CN107132599A - 微结构基板及制造方法、显示装置 - Google Patents
微结构基板及制造方法、显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107132599A CN107132599A CN201710271727.7A CN201710271727A CN107132599A CN 107132599 A CN107132599 A CN 107132599A CN 201710271727 A CN201710271727 A CN 201710271727A CN 107132599 A CN107132599 A CN 107132599A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- substrate
- silicon dioxide
- manufacture method
- layer
- resistance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
- G02B5/0221—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having an irregular structure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5873—Removal of material
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0268—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the fabrication or manufacturing method
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
本发明公开了一种微结构基板及制造方法、显示装置,方法包括:在衬底基板上涂布一层耐指纹膜层;在耐指纹膜层上溅射二氧化硅层;对二氧化硅层进行蚀刻,以制备出具有多个圆弧凹陷微结构的二氧化硅层。通过上述方式,本发明能够改善微结构对高解析度面板画质的影响,减少画质的模糊程度,使得基板在高解析度面板上使用成为可能。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种微结构基板及制造方法、显示装置。
背景技术
目前,面板厂商常用的抗眩(ant i-glare)处理方式是在玻璃或塑胶基板表面制备凹凸不平的形貌,而此种抗眩基板贴合高解析度基板之后会显示的画质模糊,造成面板实际解析度的下降。因此,此种抗眩基板多数情况下仅用于对解析度要求不高的面板上。
发明内容
本发明提供一种微结构基板及制造方法、显示装置,能够改善微结构对高解析度面板画质的影响,减少画质的模糊程度,使得基板在高解析度面板上使用成为可能。
为解决上述技术问题,本发明采用的一种技术方案是:提供一种微结构基板的制造方法,所述方法包括:在衬底基板上涂布一层耐指纹膜层;在所述耐指纹膜层上溅射二氧化硅层;对所述二氧化硅层进行湿蚀刻,以制备出具有多个圆弧凹陷微结构的二氧化硅层。
为解决上述技术问题,本发明采用的另一种技术方案是:提供一种微结构基板,所述微结构基板包括:衬底基板;耐指纹膜层,所述耐指纹膜层涂布于所述衬底基板上;二氧化硅层,所述二氧化硅层覆盖于所述耐指纹膜层,包括多个圆弧凹陷微结构。
为解决上述技术问题,本发明采用的又一种技术方案是:提供一种显示装置,所述显示装置包括上述所述的微结构基板。
本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况,本发明通过采用蚀刻的工艺方式,在衬底基板上制备出具有圆弧凹陷的抗眩微结构,能够改善微结构对高解析度面板画质的影响,减少画质的模糊程度,使得基板在高解析度面板上使用成为可能。
附图说明
图1为本发明微结构基板制造方法一实施例的流程示意图;
图2为本发明微结构基板制备过程一实施方式的结构示意图;
图3为本发明二氧化硅与衬底基板的溅射方向一实施方式的示意图;
图4为本发明微结构弧面的切线与水平方向的夹角一实施方式的结构示意图;
图5为本发明微结构一实施方式的结构示意图;
图6为本发明微结构基板一仿真模拟示意图;
图7为本发明显示装置一实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1,图1为本发明微结构基板制造方法一实施例的流程示意图,图2为本发明微结构基板制备过程一实施方式的结构示意图,且该方法包括如下步骤:
S1,在衬底基板上涂布一层耐指纹膜层。
可进一步参见图2中a),其中,所述衬底基板可以为透明材质,具体可以是玻璃、陶瓷基板或者透明塑料等任意形式的基板,此处本发明不做具体限定。且在开始该工艺之前,需将该衬底基板清洗干净。
在本发明一应用场景中,该耐指纹膜层(anti-fingerprint)为二氧化硅、水溶性树脂、蜡及相关助剂的混合液体,该混合液体中以水溶性树脂有机材料为主,且该耐指纹膜层具有较好的耐酸性,可以阻止蚀刻液的侵蚀,因此可以保证后续的蚀刻工艺中微结构不会具有过高的深宽比(详见后文描述)。其中,该耐指纹膜层中二氧化硅可以增强耐指纹膜层与衬底基板之间的结合能力,提高膜层的粘附性和抗刮伤性,助剂主要起分散作用,使得混合液体中有机成分与无机成分呈现微米级甚至纳米级的分散状态,同时也保证混合液体的储存和使用的稳定性,水溶性树脂为膜层的粘结骨架材料,为膜层的主体材料,蜡具有自润滑功能,可以提高混合液体的加工性能。
