CN107168593A - 一种触控电极及触控电极制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种触控电极及触控电极制作方法，涉及显示技术领域，以解决现有触控显示装置出现蚀刻痕的问题，从而提高触控显示装置的显示效果。所述触控电极包括：触控电极层，每个触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直触控电极层方向的截面形状为弧形。所述触控电极制作方法包括上述技术方案所提的触控电极。本发明提供的触控电极用于触控显示装置。

Description

一种触控电极及触控电极制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控电极及触控电极制作方法。

背景技术

触控显示装置是一种可以直接用手或者其它物体接触触控显示屏以输入信息的显示装置。在触控显示装置的工作过程中，设于触控显示装置内部的触控电极感应手或其它物体的接触位置，并根据接触信息进行相应的控制动作。

但是，现有的触控显示装置中，相邻的触控电极之间的间隙的段差坡度角近似为直角，导致后续贴合胶材与触控面板触控电极之间的间隙的段差部难以较好的贴合，使得在触控显示装置的显示过程中，人眼在间隙区域观看到蚀刻痕，影响触控显示装置的显示效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种触控电极及触控电极制作方法，用于改善相邻的触控电极之间的间隙形貌。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种触控电极，其特征在于，包括触控电极层，每个所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个所述触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形。

与现有技术相比，本发明提供的触控电极中，包括触控电极层，每个触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个触控电极部由间隙隔开，且间隙沿垂直触控电极层方向的截面形状为弧形，这样，在后续通过贴合胶材将触控面板与盖板贴合时，使得贴合胶材能够沿着间隙的弧形走向与间隙贴合，从而保证贴合胶材与间隙之间避免出现空气层，这样制得的触控显示装置在工作过程中，入射光在间隙区域的反射率就能接近于零，解决了现有技术中因为贴合胶材与间隙之间出现空气层，所引起的反射光进入人眼，造成人眼观看到蚀刻痕的问题，从而提高了制得的触控显示装置的显示效果。

本发明还提供一种触控电极制作方法，包括：

在基板形成导电涂层；

对导电涂层进行图形化，得到触控电极层，每个所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形。

与现有技术相比，本发明提供的触控电极制作方法的有益效果与上述技术方案提供的触控电极的有益效果相同，在此不再赘述。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为现有技术中制得的触控电极的结构示意图；

