖上靠近第一腔室一端设有与环形滑槽滑动配合的环形凸起，箱盖与驱动装置连接。

优选的，导气装置包括导气管和风机，导气管一端与进气口相通，另一端与风机相接。

优选的，斜板为倒圆台形，斜板一端与横隔板固定连接，另一端与第一腔室内壁固定连接。

在本发明中，箱体内设有横隔板，横隔板将箱体内部分隔成第一腔室、第二腔室，横隔板上设有第一开口、第二开口；第一腔室靠近横隔板一端设有斜板，斜板与第一腔室侧壁之间围成一通道，斜板上设有通孔，第一腔室侧壁上设有进气口，进气口与通道相通；第二腔室内设有竖隔板，竖隔板将第二腔室分隔成产品室和杂质室，第一开口与产品室相通，第二开口与杂质室相通；箱盖与第一腔室远离横隔板一端活动连接，箱盖靠近第一腔室一侧分布有多根柱体，柱体内均设有电磁铁，电磁铁与外部电源连接；导气装置与进气口接通。本发明工作时，先将箱盖打开，关闭第一活动门、第二活动门，将适量待提纯的二氧化硅加进第一腔室内，盖上箱盖，电磁铁与外部电源接通，导气装置向第一腔室内导入空气，使二氧化硅不断跳动，磁性物质就不会受到二氧化硅的阻挡从而吸附到柱体上，磁性矿物全部吸附到柱体上时，先打开第一活动门，二氧化硅从第一开口进入产品室并从第一出料口出料，二氧化硅出料完成之后，关闭第一活动门，打开第二活动门，将电磁铁与外部电源断开，柱体上吸附的磁选物质脱落从第二开口进入杂质室并从第二出料口出料。本发明结构简单，使用方便，能够有效的清除二氧化硅内所含的磁性物质，提高二氧化硅的质量，工作效率高。

附图说明

图1为本发明提出的一种二氧化硅生产用提纯装置结构示意图；

图2为本发明提出的一种二氧化硅生产用提纯装置工作时结构示意图。

具体实施方式

参照图1、图2，本发明提出一种二氧化硅生产用提纯装置，包括箱体1、箱盖2、导气装置，其中：

箱体1内设有横隔板4，横隔板4将箱体1内部分隔成第一腔室11、第二腔室，横隔板4上设有第一开口41、第二开口42，第一开口41内设有第一活动门43，第二开口42内设有第二活动门44；第一腔室11靠近横隔板4一端设有斜板6，斜板6为倒圆台形，斜板6一端与横隔板4固定连接，另一端与第一腔室11内壁固定连接；斜板6与第一腔室11侧壁之间围成一通道113，斜板6 上设有通孔61，第一腔室11侧壁上设有进气口112，进气口112与通道113相通；第二腔室内设有竖隔板5，竖隔板5将第二腔室分隔成产品室12和杂质室 13，第一开口41与产品室12相通，第二开口42与杂质室13相通，产品室12 内设有第一出料口121，杂质室13内设有第二出料口131。

第一腔室11远离横隔板4一端侧壁上设有环形滑槽111，箱盖2上靠近第一腔室11一端设有与环形滑槽111滑动配合的环形凸起23，箱盖2与驱动装置 7连接。箱盖2靠近第一腔室11一侧分布有多根柱体21，柱体21内均设有电磁铁22，电磁铁22与外部电源连接。

如图1、图2所示，本实施例中导气装置包括导气管31和风机32，导气管 31一端与进气口112相通，另一端与风机32相接。

本发明提出的一种二氧化硅生产用提纯装置，工作时，先将箱盖2打开，关闭第一活动门43、第二活动门44，将适量待提纯的二氧化硅加进第一腔室11 内，盖上箱盖2，电磁铁22与外部电源接通，驱动装置7驱动箱盖2转动，柱体21与二氧化硅充分接触，导气装置向第一腔室11内导入空气，使二氧化硅不断跳动，磁性物质就不会受到二氧化硅的阻挡从而吸附到柱体21上，磁性矿物全部吸附到柱体21上时，先打开第一活动门43，二氧化硅从第一开口41进入产品室12并从第一出料口121出料，二氧化硅出料完成之后，关闭第一活动门43，打开第二活动门44，将电磁铁22与外部电源断开，柱体21上吸附的磁选物质脱落从第二开口42进入杂质室13并从第二出料口131出料。本发明结构简单，使用方便，能够有效的清除二氧化硅内所含的磁性物质，提高二氧化硅的纯度，工作效率高。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种二氧化硅生产用提纯装置，其特征在于，包括箱体(1)、箱盖(2)、导气装置，其中：

箱体(1)内设有横隔板(4)，横隔板(4)将箱体(1)内部分隔成第一腔室(11)、第二腔室，横隔板(4)上设有第一开口(41)、第二开口(42)，第一开口(41)内设有第一活动门(43)，第二开口(42)内设有第二活动门(44)；第一腔室(11)靠近横隔板(4)一端设有斜板(6)，斜板(6)与第一腔室(11)侧壁之间围成一通道(113)，斜板(6)上设有通孔(61)，第一腔室(11)侧壁上设有进气口(112)，进气口(112)与通道(113)相通；第二腔室内设有竖隔板(5)，竖隔板(5)将第二腔室分隔成产品室(12)和杂质室(13)，第一开口(41)与产品室(12)相通，第二开口(42)与杂质室(13)相通，产品室(12)内设有第一出料口(121)，杂质室(13)内设有第二出料口(131)；

箱盖(2)与第一腔室(11)远离横隔板(4)一端可拆卸连接，箱盖(2)靠近第一腔室(11)一侧分布有多根柱体(21)，柱体(21)内均设有电磁铁(22)，电磁铁(22)与外部电源连接；

导气装置与进气口(112)接通。

2.根据权利要求1所述的二氧化硅生产用提纯装置，其特征在于，箱盖(2)可相对于箱体(1)做转动运动。

3.根据权利要求2所述的二氧化硅生产用提纯装置，其特征在于，第一腔室(11)远离横隔板(4)一端侧壁上设有环形滑槽(111)，箱盖(2)上靠近第一腔室(11)一端设有与环形滑槽(111)滑动配合的环形凸起(23)，箱盖(2)与驱动装置(7)连接。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的二氧化硅生产用提纯装置，其特征在于，导气装置包括导气管(31)和风机(32)，导气管(31)一端与进气口(112)相通，另一端与风机(32)相接。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的二氧化硅生产用提纯装置，其特征在于，斜板(6)为倒圆台形，斜板(6)一端与横隔板(4)固定连接，另一端与第一腔室(11)内壁固定连接。