CN107159602A - 基板清洗设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种基板清洗设备。该基板清洗设备包括中空的承载杆、设于承载杆外表面上的毛刷、与承载杆一端连接的驱动装置、及与承载杆另一端旋转连接的进液管，所述承载杆上设有多个出水口，通过进液管向承载杆内部通入清洗液体，承载杆内部的清洗液体从多个出水口喷出至承载杆外部，从而均匀地润湿毛刷且对毛刷进行有效的清洗，去除毛刷内部残存的颗粒，避免在清洗基板时将毛刷内部的颗粒带到基板上及出现颗粒刮伤基板的问题，提高产品良率及产品品质。
Description
技术领域
本发明涉及显示制程领域，尤其涉及一种基板清洗设备。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
通常液晶显示面板由彩膜基板(Color Filter，CF)、薄膜晶体管基板(Thin FilmTransistor，TFT)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。
在液晶显示面板制造过程中，湿制程机台应用十分广泛，涉及蚀刻、涂布显影、清洗等众多工艺，在清洗制程中，由于基板上部分颗粒(Particle)尺寸过大或者在基板上粘附过紧，需要使用滚刷(Roll Brush)对基板进行清洗。如图1所示，现有的一种基板清洗设备包括：承载杆100、设于承载杆100外表面上的毛刷300、与承载杆100一端连接的驱动装置200、设于承载杆100上且将承载杆100固定于湿制程机台上的轴承400，对基板进行清洗时，向基板表面提供清洗液体，并通过驱动装置200带动承载杆100及其上的毛刷300转动清洗基板表面，但是在实际生产过程中，由于清洗液体在毛刷300上的冲洗并不均匀，将会导致一些颗粒长期藏于毛刷300里面，进而毛刷300在对基板进行清洗时将颗粒带到基板上，甚至刮伤基板。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基板清洗设备，能够均匀地润湿毛刷且有效地清洗毛刷中的颗粒，避免在清洗基板时将毛刷中的颗粒带到基板上及出现颗粒刮伤基板的问题。
为实现上述目的，本发明提供一种基板清洗设备，包括：中空的承载杆、设于承载杆外表面上的毛刷、与承载杆一端连接的驱动装置、及与承载杆另一端旋转连接的进液管；所述承载杆上设有多个出水口；
所述进液管用于向承载杆内部通入清洗液体；
所述出水口用于将承载杆内的清洗液体从承载杆内部喷出至承载杆外部，从而润湿毛刷并对毛刷进行清洗。
所述基板清洗设备还包括设于承载杆上的轴承。
所述承载杆的材料为金属或塑料。
所述承载杆的材料为304不锈钢、316不锈钢、聚丙烯、超高分子聚乙烯、或聚氯乙烯。
所述驱动装置为电动机。
所述毛刷通过粘贴的方式设于承载杆的外表面。
所述清洗液体为去离子水、超纯水、洗涤剂、或三羟甲基氨基甲烷。
可选地，所述出水口为线状出水口。
所述线状出水口的形状为环状、波浪状、锯齿状、或斜线状。
所述线状出水口的宽度为0.01mm-15mm。
可选地，所述出水口为孔状出水口。
所述孔状出水口的孔径为0.01mm-15mm。
本发明的有益效果：本发明的基板清洗设备，包括中空的承载杆、设于承载杆外表面上的毛刷、与承载杆一端连接的驱动装置、及与承载杆另一端旋转连接的进液管，所述承载杆上设有多个出水口，通过进液管向承载杆内部通入清洗液体，承载杆内部的清洗液体从多个出水口喷出至承载杆外部，从而均匀地润湿毛刷且对毛刷进行有效的清洗，去除毛刷内部残存的颗粒，避免在清洗基板时将毛刷内部的颗粒带到基板上及出现颗粒刮伤基板的问题，提高产品良率及产品品质。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为现有的基板清洗设备的结构示意图；
图2为本发明的基板清洗设备的结构示意图；
图3为本发明的基板清洗设备的承载杆的第一实施例的结构示意图；
图4为本发明的基板清洗设备的承载杆的第二实施例的结构示意图；
图5为本发明的基板清洗设备对基板进行清洗的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2，本发明提供一种基板清洗设备，包括：中空的承载杆10、设于承载杆10外表面上的毛刷40、与承载杆10一端连接的驱动装置20、及与承载杆10另一端旋转连接的进液管30；请参阅图3或图4，所述承载杆10上设有多个出水口11；
所述进液管30用于向承载杆10内部通入清洗液体；
所述出水口11用于将承载杆10内的清洗液体从承载杆10内部喷出至承载杆10外部，从而润湿毛刷40并对毛刷40进行清洗。
需要说明的是，上述基板清洗设备，用于湿制程机台中对基板的清洗，工作时，驱动装置20驱动承载杆10旋转，带动其外表面的毛刷40进行旋转，进液管30向承载杆10内部通入清洗液体，清洗液体会从承载杆10上的出水口11喷出至承载杆10外部，而由于毛刷40是设置在承载杆10外表面上的，出水口11喷出的清洗液体会从毛刷40与承载杆10接触的部分流至毛刷40端部，使毛刷40充分且均匀的湿润，能够有效地对毛刷40进行清洗，持续置换毛刷40内部残存的颗粒，避免在清洗基板时将毛刷40内部的颗粒带到基板上及出现颗粒刮伤基板的问题，提高产品良率及产品品质，同时，由于出水口11喷出清洗液润湿毛刷40，因而在对基板进行清洗时，无需另外设置提供清洗液体的装置，降低了用于对基板进行清洗的装置的复杂程度，有利于提升基板清洗的效率。
