CN107162439A - 一种新型Low‑E玻璃及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种新型Low‑E玻璃及其制备方法，其中，所述Low‑E玻璃制备方法利用预设波长的激光光源对所述低辐射膜层中的功能膜进行表面改性处理，以利用激光光源使所述功能膜产生激光相变硬化现象，从而降低制备的Low‑E玻璃的辐射参数，提升Low‑E玻璃的低辐射特性，进而使得制备的Low‑E玻璃具有更加优异的隔热效果和良好的透光性，也就是制备出了一种新的性能更好的Low‑E玻璃材料。

Description

一种新型Low-E玻璃及其制备方法
技术领域
本申请涉及低辐射玻璃制备技术领域，更具体的说，涉及一种新型Low-E玻璃及其制备方法。
背景技术
Low-E(Low Emissivity)玻璃，又称低辐射玻璃，是指在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性。
对于Low-E玻璃而言，其辐射参数是衡量其低辐射特性优劣的重要参数，具有越低辐射参数的Low-E玻璃，其隔热效果和透光性越好。因此，如何降低Low-E玻璃的辐射参数成为相关领域研究人员努力的方向。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明提供了一种Low-E玻璃及其制备方法，以实现制备辐射参数较低的Low-E玻璃的目的。
为实现上述技术目的，本发明实施例提供了如下技术方案：
一种新型Low-E玻璃的制备方法，包括：
提供玻璃基板；
在所述玻璃基板上形成低辐射膜层；
利用预设波长的激光光源对所述低辐射膜层中的功能膜进行表面改性处理，以提升所述功能膜的低辐射性能。
可选的，所述在所述玻璃基板上形成低辐射膜层包括：
利用磁控溅射法在所述玻璃基板表面依次形成第一介质膜、功能膜和第二介质膜。
可选的，所述在所述玻璃基板上形成低辐射膜层包括：
利用化学气相沉积法在所述玻璃基板表面依次形成内层介质膜、过度膜和功能膜。
可选的，所述预设波长为976nm±50nm，包括端点值。
可选的，所述激光光源出射的激光光斑为线形激光光斑。
可选的，所述线形激光光斑的长度的取值范围为150mm±50mm，包括端点值。
可选的，所述线形激光光斑的宽度的取值范围为1mm±1mm，包括端点值。
一种新型Low-E玻璃，利用上述任一项所述的Low-E玻璃的制备方法制备，所述Low-E玻璃包括：
玻璃基板；
位于所述玻璃基板表面的低辐射膜层；
所述低辐射膜层中的功能膜为经过预设波长的激光光源表面改性处理后的功能膜。
可选的，所述玻璃基板为浮法玻璃。
从上述技术方案可以看出，本发明实施例提供了一种新型Low-E玻璃及其制备方法，其中，所述新型Low-E玻璃制备方法利用预设波长的激光光源对所述低辐射膜层中的功能膜进行表面改性处理，以利用激光光源使所述功能膜产生激光相变硬化现象，从而降低制备的Low-E玻璃的辐射参数，提升Low-E玻璃的低辐射特性，进而使得制备的Low-E玻璃具有更加优异的隔热效果和良好的透光性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本申请的一个实施例提供的一种Low-E玻璃的制备方法的流程示意图；
图2为本申请的另一个实施例提供的一种Low-E玻璃的制备方法的流程示意图；
图3为本申请的一个实施例提供的一种Low-E玻璃的结构示意图；
图4为本申请的又一个实施例提供的一种Low-E玻璃的制备方法的流程示意图；
图5为本申请的另一个实施例提供的一种Low-E玻璃的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本申请实施例提供了一种新型Low-E玻璃的制备方法，如图1所示，包括：
S101：提供玻璃基板；
所述玻璃基板可以是普通玻璃，也可以是钢化玻璃，还可以是浮法玻璃，本申请对所述玻璃基板的具体种类并不做限定，具体视实际情况而定。
S102：在所述玻璃基板上形成低辐射膜层；