图2为不同角度的入射光穿过现有技术中制得的触控电极的间隙的反射率图；

图3为不同角度的入射光穿过现有技术中制得的触控电极的触控电极区域的反射率图；

图4为本发明实施例提供的触控电极制作方法的流程图；

图5为本发明实施例提供的触控电极制作方法，在制备单层触控电极时的方法流程图；

图6为本发明实施例制备单层触控电极时，在基板形成导电涂层的结构示意图；

图7为本发明实施例制备单层触控电极时，采用第一掩膜版对导电涂层进行曝光处理的示意图；

图8为本发明实施例制备单层触控电极时，采用第二掩膜版对导电涂层进行曝光处理的示意图；

图9为本发明实施例提供的触控电极制作方法制得的单层触控电极的结构示意图；

图10为本发明实施例制备双层触控电极时，在基板形成导电涂层的方法流程图；

图11为本发明实施例提供的触控电极制作方法，在制备双层触控电极时的方法流程图；

图12为本发明实施例制备双层触控电极时，制得的双层触控电极中的靠近基板触控电极层在基板上的正投影图；

图13为本发明实施例制备双层触控电极时，制得的双层触控电极中的远离基板触控电极在基板上的正投影图；

图14为本发明实施例制备双层触控电极时，制得的双层触控电极在基板上的正投影图；

图15为本发明实施例制备双层触控电极时，在基板形成导电涂层的结构示意图一；

图16为本发明实施例制备双层触控电极时，在基板形成导电涂层的结构示意图二；

图17为本发明实施例制备双层触控电极时，在基板形成导电涂层的结构示意图三；；

图18为本发明实施例制备双层触控电极时，采用第一掩膜版对导电涂层进行曝光处理的示意图；

图19为本发明实施例制备双层触控电极时，采用第三掩膜版对导电涂层进行曝光处理的示意图；

图20为本发明实施例提供的触控电极制作方法制得的双层触控电极的结构示意图。

附图标记：

1-基板， 2-导电涂层；

21-透明感光膜， 22-纳米银线导电膜；

23-载膜， 21′-靠近基板子涂层；

22′-远离基板子涂层， 211′-靠近基板透明感光膜；

212′-靠近基板纳米银线导电膜， 221′-远离基板透明感光膜；

222′-远离基板纳米银线导电膜， 3-触控电极部；

3′-现有技术制得的触控电极， 4-间隙；

31-远离基板的触控电极层中的触控电极部，

32-靠近基板的触控电极层中的触控电极部，

4′-现有技术制得的间隙， 6-第一掩膜版；

61-第一掩膜版的完全遮光部， 62-第一掩膜版的完全透光部；

7-第二掩膜版， 71-第二掩膜版的半透光部；

72-第二掩膜版的完全透光部， 8-第三掩膜版；

81-第三掩膜版的半透光部， 82-第三掩膜版的完全透光部；

83-第三掩膜版的完全遮光部， 9-过孔；

10-交叉处。

具体实施方式

为了进一步说明本发明实施例提供的触控电极制作方法及触控电极，下面结合说明书附图进行详细描述。

请参阅图9，本实施例提供一种触控电极，包括触控电极层，每个触控电极层包括多个触控电极部3，相邻两个触控电极部3由间隙4隔开，间隙4沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形。

通过本实施例提供的触控电极的具体描述可知，本实施例提供的触控电极，通过设置触控电极层，并将每个触控电极层设置为包括多个触控电极部3，令相邻两个触控电极部3由间隙4隔开，并使间隙4沿垂直触控电极层方向的截面形状为弧形，这样，在后续通过贴合胶材将触控面板与盖板贴合时，使得贴合胶材能够沿着间隙4的弧形走向与间隙贴合，从而保证贴合胶材与间隙4之间避免出现空气层，这样制得的触控显示装置在工作过程中，入射光在间隙4处的反射率就能接近于零，解决了现有技术中因为贴合胶材与间隙4之间出现空气层，所引起的反射光进入人眼，造成人眼观看到蚀刻痕的问题，从而提高了制得的触控显示装置的显示效果。

考虑到如图1所示的现有技术中触控电极的制作方法中，相邻两个触控电极3′之间的间隙4′的段差坡度角近似为直角，形成了截面形状为近似矩形的间隙4′，使得后续通过贴合胶材粘合触控面板和盖板时，贴合胶材与间隙4′之间出现空气层，导致在触控显示装置的显示过程中，入射光穿过此空气层时发生反射现象。图2为不同角度的入射光穿过间隙4′的反射率图，从图2中可以看出，不同角度的入射光穿过间隙4′时均发生明显的反射现象，导致人眼观看到蚀刻痕，使得触控显示装置的显示效果变差；而如图3所示，在间隙4′以外，即触控电极区域，因为贴合胶材与触控电极区域贴合良好，所以在此区域并不会出现空气层，不同角度的入射光在此区域的反射率接近于零。

为了克服上述问题，如图9所示，本实施例通过限定相邻两个触控电极部3之间的间隙4的截面形状为弧形，使得后续通过贴合胶材将触控面板与盖板贴合时，贴合胶材能够沿着间隙4的弧形走向与间隙4贴合，从而保证贴合胶材与间隙4之间避免出现空气层，使得触控显示装置在工作过程中，入射光在间隙区域的反射率就能接近于零，这样就能解决现有技术中因为贴合胶材与间隙之间出现空气层，所引起的反射光进入人眼，造成人眼观看到蚀刻痕的问题，从而提高了制得的触控显示装置的显示效果。

示例性的，上述触控电极部的材料为纳米银线，经实验证明，纳米银线的透光率T＞90％，方阻R在30Ω/□-150Ω/□之间，采用纳米银线作触控电极部能够提高制得的触控电极的透光率，而且由于纳米银线的大长径比效应，使制得的触控电极的导电性能也得到改善。

优选的，本实施例提供一种触控电极，触控电极层的数量为两个，这样两个触控电极层中的触控电极部可分别用作触控信号传输电极和触控信号接收电极，其中，触控信号接收电极可用于接收触控信号，触控信号传输电极可用于传输触控信号，这样就将触控信号的接收和传输区分开，保证触控信号的传输和接收不发生干扰；示例性的，如图20所示，远离基板的触控电极层中的触控电极部31可作为触控信号接收电极，靠近基板的触控电极层中的触控电极部32可作为触控信号传输电极，两个触控电极层层叠设置于基板1，远离基板1的触控电极层设有过孔9，以通过过孔9将远离基板的触控电极层和靠近基板的触控电极层电连接。

