CN107129070A - 一种玻璃抛光防皮带印残留的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种玻璃抛光防皮带印残留的方法，包括以下步骤：(1)将抛光池中已使用超过24小时的抛光废水抽入到反应池；(2)在反应池中依次添加氯化铝、氢氧化钠、氢氧化钾混合物，其中氯化铝的质量浓度为5％‑10％，氢氧化钠的质量浓度为5％‑15％，氢氧化钾的质量浓度为1％‑5％；(3)对反应池进行搅拌，搅拌时间为10‑30分钟，直至混合均匀后，静置沉淀，检测池水的PH值为7‑8后再送入下一工序；(4)将反应池中的水注入到抛光池中继续使用，即可。本发明的有益效果是：能够将玻璃抛光过程中的酸性废水转化成PH值为7至8的水，有效防止抛光机与玻璃表面接触的皮带印在玻璃的表面。

Description

一种玻璃抛光防皮带印残留的方法
技术领域
本发明涉及玻璃深加工技术领域，尤其涉及一种玻璃抛光防皮带印残留的方法。
背景技术
现有技术中，为了对玻璃表面进行抛光处理，普遍会采用抛光机对玻璃表面进行抛光，在抛光的过程中，需要将玻璃浸泡在自来水池中进行抛光，作业时间长了，自来水池中的水由于沉淀过多的玻璃粉末，使水呈酸性，若不对池中的水进行更换，每次抛光机与玻璃表面接触的皮带会印在玻璃的表面，影响抛光的质量。
发明内容
基于此，本发明的目的在于提供一种玻璃抛光防皮带印残留的方法，能够将玻璃抛光过程中的酸性废水转化成PH值为7至8的水，有效防止抛光机与玻璃表面接触的皮带印在玻璃的表面。
本发明提供一种玻璃抛光防皮带印残留的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将抛光池中已使用超过24小时的抛光废水抽入到反应池；
(2)在反应池中依次添加氯化铝、氢氧化钠、氢氧化钾混合物，其中氯化铝的质量浓度为5％-10％，氢氧化钠的质量浓度为5％-15％，氢氧化钾的质量浓度为1％-5％；
(3)对反应池进行搅拌，搅拌时间为10-30分钟，直至混合均匀后，静置沉淀，检测池水的PH值为7-8后再送入下一工序；
(4)将反应池中的水注入到抛光池中继续使用，即可。
作为优选方案，所述步骤(2)中氯化铝的质量浓度为8％。
作为优选方案，所述步骤(2)中氢氧化钠的质量浓度为10％。
作为优选方案，所述步骤(2)中氢氧化钾的质量浓度为2.5％。
作为优选方案，所述步骤(1)中，将抛光废水抽入到反应池之前先进行过滤，将大颗粒固体杂质过滤掉后，再将抛光废水抽入到反应池中。
本发明的有益效果为：通过在反应池中依次添加氯化铝、氢氧化钠、氢氧化钾混合物，充分混合后，从而将抛光废水转化为PH值为7-8的中性弱碱性用水，然后将反应池中的水注入到抛光池中继续使用，有效防止抛光机与玻璃表面接触的皮带印在玻璃的表面。
具体实施方式
为能进一步了解本发明的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
本发明提供本发明提供一种玻璃抛光防皮带印残留的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将抛光池中已使用超过24小时的抛光废水抽入到反应池；
(2)在反应池中依次添加氯化铝、氢氧化钠、氢氧化钾混合物，其中氯化铝的质量浓度为5％-10％，氢氧化钠的质量浓度为5％-15％，氢氧化钾的质量浓度为1％-5％；
(3)对反应池进行搅拌，搅拌时间为10-30分钟，直至混合均匀后，静置沉淀，检测池水的PH值为7-8后再送入下一工序；
(4)将反应池中的水注入到抛光池中继续使用，即可。
作为优选方案，所述步骤(2)中氯化铝的质量浓度为8％。
作为优选方案，所述步骤(2)中氢氧化钠的质量浓度为10％。
作为优选方案，所述步骤(2)中氢氧化钾的质量浓度为2.5％。
作为优选方案，所述步骤(1)中，将抛光废水抽入到反应池之前先进行过滤，将大颗粒固体杂质过滤掉后，再将抛光废水抽入到反应池中。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (5)

1.一种玻璃抛光防皮带印残留的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将抛光池中已使用超过24小时的抛光废水抽入到反应池；
(2)在反应池中依次添加氯化铝、氢氧化钠、氢氧化钾混合物，其中氯化铝的质量浓度为5％-10％，氢氧化钠的质量浓度为5％-15％，氢氧化钾的质量浓度为1％-5％；
(3)对反应池进行搅拌，搅拌时间为10-30分钟，直至混合均匀后，静置沉淀，检测池水的PH值为7-8后再送入下一工序；
(4)将反应池中的水注入到抛光池中继续使用，即可。
2.根据权利要求1所述的一种玻璃抛光防皮带印残留的方法，其特征在于，所述步骤(2)中氯化铝的质量浓度为8％。
3.根据权利要求1所述的一种玻璃抛光防皮带印残留的方法，其特征在于，所述步骤(2)中氢氧化钠的质量浓度为10％。
4.根据权利要求1所述的一种玻璃抛光防皮带印残留的方法，其特征在于，所述步骤(2)中氢氧化钾的质量浓度为2.5％。
5.根据权利要求1所述的一种玻璃抛光防皮带印残留的方法，其特征在于，所述步骤(1)中，将抛光废水抽入到反应池之前先进行过滤，将大颗粒固体杂质过滤掉后，再将抛光废水抽入到反应池中。
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