CN107164780B - 一种wo3/石墨烯量子点复合膜光阳极的制备方法 - Google Patents

一种wo3/石墨烯量子点复合膜光阳极的制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种WO3/GQDs复合光阳极的制备方法,解决了WO3光电转换效率较低的问题。本发明以钨片为基体,含有石墨烯量子点的氟化钠、硫酸钠水溶液为电解液,通过脉冲阳极氧化法,制备出含有石墨烯量子点(GQDs)的多孔三氧化钨复合膜。将复合膜在氮气管式炉中,升至300~700℃,保温3小时,有利于提高WO3/GQDs复合膜的结晶性。相较于单纯的WO3薄膜样品,GQDs/WO3复合膜光电流明显增大,且具有很好的循环寿命。本发明方法简便,易于操作,所制备的GQDs/WO3复合膜具有很高的光催化活性和稳定性。

Description

一种WO3/石墨烯量子点复合膜光阳极的制备方法
技术领域
本发明属于复合可见光催化剂领域,涉及一种复合光催化材料的制备方法,特别涉及一种纳米WO3/GQDs复合膜光阳极的制备方法。
背景技术
纳米三氧化钨与二氧化钛相比,纳米WO3相应的吸收波长为 410~500nm,且纳米WO3比TiO2禁带宽度窄,所以在可见光条件下纳米WO3具有更良好的光电响应性能,在光电化学反应体系中是一种较为理想的光阳极半导体材料。跟普通半导体材料相比,纳米WO3是间接带隙跃迁的,而且价格低廉、易制备、性能稳定、无毒、无害,在光电化学领域得到了广泛应用,较普遍的是光解水,除此之外还有光降解有机污染物及太阳能电池等,优越的性能也自然引起许多研究小组的关注。
石墨烯量子点,是一种全新的零维的C纳米材料。基于它的结构,石墨烯量子点具有很强的热载流子注入与上转换发光能力。基于这两个优点,石墨烯量子点在光电学领域有着广阔的应用前景。但是,石墨烯量子点因为起步较晚,在光伏能源,光催化的研究领域较少。由于石墨烯量子点具有长久的热力学稳定性,强氧化性及其毒性小,半导体WO3是目前研究应用最多的光催化剂。光催化氧化过程的引发是由紫外光下产生的光生电子/空穴对,这个波长要比纳米WO3对应的带隙能量小。因为要使纳米WO3的活性发生作用,这个波长必须小于可见光波长,所以,要把它的光吸收扩展到可见光范围内。基于这个原因,把石墨烯量子点与纳米三氧化钨结合起来,研究石墨烯量子点/WO3的光电性能有着重大意义。
发明内容
本发明的目的是提供一种可见光催化剂纳米三氧化钨/石墨烯量子点复合材料的制备方法,本发明方法简单,易于操作,所制备的WO3复合膜具有很高的光催化活性。
具体步骤为:
(1)脉冲阳极氧化合成多孔WO3,将钨片分别在丙酮、乙醇、蒸馏水中各超声15分钟。设置阳极氧化脉冲电源参数,手动档,给定所需频率50~300Hz,选择所需占空比(能级)为10~30%。电解液为 1mol/L的硫酸铵和0.2%的氟化铵。向电解液分别加入含有5~50mg的石墨烯量子点,调节电压到30~100V,阳极氧化时间进行5~30min 后结束。最后将阳极氧化试片用蒸馏水冲洗,冷风吹干,保存待处理。
(2)将步骤(1)中氧化后的钨片用蒸馏水冲洗干净,吹干,管式炉中充入氮气,待管式炉充满氮气后,以5℃/min的升温速度升温至300~700℃,恒温3h,待其降温后取出,得到W箔表面沉积 WO3/GQDs复合膜光阳极。
所述化学试剂纯度均为化学纯以上纯度。
本发明的有益效果是:
(1)利用马弗炉,进行3小时的烧结,这样会增强多孔三氧化钨的结晶度,也增强光电流。因为烧结后的结晶度的增强,多孔三氧化钨有着更好的稳定性以及耐光腐蚀性。
(2)本发明制备的三氧化钨复合膜,石墨烯量子点很好的嵌入在多孔三氧化钨薄膜内,复合膜的厚度得到增强,经过光电性能的测试,石墨烯量子点对多孔三氧化钨薄膜的光电性能有着重要影响,增强了多孔三氧化钨薄膜光电催化析氧的光电流。
附图说明
图1是本发明实施例1制备的WO3/GQDs复合光催化剂烧结前后的 X射线衍射图,图中a为烧结前,b为烧结后,c为钨片。