需要注意的是，如图12-图14所示，上述远离基板1的触控电极层与靠近基板1的触控电极层的触控电极部的长度方向不同，这样远离基板1的触控电极层与靠近基板1的触控电极层的触控电极部在基板上的正投影相互交叉，在交叉处10形成电容，当手指触摸到触控显示屏时，触摸位置处的电容发生改变，根据电容变化量即可计算出每个触摸位置的坐标。

请参阅图4和图6，本实施例还提供一种触控电极制作方法，包括：

S1：在基板1形成导电涂层2；

S2：对导电涂层2进行图形化，得到触控电极层，每个触控电极层包括多个触控电极部3，相邻两个触控电极部由间隙4隔开，间隙4沿垂直触控电极层方向的截面形状为弧形。

本实施例提供的触控电极制作方法，通过在基板1形成导电涂层2，然后对导电涂层2进行图形化，得到触控电极层，每个触控电极层包括多个触控电极部3，且相邻两个触控电极部由间隙4隔开，使制得的相邻两个触控电极部之间的间隙4沿垂直触控电极层方向的截面形状为弧形，这样，在后续通过贴合胶材将触控面板与盖板贴合时，使得贴合胶材能够沿着间隙4的弧形走向与间隙贴合，从而保证贴合胶材与间隙4之间避免出现空气层，这样制得的触控显示装置在工作过程中，入射光在间隙4处的反射率就能接近于零，解决了现有技术中因为贴合胶材与间隙4之间出现空气层，所引起的反射光进入人眼，造成人眼观看到蚀刻痕的问题，从而提高了制得的触控显示装置的显示效果。

另外，本实施例提供的触控电极制作方法不仅可以用于制作单层触控电极，还可以用于制作双层触控电极；当本实施例提供的触控电极制作方法用于制作双层触控电极时，如图19所示，其中一层触控电极可作为触控信号接收电极，另一层触控电极可作为触控信号传输电极，触控信号接收电极可用于接收触控信号，触控信号传输电极可用于传输触控信号，这样就将触控信号的接收和传输区分开，以保证触控信号的传输和接收不发生干扰。

当制作单层触控电极时，图6为制作单层触控电极时的导电涂层的结构示意图，从图6中可以看出，本实施例中的导电涂层2包括依次层叠设置的透明感光膜21、纳米银线导电膜22和载膜23，其中，透明感光膜21与基板1的表面接触。经实验证明，纳米银线导电膜的透光率T＞90％，方阻R在30Ω/□-150Ω/□之间，使得触控电极具有更高的透光率，而且由于纳米银线导电膜的大长径比效应，使制得的触控电极的导电性能得到改善；示例性的，在制作纳米银线导电膜的过程中，可将纳米银线导电墨水涂覆在透明感光膜21上形成纳米银线导电膜22，透明感光膜21的厚度可以由本领域技术人员根据实际需要自行设定，示例性的，透明感光膜21的厚度为5μm-15μm，当然也可以为其他满足本实施例中透明感光膜性能要求的厚度值，本实施例对此并不做限定。

另外，需要注意的是，本实施例中选用负性感光材料作为透明感光膜的制作材料，下文均以透明感光膜的制作材料为负性感光材料为例进行说明。

如图5-图9所示，本实施例中S2对导电涂层进行图形化，得到触控电极层，每个触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个触控电极部由间隙隔开，间隙沿垂直触控电极层方向的截面形状为弧形，包括：

S21：提供第一掩膜版6，第一掩膜版的完全透光部62对应触控电极图案，所述第一掩膜版的完全遮光部61对应间隙区域；

S22：采用第一掩膜版6对导电涂层2进行曝光处理，然后去除导电涂层2的载膜23；

S23：提供第二掩膜版7，第二掩膜版的完全透光部72对应触控电极图案，第二掩膜版的半透光部71对应间隙区域；

S24：采用第二掩膜版7对去除载膜23的导电涂层进行曝光处理，得到待显影的导电涂层；

S25：对待显影的导电涂层进行显影，得到触控电极层，每个触控电极层包括多个触控电极部3，相邻两个触控电极部3由间隙隔开，间隙沿垂直触控电极层方向的截面形状为弧形。

