CN107141484A - 一种有机树脂及其制备方法、显示基板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种有机树脂及其制备方法、显示基板及其制备方法，属于显示技术领域，其可解决现有的半色调工艺中酚醛树脂形成的平坦化层容易在灰化中被损伤的问题。本发明的有机树脂的原料中包括酚醛树脂和有机硅，其中，有机硅分散相与酚醛树脂间形成互穿网络过渡层，使得产品有机树脂的均匀性良好。更主要的是二者结合可增强树脂强度，减少灰化过程的损伤。当其涂覆应用于显示基板后，在后续的灰化工艺中，相较于现有的酚醛树脂，本实施例的有机树脂的损伤速率可降低30‑50％。本发明的显示基板适用于各种显示装置。

Description

一种有机树脂及其制备方法、显示基板及其制备方法
技术领域
本发明属于显示技术领域，具体涉及一种有机树脂及其制备方法、显示基板及其制备方法。
背景技术
半色调(Half tone)工艺是目前被普遍使用的一种可减少掩膜步骤方法，这种方法可节约生产时间，提高产能。例如，先采用酚醛树脂形成图案化的平坦化层，之后依次形成ITO层、金属层、光刻胶，然后采用光刻胶进行灰化工艺，将ITO层、金属层一步形成过孔。一般该灰化工艺中使用的气体为O2，依靠O2产生的游离态氧原子以及氧离子作用在光刻胶上使光刻胶减薄。
发明人发现现有技术中至少存在如下问题：上述工艺中的酚醛树脂与光刻胶同为有机树脂，两种物质的化学性质类似。因此，两种物质在灰化过程中的反应速率基本一致，即在后续的灰化工艺中，先前形成的酚醛树脂容易被损伤，经过工艺调整后，两种物质的刻蚀速率的选择比在好的情况才能达到0.8左右，难以满足工艺需要。
发明内容
本发明针对现有的半色调工艺中酚醛树脂形成的平坦化层容易在灰化中被损伤的问题，提供一种有机树脂及其制备方法、显示基板及其制备方法。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是：
一种有机树脂，包括以下重量份的原料：酚醛树脂90-95份，有机硅5-10份。
优选的是，所述有机硅包括聚二甲基硅氧烷。
优选的是，所述有机树脂包括以下结构式的聚合物：
其中，m为4-12之间的正整数，n为正整数。
优选的是，所述原料还包括：聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇、纤维素衍生物中的任意一种或几种。
优选的是，所述聚乙烯吡咯烷酮与所述酚醛树脂的重量比为：(2-10):(90-98)；所述聚乙烯醇与所述酚醛树脂的重量比为：(2-10):(90-98)；所述纤维素衍生物与所述酚醛树脂的重量比为：(2-10):(90-98)。
本发明还公开一种有机树脂的制备方法，包括以下步骤：
将有机树脂的原料按重量份混合后于50-150℃的条件下加热60-200s得到有机树脂。
本发明还公开一种显示基板，包括衬底，以及形成于衬底上方的平坦化层，所述平坦化层包括上述的有机树脂形成的第一平坦化层。
优选的是，所述平坦化层还包括由酚醛树脂形成的第二平坦化层，所述第二平坦化层相较于所述第一平坦化层更靠近衬底。
本发明还公开一种显示基板的制备方法，包括以下步骤：
在衬底上形成平坦化层并曝光将所述平坦化层图案化，其中，所述平坦化层包括由上述的有机树脂形成的第一平坦化层；
在所述平坦化层上形成透明导电材料、金属层；
在所述透明导电材料上形成光刻胶并刻蚀、灰化。
优选的是，所述第一平坦化层的曝光量为25-50mj，固化温度为100-150℃，固化时间为100-200s。
本发明的有机树脂的原料中包括酚醛树脂和有机硅，其中，有机硅分散相与酚醛树脂间形成互穿网络过渡层，使得产品有机树脂的均匀性良好。更主要的是二者结合可增强树脂强度，减少灰化过程的损伤。当其涂覆应用于显示基板后，在后续的灰化工艺中，相较于现有的酚醛树脂，本实施例的有机树脂的损伤速率可降低30-50％。本发明的显示基板适用于各种显示装置。
附图说明
图1、图2、图3为本发明的实施例7的显示基板的结构示意图；
图4为本发明的实施例8的显示基板的结构示意图；
图5为本发明的实施例8的显示基板的制备流程示意图；
图6为本发明的实施例8的显示基板的SEM照片图；
图7为本发明的实施例9的显示基板的制备流程示意图；