图2是本发明实施例1制备的WO3及GQDs/WO3拉曼光谱图。
图3是本发明实施例1制备的(a,b)石墨烯量子点和(c,d) GQDs/WO3的透射电镜图。
图4是本发明实施例1制备的WO3/GQDs复合光催化剂烧结前后的光电流测试图。
具体实施方式
实施例1:
(1)将钨片(10mm×50mm)用蒸馏水清洗干净,然后分别在丙酮、乙醇、蒸馏水水中各超声15分钟,然后在50℃干燥箱中烘干备用。设置阳极氧化脉冲电源参数,手动档,给定所需频率200HZ,选择所需占空比(能级)为20%。电解液为1mol/L的硫酸铵和0.2%的氟化铵。向电解液分别加入含有5mg的石墨烯量子点,调节电压到50V,阳极氧化时间进行30min后结束。最后将阳极氧化试片用蒸馏水冲洗,冷风吹干,保存待处理。
(2)将步骤(1)中氧化后的钨片用蒸馏水冲洗干净,吹干,阳极氧化面朝上放入2cm×5cm的干净的瓷舟中,管式炉中充入氮气,待管式炉充满氮气后,以5℃/min的升温速度升温至450℃,恒温3h,待其降温后取出,得到纳米WO3/GQDs复合光催化剂。
图4是本发明实施例1制备的WO3/GQDs复合光催化剂烧结前后的光电流测试图。从图中可以看出来,没有烧结之前的三氧化钨,对光照表现不敏感,对光没有响应。光电流明显增强,是因为烧结后的WO3结晶度强,结合力高,这样电子与空穴不易复合。烧结后,多孔三氧化钨还具有很好的稳定性和耐光腐蚀性。
实施例2:
(1)将钨片(10mm×50mm)用蒸馏水清洗干净,然后分别在丙酮、乙醇、蒸馏水水中各超声15分钟,然后在50℃干燥箱中烘干备用。设置阳极氧化脉冲电源参数,手动档,给定所需频率100HZ,选择所需占空比(能级)为30%。电解液为1mol/L的硫酸铵和0.2%的氟化铵。向电解液分别加入含有10mg的石墨烯量子点,调节电压到50V,阳极氧化时间进行20min后结束。最后将阳极氧化试片用蒸馏水冲洗,冷风吹干,保存待处理。
(2)将步骤(1)中氧化后的钨片用蒸馏水冲洗干净,吹干,阳极氧化面朝上放入2cm×5cm的干净的瓷舟中,管式炉中充入氮气,待管式炉充满氮气后,以5℃/min的升温速度升温至450℃,恒温3h,待其降温后取出,得到纳米WO3/GQDs复合光催化剂。
实施例3:
(1)将钨片(10mm×50mm)用蒸馏水清洗干净,然后分别在丙酮、乙醇、蒸馏水水中各超声15分钟,然后在50℃干燥箱中烘干备用。设置阳极氧化脉冲电源参数,手动档,给定所需频率200HZ,选择所需占空比(能级)为20%。电解液为1mol/L的硫酸铵和0.2%的氟化铵。向电解液分别加入含有15mg的石墨烯量子点,调节电压到50V,阳极氧化时间进行30min后结束。最后将阳极氧化试片用蒸馏水冲洗,冷风吹干,保存待处理。
(2)将步骤(1)中氧化后的钨片用蒸馏水冲洗干净,吹干,阳极氧化面朝上放入2cm×5cm的干净的瓷舟中,管式炉中充入氮气,待管式炉充满氮气后,以5℃/min的升温速度升温至600℃,恒温3h,待其降温后取出,得到纳米WO3/GQDs复合光催化剂。

Claims (1)

1.一种WO3/GQDs复合光催化剂的制备方法,其特征在于具体步骤为:
(1)脉冲阳极氧化合成多孔WO3,将钨片分别在丙酮、乙醇、蒸馏水中各超声15分钟,设置阳极氧化脉冲电源参数,手动档,给定所需频率50~300Hz,选择所需占空比为10~30%,电解液为含有硫酸铵、氟化铵、石墨烯量子点的混合水溶液,硫酸铵的浓度为1mol/L,氟化铵为0.2%,石墨烯量子点的浓度为5~50mg/L,调节电压到30~100V,阳极氧化时间进行5~30min后结束,最后将阳极氧化试片用蒸馏水冲洗,冷风吹干,保存待处理;
(2)将步骤(1)中氧化后的钨片用蒸馏水冲洗干净,吹干,管式炉中充入氮气,待管式炉充满氮气后,以5℃/min的升温速度升温至300~700℃,恒温3h,待其降温后取出,得到W箔表面沉积WO3/GQDs复合膜光阳极。
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