本实施例提供的触控电极制作方法中，通过采用第一掩膜版6对导电涂层进行曝光处理后，使导电涂层的透明感光膜21中对应完全透光部62的区域发生完全交联固化，对应完全遮光部61的区域不发生交联固化，然后移除载膜23后，因为未发生交联固化的透明感光膜表层与氧接触失去活性，所以在采用第二掩膜版7对导电涂层2再次进行曝光处理时，未发生交联固化的透明感光膜的表层因为失去活性依旧不发生交联固化，而对于在采用第一掩膜版6曝光处理后未发生交联固化的透明感光膜的深层区域，由于第二掩膜版7中对应间隙区域的为半透光部，所以在曝光过程中，曝光光线穿过此半透光部后，到达透明感光膜中对应区域的曝光光量是不相同的，因此透明感光膜的深层区域中对应该半透光部的区域发生交联固化的程度也是不相同的，从而保证了交联固化区的截面形状为弧形。相应的，在该透明感光膜的深层区域中形成与交联固化区形状互补的未交联固化区，也就是说，在该透明感光膜的深层区域形成截面形状为弧形的未交联固化区，从而在对待显影的导电涂层进行显影，去除未交联固化区后，在透明感光膜中对应未交联固化区的区域即形成间隙4，而透明感光膜中对应于间隙两侧发生交联固化的部分，在显影过程中不被显影液去除掉，以形成多个触控电极部3，从而保证了相邻两个触控电极部3之间的间隙4的截面形状为弧形；这样在后续通过贴合胶材将触控面板与盖板贴合时，因为间隙4的截面形状为弧形，所以贴合胶材能够沿着间隙的弧形走向与间隙贴合，从而保证贴合胶材与间隙4之间避免出现空气层，这样制得的触控显示装置在工作过程中，入射光在间隙区域的反射率就能接近于零，解决了现有技术中因为贴合胶材与间隙之间出现空气层，所引起的反射光进入人眼，造成人眼观看到蚀刻痕的问题，从而提高了制得的触控显示装置的显示效果。

需要注意的是，如图7所示，上述第一掩膜版6的完全透光部62的透光率为100％，第一掩膜版6的完全遮光部61的遮光率为100％；本实施例提供的触控电极制作方法，通过将第一掩膜版6的完全透光部62的透光率设置为100％，将第一掩膜版6的完全遮光部61的遮光率设置为100％，这样在采用第一掩膜版6对导电涂层2进行曝光处理后，使导电涂层2的透明感光膜中对应完全透光部62的区域发生完全交联固化，对应完全遮光部61的区域不发生交联固化。

如图8所示，上述第二掩膜版7的完全透光部72的透光率为100％，第二掩膜版7的半透光部71包括多个半透光子部，多个半透光子部的透光率以半透光部的中心为圆心向外递增或递减。

当本实施例将多个半透光子部的透光率设置为以半透光部的中心为圆心向外递增时，对于经第一掩膜版6曝光处理后，未发生交联固化的透明感光膜的深层区域来说，在利用第二掩膜版7对其进行曝光的过程中，曝光光线透过各个半透光子部的光量也是以半透光部的中心为圆心向外递增，使得透明感光膜中对应半透光部的深层区域发生交联固化的程度也是以半透光部的中心为圆心向外递增，从而保证对待显影的导电涂层进行显影后，相邻两个触控电极部3之间的间隙4的截面形状为弧形；

同理，当本实施例将多个半透光子部的透光率设置为以半透光部的中心为圆心向外递减时，对于经第一掩膜版6曝光处理后，未发生交联固化的透明感光膜的深层区域来说，在利用第二掩膜版7对其进行曝光的过程中，曝光光线透过各个半透光子部的光量也是以半透光部的中心为圆心向外递减，使得透明感光膜中对应半透光部的深层区域发生交联固化的程度也是以半透光部的中心为圆心向外递减，从而保证对待显影的导电涂层进行显影后，相邻两个触控电极3之间的间隙4的截面形状为弧形；这样在后续通过贴合胶材将触控面板与盖板贴合时，保证贴合胶材能够沿着间隙的弧形走向与间隙4贴合，从而保证贴合胶材与间隙4之间避免出现空气层。