S103：利用预设波长的激光光源对所述低辐射膜层中的功能膜进行表面改性处理，以提升所述功能膜的低辐射性能。
在本实施例中，在Low-E玻璃的基本结构形成后，利用预设波长的激光光源对所述低辐射膜层中的功能膜进行表面改性处理，以利用激光光源使所述功能膜产生激光相变硬化现象，从而降低制备的Low-E玻璃的辐射参数，提升Low-E玻璃的低辐射特性，进而使得制备的Low-E玻璃具有更加优异的隔热效果和良好的透光性。
需要说明的是，所述功能膜的电阻值越低，代表Low-E玻璃的低辐射特性越好，通过测试功能膜的电阻值可以发现，在利用预设波长的激光光源对所述低辐射膜层中的功能膜进行表面改性处理后，其功能膜的电阻值明显降低，这意味着激光光斑可以使功能膜产生明显的相变硬化现象。
在实际的生产过程中，利用预设波长的激光光源直接照射Low-E玻璃表面即可，预设波长的选择特性会穿过所述低辐射膜层，从而实现选择性地对所述功能膜进行表面改性处理的目的，这种方法整体操作简便，对原有Low-E玻璃的生产流程改动较小。
在上述实施例的基础上，在本申请的一个实施例中，如图2所示，所述在所述玻璃基板上形成低辐射膜层包括：
S1021：利用磁控溅射法在所述玻璃基板表面依次形成第一介质膜、功能膜和第二介质膜。
在本实施例中，制备Low-E玻璃的流程成为离线生产过程，具体地，在玻璃基板经过切割、清洗、干燥等预处理后，输送进入真空溅射室中，真空溅射室中设有溅射靶。在对真空溅射室进行抽气使其内部处于真空环境后，阴极接通负电压，阳极接通正电压，并向真空溅射室内充入工作气体(一般采用惰性气体，例如氩气)。当真空溅射室真空度降低到工作压强时，遵循阴极磁控溅射的原理，在玻璃基板表面上沉积大量的中性靶原子(或分子)而形成所述低辐射膜层。或在真空溅射室工作条件下，分阶段向真空溅射室充入反应气体(一般采用氧气、氮气、硫化氢、甲烷)，同纯金属靶材溅射出来的原子进行化学反应，继而在玻璃基板表面上形成氧化物、氮化物、硫化物和碳化物膜层。
还可以选择连续设置多个真空溅射室，以实现复合型多功能的低辐射膜层的Low-E玻璃的生产。
利用该方法制备的Low-E玻璃的结构如图3所示，包括：玻璃基板100、第一介质膜210、功能膜220和第二介质膜230，其中，第一介质膜210、功能膜220和第二介质膜230构成所述低辐射膜层200。
在上述实施例的基础上，在本申请的另一个实施例中，如图4所示，所述在所述玻璃基板上形成低辐射膜层包括：
S1022：利用化学气相沉积法在所述玻璃基板表面依次形成内层介质膜、过度膜和功能膜。
需要说明的是，化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition简称CVD)是指利用流经衬底表面的气态物料的化学反应，生成固态物质，在衬底表面形成薄膜的方法。在线CVD法生产Low-E玻璃是制备在线Low-E的主要方法，在线高温热解沉积法，具体是在玻璃基板(浮法玻璃)冷却过程中完成的。液体金属或金属粉末直接喷射到热玻璃基板表面上，随着玻璃基板的冷却，金属膜层成为Low-E玻璃的一部分。
利用该方法制备的Low-E玻璃的结构如图5所示，包括：玻璃基板100、内层介质膜240、过度膜250和功能膜220，其中，内层介质膜240、过度膜250和功能膜220构成所述低辐射膜层200。
在上述实施例的基础上，在本申请的又一个实施例中，所述预设波长为976nm±50nm，包括端点值。
所述预设波长可以实现选择性处理，即预设波长的激光源斑可以实现透过介质膜或过度膜对功能膜进行表面改性处理，以提升所述功能膜的低辐射性能。在本申请的一个实施例中，所述预设波长优选为976nm。
优选的，所述激光光源出射的激光光斑为线形激光光斑。所述线形激光光斑的长度的取值范围为150mm±50mm，包括端点值。所述线形激光光斑的宽度的取值范围为1mm±1mm，包括端点值。
在本申请的其他实施例中，利用激光光斑对功能膜进行表面改性处理的其他条件可以为：功率为1100w(cw)、光斑大小为150mm×1mm、功率密度880w/cm2，工作距离200mm。