其中，附图标记为：10、衬底；11、栅极；12、栅极绝缘层；13、源漏极；14、有源层；15、钝化层；21、第一平坦化层；22、第二平坦化层；23、透明导电材料层；24、金属层；25、光刻胶。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
实施例1：
本实施例提供一种有机树脂，包括以下重量份的原料：酚醛树脂90份，有机硅10份。
本实施例还提供一种该有机树脂的制备方法：将酚醛树脂90份，有机硅10份混合后于50℃的条件下加热200s即可得到胶体有机树脂。
其中，有机硅的主链结构为以硅－氧(Si－O)键，相较于键能为82.6千卡/克分子的C－C键，有机硅中的Si－O键的键能为121千卡/克分子，所以有机硅的热稳定性高，因此有机硅不但可耐高温，而且也耐低温，可在一个很宽的温度范围内使用，其化学性能以及物理机械性能，随温度的变化都很小。有机硅分散相与酚醛树脂间形成互穿网络过渡层，使得产品有机树脂的均匀性良好。当其涂覆应用于显示基板后，在后续的灰化工艺中，相较于现有的酚醛树脂，本实施例的有机树脂的损伤速率可降低30-50％。
实施例2：
本实施例提供一种有机树脂，包括以下重量份的原料：酚醛树脂95份，聚二甲基硅氧烷5份。
所述有机树脂包括以下结构式的聚合物：
其中，m为4-12之间的正整数，n为正整数。
该有机树脂的制备方法如下：将酚醛树脂95份，聚二甲基硅氧烷5份混合后于150℃的条件下加热60s即可得到有机树脂。
本实施例中的聚二甲基硅氧烷结构式为：
本实施例中的酚醛树脂可以是酸法制备的酚醛树脂：
也可以是碱法制备的酚醛树脂：
聚二甲基硅氧烷是一种有机硅，其透明度高，具有耐热性、耐寒性、黏度随温度变化小、防水性好、透光率100％等优点。其还具有良好的化学稳定性、电绝缘性和耐候性，可在-50℃～250℃下长期使用。酚醛树脂与聚二甲基硅氧烷混合后可增强树脂强度，减少灰化过程的损伤。
具体的，酚醛树脂中与苯环相连的羟基活泼性较高，聚二甲基硅氧烷与酚醛树脂，加热高于50℃后，会发生聚合反应，将两种长链分子相连，生成接枝或嵌段共聚物。并且，聚合反应后在灰化中起主要保护作用过的Si-O键不被破坏。此外，两者均为长链结构，在分子链的最外层均有氢键存在，氢键与氢键之间可形成紧密分子键，保证整体分子结构的紧密型与均匀性。
实施例3：
本实施例提供一种有机树脂，包括以下重量份的原料：酚醛树脂97份，聚二甲基硅氧烷3份。
该有机树脂的制备方法如下：将酚醛树脂95份，聚二甲基硅氧烷5份混合后于100℃的条件下加热100s即可得到有机树脂。
实施例4：
本实施例提供一种有机树脂，包括以下重量份的原料：酚醛树脂95份，聚二甲基硅氧烷5份，聚乙烯吡咯烷酮2份，聚乙烯醇2份，纤维素衍生物2份。
实施例5：
本实施例提供一种有机树脂，包括以下重量份的原料：酚醛树脂90份，聚二甲基硅氧烷5份，聚乙烯吡咯烷酮10份，聚乙烯醇10份。
实施例6：
本实施例提供一种有机树脂，包括以下重量份的原料：酚醛树脂90份，聚二甲基硅氧烷5份，聚乙烯吡咯烷酮5份，聚乙烯醇8份，纤维素衍生物10份。
实施例7：
本实施例提供一种显示基板，如图1所示，包括衬底10，以及形成于衬底10上方的平坦化层，所述平坦化层包括上述实施例的有机树脂形成的第一平坦化层21。
其中，本实施例中的衬底10为玻璃基底上已经形成有栅极11、栅极绝缘层12、有源层14、源漏极13、钝化层15。
优选的是，如图2所示，所述平坦化层还包括由酚醛树脂形成的第二平坦化层22，所述第二平坦化层22相较于所述第一平坦化层21更靠近衬底10。
优选的是，如图3所示，在第一平坦化层21上设有透明导电材料层23、金属层24。
实施例8：
本实施例提供一种显示基板的制备方法，如图4所示，包括以下步骤：
S01、在衬底10上涂覆上述实施例的有机树脂形成的第一平坦化层21，然后进行曝光、紫外固化；其中，曝光量为25-50mj，固化温度为100-150℃，固化时间为100-200s。在此，相较于现有技术，该步骤中的曝光量增大20-35％，紫外固化时的紫外照射量增大3-5％。
此外，本实施例中的衬底10为玻璃基底上已经形成有栅极11、栅极绝缘层12、有源层14、源漏极13、钝化层15。上述的在衬底10上涂覆有机树脂是在钝化层15上涂覆。
S02、在所述第一平坦化层21上形成透明导电材料层23、金属层24；其中，透明导电材料层23的材料可以是ITO层。