而在制作双层触控电极时，如图10和图15-图16所示，上述S1在基板1形成导电涂层2，包括：

S11′：在基板1形成靠近基板子涂层21′；靠近基板子涂层21′包括层叠设置的靠近基板透明感光膜211′和靠近基板纳米银线导电膜212′，靠近基板透明感光膜211′与基板1接触；

S12′：对靠近基板子涂层21′进行图形化，得到靠近基板触控电极层；靠近基板触控电极层包括多个靠近基板触控电极部32，相邻两个靠近基板触控电极部32由靠近基板间隙隔开(图16为图12沿A-A’方向的截面图，所以间隙未图示)，靠近基板间隙的截面形状为弧形；其中，对靠近基板子涂层21′进行图形化的方法同上述S21-S25，此处不再赘述；

S13′：在靠近基板触控电极层形成远离基板子涂层22′；因为靠近基板间隙的截面形状为弧形，这样便使得远离基板子涂层22′能够沿着靠近基板间隙的弧形走向与靠近基板间隙贴合，从而保证远离基板子涂层22′与靠近基板间隙之间避免出现空气层；其中，远离基板子涂层22′包括层叠设置的远离基板透明感光膜221′、远离基板纳米银线导电膜222′和载膜23；远离基板透明感光膜221′分别与靠近基板纳米银线导电膜212′和靠近基板透明感光膜211′接触。

其中，上述S2对导电涂层2进行图形化，得到多个触控电极，包括：

S21′：对远离基板子涂层22′进行图形化，得到远离基板触控电极层；远离基板触控电极层包括多个远离基板触控电极部31，相邻两个远离基板触控电极部31由远离基板间隙4隔开，远离基板间隙4沿垂直远离基板触控电极层方向的截面形状为弧形；其中，远离基板触控电极层与靠近基板触控电极层的触控电极部的长度方向不同。

具体的，如图11和图18-图20所示，上述S21′对远离基板子涂层22′进行图形化，得到远离基板触控电极层，包括：

S211′：提供第一掩膜版6，第一掩膜版6的完全透光部62对应远离基板触控电极图案，第一掩膜版6的完全遮光部61对应远离基板间隙区域；

S212′：采用第一掩膜版6对远离基板子涂层22′进行曝光处理，然后去除远离基板子涂层的载膜23；

S213′：提供第三掩膜版8，第三掩膜版8的完全透光部82对应远离基板触控电极图案，第三掩膜版的半透光部81对应远离基板间隙区域，第三掩膜版的完全遮光部83对应过孔9；

S214′：采用第三掩膜版8对去除载膜23的远离基板子涂层22′进行曝光处理，得到待显影的远离基板子涂层；

S215′：对待显影的远离基板子涂层进行显影，得到远离基板触控电极层。

本实施例提供的触控电极制作方法中，通过采用第一掩膜版6对导电涂层2进行曝光处理后，使远离基板子涂层22′的透明感光膜221′中对应完全透光部62的区域发生完全交联固化，对应完全遮光部61的区域不发生交联固化，然后移除载膜23后，因为未发生交联固化的透明感光膜表层与氧接触失去活性，所以在采用第三掩膜版8对远离基板子涂层22′再次进行曝光处理时，未发生交联固化的透明感光膜的表层因为失去活性依旧不发生交联固化，而对于在采用第一掩膜版6曝光处理后未发生交联固化的透明感光膜的深层区域，由于第三掩膜版8中对应间隙区域的为半透光部，所以在曝光过程中，曝光光线穿过此半透光部后，到达远离基板透明感光膜中的曝光光量是不相同的，因此远离基板透明感光膜的深层区域中对应该半透光部的区域发生交联固化的程度也是不相同的，从而保证了交联固化区的截面形状为弧形。相应的，在该远离基板透明感光膜的深层区域中形成与交联固化区形状互补的未交联固化区，也就是说，在该远离基板透明感光膜的深层区域形成截面形状为弧形的未交联固化区，然后利用显影液去掉远离基板透明感光膜221′中对应未交联固化的区域后，在远离基板透明感光膜221′中对应未交联固化区的区域即形成间隙4，而对于远离基板透明感光膜中对应于间隙两侧发生交联固化的部分，在显影过程中不被显影液去除掉，以形成多个远离基板触控电极31，从而保证了相邻两个远离基板触控电极31之间的间隙4的截面形状即可为弧形，使得贴合胶材能够沿着间隙的弧形走向与间隙贴合，从而保证贴合胶材与间隙之间避免出现空气层，这样制得的触控显示装置在工作过程中，入射光在间隙区域的反射率就能接近于零，解决了现有技术中因为贴合胶材与间隙之间出现空气层，所引起的反射光进入人眼，造成人眼观看到蚀刻痕的问题，从而提高了制得的触控显示装置的显示效果；