优选地，请参阅图5，为达到更好的清洗效果，本发明的基板清洗设备同时具有四个承载杆10，每一承载杆10的外表面均设有毛刷40，其中两个承载杆10及对应的毛刷40位于待清洗的基板60的上方，另两个承载杆10及对应的毛刷40位于待清洗的基板60的下方，相应地，对应每一承载杆10设有进液管30及驱动装置20，清洗时，位于待清洗的基板60同一侧的两个承载杆10受对应的驱动装置20驱动旋转，且旋转方向相反，从而利用四个承载杆10上的毛刷40对待清洗的基板60两侧进行对刷。
具体地，所述基板清洗设备还包括设于承载杆10上的轴承50，所述轴承50用于将承载杆10固定在湿制程机台上。具体地，所述轴承50的数量为两个，分别设于承载杆10两端。
具体地，所述毛刷40通过粘贴的方式设于承载杆10的外表面。
具体地，所述承载杆10的材料为金属或塑料。
进一步地，当所述承载杆10的材料为金属时，优选304不锈钢、316不锈钢，当所述承载杆10的材料为塑料时，优选聚丙烯(PP)、超高分子聚乙烯(UPE)、聚氯乙烯(PVE)。
具体地，所述驱动装置20为电动机。
具体地，所述清洗液体为去离子水(Deionized water，DIW)、超纯水(Ultra-PureWater，UPW)、洗涤剂(Detergent)、或三羟甲基氨基甲烷(THAM)。
优选地，所述出水口11均匀的设于所述承载杆10上。
具体地，所述出水口11的形状及尺寸、以及出水口11的侧壁与承载杆10外表面的角度可根据出水量及出水方向的实际需求进行具体的设置。
具体地，请参阅图3，在本发明的第一实施例中，所述出水口11为线状出水口，所述线状出水口的形状可以但不限于为环状、波浪状、锯齿状、或斜线状。
进一步地，所述线状出水口的宽度为0.01mm-15mm。
具体地，请参阅图4，在本发明的第二实施例中，所述出水口11为孔状出水口，所述孔状出水口的形状可以但不限于为圆形、矩形、三角形、五角形。
进一步地，所述孔状出水口的孔径为0.01mm-15mm。
当然，所述出水口11也可根据实际的应用环境设计为在承载杆10上呈发散状排列，这都不会影响本发明的实现。
综上所述，本发明的基板清洗设备，包括中空的承载杆、设于承载杆外表面上的毛刷、与承载杆一端连接的驱动装置、及与承载杆另一端旋转连接的进液管，所述承载杆上设有多个出水口，通过进液管向承载杆内部通入清洗液体，承载杆内部的清洗液体从多个出水口喷出至承载杆外部，从而均匀地润湿毛刷且对毛刷进行有效的清洗，去除毛刷内部残存的颗粒，避免在清洗基板时将毛刷内部的颗粒带到基板上及出现颗粒刮伤基板的问题，提高产品良率及产品品质。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种基板清洗设备，其特征在于，包括：中空的承载杆(10)、设于承载杆(10)外表面上的毛刷(40)、与承载杆(10)一端连接的驱动装置(20)、及与承载杆(10)另一端旋转连接的进液管(30)；所述承载杆(10)上设有多个出水口(11)；
所述进液管(30)用于向承载杆(10)内部通入清洗液体；
所述出水口(11)用于将承载杆(10)内的清洗液体从承载杆(10)内部喷出至承载杆(10)外部，从而润湿毛刷(40)并对毛刷(40)进行清洗。
2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，还包括设于承载杆(10)上的轴承(50)。
3.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述承载杆(10)的材料为金属或塑料。
4.如权利要求3所述的基板清洗设备，其特征在于，所述承载杆(10)的材料为304不锈钢、316不锈钢、聚丙烯、超高分子聚乙烯、或聚氯乙烯。
5.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述驱动装置(20)为电动机；
所述毛刷(40)通过粘贴的方式设于承载杆(10)的外表面。
6.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述清洗液体为去离子水、超纯水、洗涤剂、或三羟甲基氨基甲烷。
7.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述出水口(11)为线状出水口。
8.如权利要求7所述的基板清洗设备，其特征在于，所述线状出水口的形状为环状、波浪状、锯齿状、或斜线状；
所述线状出水口的宽度为0.01mm-15mm。
9.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述出水口(11)为孔状出水口。
10.如权利要求9所述的基板清洗设备，其特征在于，所述孔状出水口的孔径为0.01mm-15mm。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant after: TCL China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20170915 |