S2,在耐指纹膜层上溅射二氧化硅层。
可进一步参见图2中b),在上述的耐指纹膜层上溅射一层厚度可以为1μm~3μm的二氧化硅层,在其它实施例中,该二氧化硅层也可以采用其它方式设置于耐指纹膜层上,此处不做具体限定。
其中,在溅射该二氧化硅层时,还需要调整靶材(二氧化硅)与衬底基板的溅射方向,且该溅射方向与衬底基板法线方向的夹角θ设定为75°~85°,以使得该溅射层为拥有较大孔隙密度的二氧化硅层,在后续蚀刻工艺中蚀刻速率较快,提升制备效率,具体可以参见图3,图3为本发明二氧化硅与衬底基板的溅射方向一实施方式的示意图。
S3,对二氧化硅层进行蚀刻,以制备出具有多个圆弧凹陷微结构的二氧化硅层。
可进一步参见图2中c),在溅射完二氧化硅层后,需要对其进行蚀刻,在本发明具体实施例中采用的是湿蚀刻技术,在其它实施例中也可以采用干蚀刻等技术,此处不做具体限定。其中,蚀刻液采用的是以氢氟酸为主的混合酸液,在其它实施例中,也可以采用其它可以侵蚀该二氧化硅层的蚀刻液,此处也不做具体限定。
在蚀刻过程中,需要控制蚀刻条件来保证得到需要的微结构,且该蚀刻条件至少包括蚀刻液浓度、蚀刻时间以及蚀刻液流动速率中的一种。通过工艺上对蚀刻条件进行控制,以得到具有多个圆弧凹陷微结构的二氧化硅层。其中,该圆弧凹陷微结构的宽度L可以为5μm~25μm,深度h和宽度L之比可以为0.05~0.15,弧面的切线与水平方向的夹角β为5°~20°,参见图4。
由上述方法制备的具有圆弧凹陷微结构的基板,通过控制其微结构形貌和结构参数,可以改善微结构对高解析度面板画质的影响,减少画质的模糊程度。
上述实施方式中,通过采用蚀刻的工艺方式,在衬底基板上制备出具有圆弧凹陷的抗眩微结构,能够改善微结构对高解析度面板画质的影响,减少画质的模糊程度,使得基板在高解析度面板上使用成为可能。
请参阅图5,图5为本发明微结构一实施方式的结构示意图。如图5,该微结构基板10包括:衬底基板11,耐指纹膜层12以及二氧化硅层13。
其中,衬底基板11可以为透明材质,具体可以是玻璃、陶瓷基板或者透明塑料等任意形式的基板,此处本发明不做具体限定。
耐指纹膜层12,该耐指纹膜层12涂布于衬底基板11上。且该耐指纹膜层可以为二氧化硅、水溶性树脂、蜡及相关助剂的混合液体,其中以水溶性树脂有机材料为主。
二氧化硅层13,该二氧化硅层13覆盖于耐指纹膜层12,包括多个圆弧凹陷微结构A。其中,该圆弧凹陷微结构的宽度L可以为5μm~25μm,深度h和宽度L之比可以为0.05~0.15,弧面的切线与水平方向的夹角θ为5°~20°。
请参阅图6,图6为本发明微结构基板一仿真模拟示意图,如图所示,图a)为测试图片,即标准正弦光栅图片。图b)为具有圆弧凹陷微结构基板形貌,通过模拟3种不同高度h和宽度L之比微结构形貌,得到如图c)所示的光强分布曲线。
其中,其中AG1、AG2及AG3微结构宽度L均为20μm,宽高比分别为0.1,0.2和0.3,BG为无微结构的衬底基板,从仿真模拟结果来看,微结构深宽比较小时,图像锐度和对比度均无明显下降,画质的保真度加好,随着深宽比的增加,图像锐度和对比度急剧下降,画质模糊不清,也就是说较小的深宽比结构有助于改善画质清晰度,结合微结构的抗眩效果,验证了该圆弧凹陷微结构的深宽比在0.05~0.15较为适宜,仿真模拟和实践相一致。
请参阅图7,图7为本发明显示装置一实施方式的结构示意图,该显示装置20包括上述任意结构的微结构基板B,或者由上述任一方法所制备的微结构基板,具体方法如上述各实施方式,此处不再赘述。
综上所述,本领域技术人员容易理解,本发明提供一种微结构基板及制造方法、显示装置,通过采用蚀刻的工艺方式,在衬底基板上制备出具有圆弧凹陷的抗眩微结构,能够改善微结构对高解析度面板画质的影响,减少画质的模糊程度,使得基板在高解析度面板上使用成为可能。
以上仅为本发明的实施方式,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种微结构基板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
在衬底基板上涂布一层耐指纹膜层;
在所述耐指纹膜层上溅射二氧化硅层;
对所述二氧化硅层进行蚀刻,以制备出具有多个圆弧凹陷微结构的二氧化硅层。
2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述在所述耐指纹膜层上溅射二氧化硅层包括:调整二氧化硅与所述衬底基板的溅射方向,所述溅射方向与所述衬底基板法线方向的夹角设定为75°~85°。
3.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,所述二氧化硅层的厚度为1μm~3μm。
4.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述对所述二氧化硅层进行蚀刻包括:控制蚀刻条件,其中,所述蚀刻条件至少包括蚀刻液浓度、蚀刻时间以及蚀刻液流动速率中的一种。
5.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述微结构宽度为5μm~25μm。
6.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述微结构深度和宽度之比为0.05~0.15。