S03、在所述金属层24上形成光刻胶25，并采用半透式掩膜(HTM)工艺刻蚀、灰化，具体参见图5，将ITO层、金属层24形成过孔。
其中，由于第一平坦化层21由有机树脂构成，其强度较高，灰化速率低于光刻胶25(PR)，当光刻胶25减少到相应厚度后，第一平坦化层21(Resin)并不会造成损伤，灰化后实际SEM图形参见图6。可见第一平坦化层21的图形结构并无明显改变，说明第一平坦化层21得到强化，避免了损伤。即本实施例中灰化过程中的气体对第一平坦化层21无影响。
实施例9：
本实施例提供一种显示基板的制备方法，如图7所示，包括以下步骤：
S01、在衬底10上涂覆酚醛树脂形成第二平坦化层22；
S02、在第二平坦化层22上涂覆上述实施例的有机树脂形成的第一平坦化层21，然后进行曝光、紫外固化；其中，相较于现有技术，该步骤中的曝光量增大20-35％，紫外固化时的紫外照射量增大3-5％。
S03、在所述第一平坦化层21上形成透明导电材料层23(ITO层)、金属层24；
S04、在所述金属层24上形成光刻胶25，并刻蚀、灰化，将ITO层、金属层24一步形成过孔。
本实施例中采用双平坦化层结构，双平坦化层为在普通双平坦化层图案化后增加一道双平坦化层，新增双平坦化层选用上述实施例中提到的有机树脂。这样即可以保证平坦化层在灰化过程中不受损伤，又可以相应降低成本。
实施例10：
本实施例提供了一种显示装置，其包括上述任意一种显示基板。所述显示装置可以为：液晶显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
显然，上述各实施例的具体实施方式还可进行许多变化；例如：有机树脂的原料的具体配比可以根据需要进行改变，其加热温度可以根据需要进行调整。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种有机树脂，其特征在于，包括以下重量份的原料：酚醛树脂90-95份，有机硅5-10份。
2.根据权利要求1所述的有机树脂，其特征在于，所述有机硅包括聚二甲基硅氧烷。
3.根据权利要求2所述的有机树脂，其特征在于，所述有机树脂包括以下结构式的聚合物：
其中，m为4-12之间的正整数，n为正整数。
4.根据权利要求1所述的有机树脂，其特征在于，所述原料还包括：聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇、纤维素衍生物中的任意一种或几种。
5.根据权利要求4所述的有机树脂，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮与所述酚醛树脂的重量比为：(2-10):(90-98)；所述聚乙烯醇与所述酚醛树脂的重量比为：(2-10):(90-98)；所述纤维素衍生物与所述酚醛树脂的重量比为：(2-10):(90-98)。
6.一种权利要求1-5任一项所述的有机树脂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
将有机树脂的原料按重量份混合后于50-150℃的条件下加热60-200s得到有机树脂。
7.一种显示基板，包括衬底，以及形成于衬底上方的平坦化层，其特征在于，所述平坦化层包括由权利要求1-5任一项所述的有机树脂形成的第一平坦化层。
8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述平坦化层还包括由酚醛树脂形成的第二平坦化层，所述第二平坦化层相较于所述第一平坦化层更靠近衬底。
9.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
在衬底上形成平坦化层并曝光将所述平坦化层图案化，其中，所述平坦化层包括由权利要求1-5任一项所述的有机树脂形成的第一平坦化层；
在所述平坦化层上形成透明导电材料、金属层；
在所述透明导电材料上形成光刻胶并刻蚀、灰化。
10.根据权利要求9所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述第一平坦化层的曝光量为25-50mj，固化温度为100-150℃，固化时间为100-200s。
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