另外，本实施例提供的触控电极制作方法中，通过提供完全遮光部83对应过孔9的第三掩膜版8，这样在采用第三掩膜版8对去除载膜的远离基板子涂层进行曝光处理后，在对应第三掩膜版的完全遮光部的区域就能完全不发生交联固化，从而通过后续显影工艺即可将该远离基板透明感光膜对应不发生交联固化的区域完全去掉以形成过孔9，然后便可通过在此过孔区域设置导电结构，以将上下两层纳米银线导电膜连接起来。

需要注意的是，如图17所示，上述第一掩膜版6的完全透光部62的透光率为100％，第一掩膜版6的完全遮光部61的遮光率为100％；本实施例提供的触控电极制作方法，通过将第一掩膜版6的完全透光部62的透光率设置为100％，将第一掩膜版6的完全遮光部61的遮光率设置为100％，这样在采用第一掩膜版6对远离基板子涂层22′进行曝光处理后，使远离基板子涂层22′的透明感光膜中对应完全透光部62的区域发生完全交联固化，对应完全遮光部61的区域不发生交联固化。

如图18所示，上述第三掩膜版8的完全透光部82的透光率为100％，第三掩膜版8的半透光部81包括多个半透光子部，多个半透光子部的透光率以半透光部的中心为圆心向外递增或递减，第三掩膜版8的完全遮光部83的遮光率为100％；示例性的，当本实施例将多个半透光子部的透光率设置为以半透光部的中心为圆心向外递增时，对于经第一掩膜版6曝光处理后，未发生交联固化的透明感光膜的深层区域来说，在利用第三掩膜版8对其进行曝光的过程中，曝光光线透过各个半透光子部的光量也是以半透光部的中心为圆心向外递增，使得透明感光膜中对应半透光部的深部区域发生交联固化的程度也是以半透光部的中心为圆心向外递增，从而保证对待显影的导电涂层进行显影后，相邻两个触控电极之间的间隙的截面形状为弧形；

同理，当使多个半透光子部的透光率以半透光部的中心为圆心向外递减时，对于在采用第一掩膜版6曝光处理后未发生交联固化的透明感光膜的深层区域，在利用第三掩膜版8对其进行曝光的过程中，曝光光线透过各个半透光子部的光量也是以半透光部的中心为圆心向外递增，使得透明感光膜中对应半透光部的深部区域发生交联固化的程度也是以半透光部的中心为圆心向外递减，从而保证对待显影的远离基板子涂层进行显影后，相邻两个触控电极之间的间隙的截面形状为弧形；这样，在后续通过贴合胶材将触控面板与盖板贴合时，保证贴合胶材能够沿着间隙的弧形走向与间隙贴合，从而保证贴合胶材与间隙之间避免出现空气层。

需要说明的是，上述第二掩膜版和第三掩膜版的种类是多种多样的，示例性的，第二掩膜版和第三掩膜版均可选用半色调掩膜版、单缝衍射掩膜版或灰阶掩膜版，当然也可以选用其他能够满足于本实施例中触控电极制作特性的掩膜版，本实施例对此并不做限定。

示例性的，第二掩膜版和第三掩膜版均可包括透光板，以及形成在透光板上的半透膜，半透膜包括多个半透子膜，多个半透子膜的透光率以半透膜的中心为圆心向外递增或递减。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种触控电极，其特征在于，包括触控电极层，每个所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个所述触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形。

2.根据权利要求1所述的触控电极，其特征在于，所述触控电极层的数量为两个，两个所述触控电极层层叠设置于基板，远离所述基板的触控电极层设有过孔，靠近所述基板的触控电极层通过过孔与远离所述基板的触控电极层电连接，远离所述基板的触控电极层与靠近所述基板的触控电极层的触控电极部的长度方向不同。