7.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述微结构弧面的切线与水平方向的夹角为5°~20°。
8.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述耐指纹膜层的材料为二氧化硅、水溶性树脂、蜡及助剂的混合液体。
9.一种微结构基板,其特征在于,所述微结构基板包括:
衬底基板;
耐指纹膜层,所述耐指纹膜层涂布于所述衬底基板上;
二氧化硅层,所述二氧化硅层覆盖于所述耐指纹膜层,包括多个圆弧凹陷微结构。
10.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求9所述的微结构基板。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710271727.7A CN107132599B (zh) | 2017-04-24 | 2017-04-24 | 微结构基板及制造方法、显示装置 |
PCT/CN2017/085087 WO2018196060A1 (zh) | 2017-04-24 | 2017-05-19 | 微结构基板及制造方法、显示装置 |
US15/536,079 US20190086586A1 (en) | 2017-04-24 | 2017-05-19 | Microstructure substrates, manufacturing methods, and display devices |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710271727.7A CN107132599B (zh) | 2017-04-24 | 2017-04-24 | 微结构基板及制造方法、显示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107132599A true CN107132599A (zh) | 2017-09-05 |
CN107132599B CN107132599B (zh) | 2020-02-07 |
Family
ID=59715064
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710271727.7A Active CN107132599B (zh) | 2017-04-24 | 2017-04-24 | 微结构基板及制造方法、显示装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190086586A1 (zh) |
CN (1) | CN107132599B (zh) |
WO (1) | WO2018196060A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108932922A (zh) * | 2018-07-03 | 2018-12-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种修复能力测试装置及方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103608700A (zh) * | 2011-04-29 | 2014-02-26 | 尤尼皮克塞尔显示器有限公司 | 用于显示器的低反射率耐指纹表面 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4436285C2 (de) * | 1994-10-11 | 2002-01-10 | Univ Stuttgart | Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen von Orientierungsschichten auf ein Substrat zum Ausrichten von Flüssigkristallmolekülen |
JP2000321411A (ja) * | 1998-07-17 | 2000-11-24 | Toto Ltd | 浴室用防曇性鏡 |
TW200428268A (en) * | 2002-07-15 | 2004-12-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Internal touch panel, and process for producing it and display device |
CN201259555Y (zh) * | 2008-09-08 | 2009-06-17 | 芜湖长信科技股份有限公司 | 一种液晶电视平面背光源玻璃 |
US8968831B2 (en) * | 2011-12-06 | 2015-03-03 | Guardian Industries Corp. | Coated articles including anti-fingerprint and/or smudge-reducing coatings, and/or methods of making the same |