相应的，本申请实施例还提供了一种新型Low-E玻璃，如图3和图5所示，所述Low-E玻璃利用上述任一实施例所述的新型Low-E玻璃的制备方法制备，包括：
玻璃基板100；
位于所述玻璃基板100表面的低辐射膜层200；
所述低辐射膜层200中的功能膜220为经过预设波长的激光光源处理后的功能膜220。
所述玻璃基板100可以是普通玻璃，也可以是钢化玻璃，还可以是浮法玻璃，本申请对所述玻璃基板100的具体种类并不做限定，具体视实际情况而定。
在图3中，所述Low-E玻璃为离线Low-E玻璃，在该种类Low-E玻璃中，所述低辐射膜层200包括：第一介质膜210、功能膜220和第二介质膜230；
在图5中，所述Low-E玻璃为在线Low-E玻璃，在该种类Low-E玻璃中，所述低辐射膜层200包括：内层介质膜240、过度膜250和功能膜220。
在本实施例中，在Low-E玻璃的基本结构形成后，利用预设波长的激光光源对所述低辐射膜层200中的功能膜220进行表面改性处理，以利用激光光斑使所述功能膜220产生激光相变硬化现象，从而降低制备的Low-E玻璃的辐射参数，提升Low-E玻璃的低辐射特性，进而使得制备的Low-E玻璃具有更加优异的隔热效果和良好的透光性。
需要说明的是，所述功能膜220的电阻值越低，代表Low-E玻璃的低辐射特性越好，通过测试功能膜220的电阻值可以发现，在利用预设波长的激光光源对所述低辐射膜层200中的功能膜220进行表面改性处理后，其功能膜220的电阻值明显降低，这意味着激光光源可以使功能膜220产生明显的相变硬化现象。
综上所述，本申请实施例提供了一种新型Low-E玻璃及其制备方法，其中，所述新型Low-E玻璃制备方法利用预设波长的激光光源对所述低辐射膜层中的功能膜进行表面改性处理，以利用激光光源使所述功能膜产生激光相变硬化现象，从而降低制备的Low-E玻璃的辐射参数，提升Low-E玻璃的低辐射特性，进而使得制备的Low-E玻璃具有更加优异的隔热效果和良好的透光性。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (9)

1.一种新型Low-E玻璃的制备方法，其特征在于，包括：
提供玻璃基板；
在所述玻璃基板上形成低辐射膜层；
利用预设波长的激光光源对所述低辐射膜层中的功能膜进行表面改性处理，以提升所述功能膜的低辐射性能。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述玻璃基板上形成低辐射膜层包括：
利用磁控溅射法在所述玻璃基板表面依次形成第一介质膜、功能膜和第二介质膜。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述玻璃基板上形成低辐射膜层包括：
利用化学气相沉积法在所述玻璃基板表面依次形成内层介质膜、过度膜和功能膜。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预设波长为976nm±50nm，包括端点值。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光光源出射的激光光斑为线形激光光斑。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述线形激光光斑的长度的取值范围为150mm±50mm，包括端点值。
7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述线形激光光斑的宽度的取值范围为1mm±1mm，包括端点值。
8.一种新型Low-E玻璃，其特征在于，利用权利要求1-7任一项所述的Low-E玻璃的制备方法制备，所述Low-E玻璃包括：
玻璃基板；
位于所述玻璃基板表面的低辐射膜层；
所述低辐射膜层中的功能膜为经过预设波长的激光光源表面改性处理后的功能膜。
9.根据权利要求8所述的新型Low-E玻璃，其特征在于，所述玻璃基板为浮法玻璃。
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