3.根据权利要求1所述的触控电极，其特征在于，所述触控电极部的材料为纳米银线。

4.一种触控电极制作方法，其特征在于，包括：

在基板形成导电涂层；

对所述导电涂层进行图形化，得到触控电极层，所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个所述触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形。

5.根据权利要求4所述的触控电极制作方法，其特征在于，所述导电涂层包括依次层叠设置的透明感光膜、纳米银线导电膜和载膜，其中，所述透明感光膜与基板的表面接触。

6.根据权利要求5所述的触控电极制作方法，其特征在于，所述对导电涂层进行图形化，得到触控电极层，所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个所述触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形，包括：

提供第一掩膜版，所述第一掩膜版的完全透光部对应触控电极图案，所述第一掩膜版的完全遮光部对应间隙区域；

采用所述第一掩膜版对导电涂层进行曝光处理，然后去除所述导电涂层的载膜；

提供第二掩膜版，所述第二掩膜版的完全透光部对应触控电极图案，所述第二掩膜版的半透光部对应间隙区域；

采用所述第二掩膜版对去除载膜的导电涂层进行曝光处理，得到待显影的导电涂层；

对所述待显影的导电涂层进行显影，得到触控电极层，所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个所述触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形。

7.根据权利要求4所述的触控电极制作方法，其特征在于，所述在基板形成导电涂层，包括：

在基板形成靠近基板子涂层；所述靠近基板子涂层包括层叠设置的靠近基板透明感光膜和靠近基板纳米银线导电膜，所述靠近基板透明感光膜与所述基板接触；

对所述靠近基板子涂层进行图形化，得到靠近基板触控电极层；所述靠近基板触控电极层包括多个靠近基板触控电极部，相邻两个所述靠近基板触控电极部由靠近基板间隙隔开，所述靠近基板间隙沿垂直所述靠近基板触控电极层方向的截面形状为弧形；

在靠近基板触控电极层形成远离基板子涂层；所述远离基板子涂层包括层叠设置的远离基板透明感光膜、远离基板纳米银线导电膜和远离基板载膜；所述远离基板透明感光膜分别与所述靠近基板纳米银线导电膜和所述靠近基板透明感光膜接触。

8.根据权利要求7所述的触控电极制作方法，其特征在于，所述对导电涂层进行图形化，得到触控电极层，所述触控电极层包括多个触控电极部，相邻两个所述触控电极部由间隙隔开，所述间隙沿垂直所述触控电极层方向的截面形状为弧形，包括：

对所述远离基板子涂层进行图形化，得到远离基板触控电极层；所述远离基板触控电极层包括多个远离基板触控电极部，相邻两个所述远离基板触控电极部由远离基板间隙隔开，所述远离基板间隙沿垂直所述远离基板触控电极层方向的截面形状为弧形；其中，

所述远离基板触控电极层与所述靠近基板触控电极层的触控电极部的长度方向不同。

9.根据权利要求8所述的触控电极制作方法，其特征在于，所述对远离基板子涂层进行图形化，得到远离基板触控电极层，包括：

提供第一掩膜版，所述第一掩膜版的完全透光部对应远离基板触控电极图案，所述第一掩膜版的完全遮光部对应间隙区域；

采用第一掩膜版对远离基板子涂层进行曝光处理，然后去除所述远离基板子涂层的载膜；

提供第三掩膜版，所述第三掩膜版的完全透光部对应远离基板触控电极图案，所述第三掩膜版的半透光部对应间隙区域，所述第三掩膜版的完全遮光部对应过孔区域；

采用第三掩膜版对去除载膜的远离基板子涂层进行曝光处理，得到待显影的远离基板子涂层；

对所述待显影的远离基板子涂层进行显影，得到远离基板触控电极层。

10.根据权利要求6或9所述的触控电极制作方法，其特征在于，所述第一掩膜版的完全透光部的透光率为100％，所述第一掩膜版的完全遮光部的遮光率为100％；

所述第二掩膜版的完全透光部的透光率为100％，所述第二掩膜版的半透光部包括多个半透光子部，多个所述半透光子部的透光率以半透光部的中心为圆心向外递增或递减；或，所述第三掩膜版的半透光部包括多个半透光子部，多个所述半透光子部的透光率以半透光部的中心为圆心向外递增或递减，所述第三掩膜版的完全遮光部的遮光率为100％。