US10898933B2 (en) * | 2012-05-31 | 2021-01-26 | Corning Incorporated | Oleophobic glass articles |
US20150225608A1 (en) * | 2013-08-02 | 2015-08-13 | Lg Chem, Ltd. | Water repellent and oil repellent film, and electrical and electronic apparatus |
CN105950042B (zh) * | 2016-05-09 | 2019-08-02 | 东莞市纳利光学材料有限公司 | 一种抗菌防指纹复合膜及其制备方法 |
-
2017
- 2017-04-24 CN CN201710271727.7A patent/CN107132599B/zh active Active
- 2017-05-19 US US15/536,079 patent/US20190086586A1/en not_active Abandoned
- 2017-05-19 WO PCT/CN2017/085087 patent/WO2018196060A1/zh active Application Filing
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103608700A (zh) * | 2011-04-29 | 2014-02-26 | 尤尼皮克塞尔显示器有限公司 | 用于显示器的低反射率耐指纹表面 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108932922A (zh) * | 2018-07-03 | 2018-12-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种修复能力测试装置及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190086586A1 (en) | 2019-03-21 |
CN107132599B (zh) | 2020-02-07 |
WO2018196060A1 (zh) | 2018-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2013146372A1 (ja) | 黒色樹脂膜、静電容量型入力装置及びそれらの製造方法並びにこれを備えた画像表示装置 | |
CN207216211U (zh) | 彩膜基板、显示面板及显示装置 | |
JP2009506332A5 (zh) | ||
CN104497773B (zh) | 一种用于混凝土表面防护的水性含氟‑丙烯酸自分层乳液的制备方法 | |
CN107217262A (zh) | 抗眩盖板的制造方法及显示装置 | |
US6544090B1 (en) | Method for forming barrier structures on a substrate and the resulting article | |
US10280110B2 (en) | Method for strengthening edge of article, glass, and display apparatus | |
CN107132599A (zh) | 微结构基板及制造方法、显示装置 | |
CN105229530A (zh) | 使用自组装的聚合物纳米掩模的表面纳米制造方法 | |
CN107065292A (zh) | 黑矩阵及其制备方法和系统、显示基板和显示装置 | |
CN104989045B (zh) | 一种紫外光固化转印高光装饰板及其制造方法 | |
US10548224B2 (en) | Method for manufacturing touch device and resin composition thereof | |
KR20040029289A (ko) | 알루미늄 또는 알루미늄 합금층을 함유한 다층막 및단일막 식각액 조성물 | |
KR20160064030A (ko) | 기판의 접착방법 및 이를 통해 제조된 디스플레이용 기판 | |
CN104965352A (zh) | 一种转印板及其制作方法 | |
CN104989048B (zh) | 一种紫外光固化转印平光装饰板及其制造方法 | |
CN104297982B (zh) | 显示面板及显示装置 | |
CN109428007B (zh) | 一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置 | |
CN108274590A (zh) | 混凝土表面图案修饰方法 | |
CN105334697A (zh) | 光刻胶组合物及彩色滤光片的制作方法 | |
CN103756493B (zh) | 彩光黏土画板 | |
CN106292186A (zh) | 一种光刻方法 | |
CN103192650A (zh) | 一种通过打印生成深加工玻璃的图案的方法 | |
CN106646697B (zh) | 一种抗闪光盖板的制造方法 | |
CN109773956A (zh) | 无模具装饰混凝土制作方法及转印基膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |