CN107119254B - 一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，包括上掩膜板、样品定位板和下掩膜板；上掩膜板上设有上掩膜开孔、第一紧固孔；下掩膜板上设有下掩膜开孔、定位槽、弹性片、掩膜片和第二紧固孔；下掩膜开孔与定位槽连通；弹性片和掩膜片顺次设于定位槽内；样品定位板上设有样品固定孔、第三紧固孔；样品固定孔设于对应的上掩膜开孔下方，且设于对应的定位槽的上方；第三紧固孔与上掩膜板上对应的第一紧固孔和下掩膜板上对应的第二紧固孔同轴设置。本发明能实现所有样品的上下两个需镀膜表面分别与上掩膜开孔边缘和掩膜片上第二通孔的边缘紧贴，以防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分，从而提高镀膜产品的品质。

Description

一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具
技术领域
本发明具体涉及一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具。
背景技术
气相沉积技术包括物理气相沉积技术和化学气相沉积技术，对于要求产生特殊形状的镀膜膜层时一般采用掩膜工艺。常规的掩膜夹具大多由上下两层组成，但由于镀膜样品膜厚往往不一样，从而经常会出现样品无法夹紧的情况。在对样品表面要求镀膜和非镀膜边缘清晰的情况下，上下两层组成的掩膜夹具存在一定的使用局限性。为了解决样品厚度差异导致密封不严的问题，公告号为CN204125521U的中国实用新型专利和公开号为CN105908124A的中国发明专利各自提出了用于克服以上问题的气相沉积工艺的掩膜夹具，但是以上两种结构都不能实现样品在同一周期的双面镀膜，尤其是对于对膜层应力敏感的样品存在致命的缺陷。
发明内容
针对上述问题，本发明提出一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，可以低成本地实现所有样品的上下两个需镀膜表面分别与上掩膜板的上掩膜开孔边缘和掩膜片上第二通孔的边缘紧贴，以防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分，从而提高镀膜产品的品质。
实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：
一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，包括从上至下顺次设置的上掩膜板、样品定位板和下掩膜板；
所述上掩膜板上设有上掩膜开孔、第一紧固孔；
所述下掩膜板上设有下掩膜开孔、定位槽、弹性片、掩膜片和第二紧固孔；所述下掩膜开孔与定位槽连通，位于定位槽的下方，且与定位槽同轴设置；所述弹性片和掩膜片从下至上顺次设于定位槽内，二者的外侧壁紧贴定位槽的内侧壁；
所述样品定位板上设有样品固定孔、第三紧固孔；所述样品固定孔设于上掩膜板上对应的上掩膜开孔下方，同时位于下掩膜板上对应的定位槽的上方，三者同轴设置，所述样品固定孔的横截面尺寸大于对应上掩膜开孔的横截面尺寸，且小于对应下掩膜上定位槽的横截面尺寸；所述第三紧固孔与上掩膜板上对应的第一紧固孔和下掩膜板上对应的第二紧固孔同轴设置，且三者的横截面尺寸相同。
进一步地，所述弹性片和掩膜片上分别设有第一通孔和第二通孔，所述第一通孔横截面尺寸大于或者等于第二通孔的横截面尺寸；所述第二通孔的横截面形状与样品下镀膜面所需的镀膜形状相同。
进一步地，所述第二通孔的横截面尺寸小于或者等于下掩膜开孔的横截面尺寸。
进一步地，所述弹性片为波浪形结构。
进一步地，所述上掩膜开孔的横截面形状与样品上镀膜面所需的镀膜形状相同。
进一步地，所述上掩膜开孔、第一通孔和第二通孔均为圆形。
进一步地，所述样品固定孔为圆柱形孔，用于定位样品。
进一步地，所述掩膜片的顶壁与样品固定孔的底壁处于同一平面。
进一步地，所述样品定位板和下掩膜板上还分别设有第四紧固孔和第五紧固孔，所述第四紧固孔和第五紧固孔同轴设置，且二者的横截面尺寸相同。
进一步地，所述上掩膜板、样品定位板和下掩膜板上对应的位置处分别设有用于配合定位使用的第一定位孔、第二定位孔和第三定位孔，三者同轴设置，且横截面尺寸相同。
本发明的有益效果：
本发明提出一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，该掩膜夹具通过在样品定位板和下掩膜板之间设置弹性片和掩膜片，利用弹性片给掩膜片施加弹力，即使样品厚度一致性较差，也能实现所有样品的上下两个需镀膜表面分别与上掩膜板的上掩膜开孔边缘和掩膜片上第二通孔的边缘紧贴，从而防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分，从而提高镀膜产品的品质。
附图说明
图1为本发明一种实施例的结构示意图；
图2为本发明的一种实施例的包含上掩膜开孔、样品定位孔、下掩膜开孔、掩膜片和弹性片的截面示意图；
图中：100-上掩膜板；101-上掩膜板开孔，102为第一紧固孔，103为第一定位孔，200为样品定位板，201为样品定位孔，202为第二紧固孔，203为第二定位孔，204为第四紧固孔，300为下掩膜板，301为下掩膜开孔，302为第三紧固孔，303为第三定位孔，304为第五紧固孔，305为定位槽，3011为掩膜片，3012为弹性片。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
下面结合附图对本发明的应用原理作详细的描述。
如图1-2所示，一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，包括从上至下顺次设置的上掩膜板100、样品定位板200和下掩膜板300；
所述上掩膜板100上设有上掩膜开孔101、第一紧固孔102；其中，所述上掩膜开孔101的横截面形状与样品上镀膜面所需的镀膜形状相同；
所述下掩膜板300上设有下掩膜开孔301、定位槽305、弹性片3012、掩膜片3011和第二紧固孔202；所述下掩膜开孔301与定位槽305连通，位于定位槽305的下方，且与定位槽305同轴设置；所述弹性片3012和掩膜片3011从下至上顺次设于定位槽305内，二者的外侧壁紧贴定位槽305的内侧壁；优选地，所述弹性片3012为波浪形结构或者弹簧结构，用于向掩膜片施加弹力；所述掩膜片3011的顶壁与样品固定孔201的底壁处于同一平面，或者略高于样品固定孔201的底壁，利用弹性片3012的弹性使得位于样品定位孔201内的样品与上掩膜开孔101的边缘紧贴，从而解决了样品厚度差异导致密封不严的问题，防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分。
所述样品定位板200上设有样品固定孔201、第三紧固孔302；所述样品固定孔201设于上掩膜板100上对应的上掩膜开孔101下方，同时位于下掩膜板300上对应的定位槽305的上方，三者同轴设置，所述样品固定孔201的横截面尺寸大于对应上掩膜开孔101的横截面尺寸，且小于对应下掩膜上定位槽305的横截面尺寸；所述第三紧固孔302与上掩膜板100上对应的第一紧固孔102和下掩膜板300上对应的第二紧固孔202同轴设置，且三者的横截面尺寸相同。
在本发明实施例的一种实施方式中，所述弹性片3012和掩膜片3011上分别设有第一通孔和第二通孔，所述第一通孔横截面尺寸大于或者等于第二通孔的横截面尺寸；所述第二通孔的横截面形状与样品下镀膜面所需的镀膜形状相同；优选地，所述第二通孔的横截面尺寸小于或者等于下掩膜开孔301的横截面尺寸；
当样品上下镀膜面所需的镀膜形状为圆形，且产品为圆柱形产品时，所述上掩膜开孔101、第一通孔、第二通孔和样品固定孔201均为圆柱形孔。在本发明的其他实施例中，所述上掩膜开孔101、第一通孔、第二通孔和样品固定孔201还可以是其他形状，具体由样品上镀膜面所需的镀膜形状和产品本身的形状决定。
实施例二
为了加强固定和便于实际的组装过程，本实施例与实施例一的区别在于：所述样品定位板200和下掩膜板300上还分别设有第四紧固孔204和第五紧固孔304，所述第四紧固孔204和第五紧固孔304同轴设置，且二者的横截面尺寸相同。
优选地，所述的第一紧固孔102、第二紧固孔202，第三紧固孔302，第四紧固孔204、第五紧固孔304分别设于上掩膜板100、样品定位板200和下掩膜板300的四周，具体数量根据实际需要设定。
实施例三
为了提高装配精度、节约装配时间，本实施例与实施例一或者实施例二的区别在于：所述上掩膜板100、样品定位板200和下掩膜板300上对应的位置处分别设有用于配合定位使用的第一定位孔103、第二定位孔203和第三定位孔303，三者同轴设置，且横截面尺寸相同。
优选地，所述第一定位孔103、第二定位孔203和第三定位孔303分别设于上掩膜板100、样品定位板200和下掩膜板300的端部，具体数量根据实际需要设定。
本发明的掩膜夹具在实际使用时的安装过程为：
S1：组装样品定位板和下掩膜板，具体为：首先将弹性片和掩膜片依次放入下掩膜板的定位槽内，然后将样品定位板上的第二定位孔与下掩膜板上的第三定位孔对其，实现将样品定位板对齐放置在下掩膜板上，并利用沉头螺钉将第四紧固孔和第五紧固孔锁紧，实现将样品定位板固定在下掩膜板上；
S2：组装样品和上掩膜板，具体为：将样品放入已经锁紧的样品定位板上的样品固定孔内，然后再将上掩膜板上的第一定位孔与样品定位板上的第二定位孔对齐，实现将上掩膜板对齐放置在样品定位板上，最后用螺钉将第一紧固孔、第二紧固孔和第三紧固孔锁紧，得到最终的用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具。
如此，即使样品厚度一致性较差，也可以使所有样品的上下表面紧贴上掩膜板和下掩膜板，从而防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分，从而提高镀膜产品的品质。
综上所述：
本发明提出一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，该掩膜夹具通过在样品定位板和下掩膜板之间设置弹性片和掩膜片，利用弹性片给掩膜片施加弹力，即使样品厚度一致性较差，也能实现所有样品的上下两个需镀膜表面分别与上掩膜板的上掩膜开孔边缘和掩膜片上第二通孔的边缘紧贴，从而防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分，从而提高镀膜产品的品质。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (8)

1.一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，其特征在于：包括从上至下顺次设置的上掩膜板、样品定位板和下掩膜板；
所述上掩膜板上设有上掩膜开孔、第一紧固孔；
所述下掩膜板上设有下掩膜开孔、定位槽、弹性片、掩膜片和第二紧固孔；所述下掩膜开孔与定位槽连通，位于定位槽的下方，且与定位槽同轴设置；所述弹性片和掩膜片从下至上顺次设于定位槽内，二者的外侧壁紧贴定位槽的内侧壁；
所述样品定位板上设有样品固定孔、第三紧固孔；所述样品固定孔设于上掩膜板上对应的上掩膜开孔下方，同时位于下掩膜板上对应的定位槽的上方，三者同轴设置，所述样品固定孔的横截面尺寸大于对应上掩膜开孔的横截面尺寸，且小于对应下掩膜上定位槽的横截面尺寸；所述第三紧固孔与上掩膜板上对应的第一紧固孔和下掩膜板上对应的第二紧固孔同轴设置，且三者的横截面尺寸相同；
所述弹性片和掩膜片上分别设有第一通孔和第二通孔，所述第一通孔横截面尺寸大于或者等于第二通孔的横截面尺寸；所述第二通孔的横截面形状与样品下镀膜面所需的镀膜形状相同；
所述上掩膜开孔的横截面形状与样品上镀膜面所需的镀膜形状相同。
2.根据权利要求1所述的一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，其特征在于：所述第二通孔的横截面尺寸小于或者等于下掩膜开孔的横截面尺寸。
3.根据权利要求1所述的一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，其特征在于：所述弹性片为波浪形结构。
4.根据权利要求1所述的一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，其特征在于：所述上掩膜开孔、第一通孔和第二通孔均为圆形。
5.根据权利要求1所述的一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，其特征在于：所述样品固定孔为圆柱形孔，用于定位样品。
6.根据权利要求1所述的一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，其特征在于：所述掩膜片的顶壁与样品固定孔的底壁处于同一平面。
7.根据权利要求1所述的一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，其特征在于：所述样品定位板和下掩膜板上还分别设有第四紧固孔和第五紧固孔，所述第四紧固孔和第五紧固孔同轴设置，且二者的横截面尺寸相同。
8.根据权利要求1所述的一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，其特征在于：所述上掩膜板、样品定位板和下掩膜板上对应的位置处分别设有用于配合定位使用的第一定位孔、第二定位孔和第三定位孔，三者同轴设置，且横截面尺寸相同。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109778112B (zh) * 2017-11-10 2021-04-06 上海和辉光电股份有限公司 张网夹具及金属掩膜版的张网方法
CN109136879B (zh) * 2018-08-21 2020-08-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种掩膜板
CN114577506A (zh) * 2020-11-30 2022-06-03 核工业理化工程研究院 一种用于真空镀膜样品的取样装置及其取样方法
CN114606463A (zh) * 2022-01-24 2022-06-10 武汉优光科技有限责任公司 一种用于分区镀膜的装置和镀膜方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4919076A (en) * 1988-10-03 1990-04-24 International Business Machines Corporation Reusable evaporation fixture
CN204125521U (zh) * 2014-08-14 2015-01-28 昆山萬豐電子有限公司 一种用于磁控溅射工艺的掩膜夹具
CN105002470A (zh) * 2015-07-13 2015-10-28 中国建筑材料科学研究总院 一种镀膜方法及掩模夹具
CN105908124A (zh) * 2016-07-05 2016-08-31 浙江大学昆山创新中心 一种用于气相沉积镀膜的掩膜夹具
CN106328831A (zh) * 2016-10-14 2017-01-11 京东方科技集团股份有限公司 一种贴合板、显示面板、其制作方法及显示装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62164867A (ja) * 1986-01-14 1987-07-21 Mitsubishi Electric Corp 成膜マスク装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4919076A (en) * 1988-10-03 1990-04-24 International Business Machines Corporation Reusable evaporation fixture
CN204125521U (zh) * 2014-08-14 2015-01-28 昆山萬豐電子有限公司 一种用于磁控溅射工艺的掩膜夹具
CN105002470A (zh) * 2015-07-13 2015-10-28 中国建筑材料科学研究总院 一种镀膜方法及掩模夹具
CN105908124A (zh) * 2016-07-05 2016-08-31 浙江大学昆山创新中心 一种用于气相沉积镀膜的掩膜夹具
CN106328831A (zh) * 2016-10-14 2017-01-11 京东方科技集团股份有限公司 一种贴合板、显示面板、其制作方法及显示装置

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