CN107093681A - 一种像素界定层制备方法、像素界定层及显示面板 - Google Patents

一种像素界定层制备方法、像素界定层及显示面板 Download PDF

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Abstract

本申请公开了一种像素界定层制备方法、像素界定层及显示面板，用以在像素界定层制备过程中控制像素界定层的高度和形状，从而可以提供厚度和形状满足显示器件要求的像素界定层，消除像素界定层在显示器件应用上的限制。本申请实施例提供的一种像素界定层制备方法，该方法包括：在基板上设置呈阵列分布的控制层，所述控制层用于控制像素界定层的形状和高度；在设置有呈阵列分布的控制层的所述基板上设置像素界定层；去除所述控制层。

Description

一种像素界定层制备方法、像素界定层及显示面板
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种像素界定层制备方法、像素界定层及显示面板。
背景技术
有机电致发光显示器具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，有机电致发光显示技术已经成为一种重要的显示技术。
有机电致发光器件薄膜沉积方法主要有真空蒸镀和溶液制程两种方法。真空蒸镀适用于有机小分子，其成膜均匀好、技术相对成熟、但是设备投资大、材料利用率低、大尺寸产品掩模板对位精度低。溶液制程：包括旋涂、喷墨打印、喷嘴涂覆法等，适用于聚合物材料和可溶性小分子，其特点是设备成本低，在大规模、大尺寸生产上优势突出。特别是喷墨打印技术，能将溶液精准的喷墨到像素区中，形成有机薄膜。但是其最大的难点是有机溶液在像素区内难以形成厚度均一且厚度可控的有机薄膜。若像素界定层较厚，则为了不影响电极蒸镀的连续性需要蒸镀较厚的电极，增加了生产成本，并且较厚的像素界定层不适用于需要设置薄电极的产品。
发明内容
本申请实施例提供了一种像素界定层制备方法、像素界定层及显示面板，用以在像素界定层制备过程中控制像素界定层的高度和形状，从而可以提供厚度和形状满足显示器件要求的像素界定层，消除像素界定层在显示器件应用上的限制。
本申请实施例提供的一种像素界定层制备方法，该方法包括：
在基板上设置呈阵列分布的控制层，所述控制层用于控制像素界定层的形状和高度；
在设置有呈阵列分布的控制层的所述基板上设置像素界定层；
去除所述控制层。
本申请实施例提供的像素界定层制备方法，由于在基板上设置所述控制层，从而在像素界定层制备过程中便于控制所述像素界定层的高度和形状，从而可以提供厚度和形状满足需要的像素界定层，可以避免蒸镀过厚的电极层，可以减少生产成本，还可以消除像素界定层因厚度不易控制在显示器件应用的限制。
较佳地，在垂直于所述基板方向上，所述控制层截面的形状为上窄下宽的梯形。
本申请实施例提供的像素界定层制备方法，通过设置所述控制层正梯形的厚度以及底角的角度，从而可以控制像素界定层的厚度和形状。在垂直于所述基板方向上，采用本申请实施例提供的方法制得的像素界定层的形状为上宽下窄的梯形，即倒梯形，倒梯形像素界定层成膜均一性好，并且厚度可以控制，消除了倒梯形像素界定层厚度不容易控制在显示器件应用的限制。
较佳地，在基板上设置呈阵列分布的控制层具体包括：
对所述基板进行表面处理，使所述基板具有疏水能力；
通过喷墨打印将水溶性高分子材料打印到所述基板的像素区；
将所述水溶性高分子材料固化成膜形成所述控制层。
较佳地，所述控制层的厚度为50～500纳米。
较佳地，所述水溶性高分子材料包括下列材料之一或组合：淀粉类、纤维素类、聚乙烯醇类、聚丙烯酸盐类、聚氧乙烯类。
较佳地，在所述基板上设置像素界定层具体包括：
通过旋涂或狭缝涂覆将光刻胶涂覆到所述基板上，并覆盖所述控制层；
对所述光刻胶进行曝光显影，形成像素界定层。
较佳地，所述光刻胶的材料包括下列材料之一或组合：聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯类、有机硅烷。
较佳地，在设置有呈阵列分布的控制层的所述基板上设置多层像素界定层。
本申请实施例提供的一种像素界定层，所述像素界定层采用本申请实施例提供的像素界定层制备方法制得。
本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例提供的像素界定层。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种像素界定层制备方法的流程示意图；
图2为本申请实施例提供的在垂直于衬底方向上控制层和像素界定层截面形状示意图；
图3为本申请实施例一提供的像素界定层制备方法流程示意图；
图4为本申请实施例二提供像素界定层制备方法流程示意图；
图5为本申请实施例三提供像素界定层制备方法流程示意图。
具体实施方式
本申请实施例提供了一种像素界定层制备方法、像素界定层及显示面板，用以在像素界定层制备过程中控制像素界定层的高度和形状，从而可以提供厚度和形状符合显示器件设置要求的像素界定层，消除像素界定层在显示器件应用的限制。
本申请实施例提供了一种像素界定层制备方法，如图1所示，该方法包括：
S101、在基板上设置呈阵列分布的控制层，所述控制层用于控制像素界定层的形状和高度；
S102、在设置有呈阵列分布的控制层的所述基板上设置像素界定层；
S103、去除所述控制层。
本申请实施例提供的像素界定层制备方法，由于在基板上设置所述控制层，从而在像素界定层制备中便于控制所述像素界定层的高度和形状，可以提供厚度和形状满足需要的像素界定层，从而可以避免蒸镀过厚的电极层，可以减少生产成本，还可以消除像素界定层因厚度不易控制在显示器件应用的限制。
较佳地，如图2所示，在垂直于所述基板1的方向上，所述控制层2截面的形状为上窄下宽的梯形，即正梯形。这样，在垂直于所述基板1方向上，采用本申请实施例提供的像素界定层制备方法制得的像素界定层3的形状为上宽下窄的梯形，即倒梯形，本申请实施例提供的像素界定层制备方法，通过设置所述控制层正梯形的厚度以及底角的角度，从而控制形成的倒梯形像素界定层厚度以及倒梯形底角的角度。倒梯形可以减少喷墨打印以后墨水在膜层上面的攀爬，有利于提升有机墨水的成膜均一性。本申请实施例提供的像素界定层制备方法制得的倒梯形像素界定层成膜均一性好，并且厚度可以控制。
较佳地，在基板上设置呈阵列分布的控制层具体包括：
对所述基板进行表面处理，使所述基板具有疏水能力；
通过喷墨打印将水溶性高分子材料打印到所述基板的像素区；
将所述水溶性高分子材料固化成膜形成所述控制层。
较佳地，所述控制层的厚度为50～500纳米。
较佳地，所述水溶性高分子材料包括下列材料之一或组合：淀粉类、纤维素类、聚乙烯醇类、聚丙烯酸盐类、聚氧乙烯类。
较佳地，在所述基板上设置像素界定层具体包括：
通过旋涂或狭缝涂覆将光刻胶涂覆到所述基板上，并覆盖所述控制层；
对所述光刻胶进行曝光显影，形成像素界定层。
较佳地，所述光刻胶的材料包括下列材料之一或组合：聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯类、有机硅烷。
较佳地，在设置有呈阵列分布的控制层的所述基板上设置多层像素界定层。
较佳地，包括多层的像素界定层的总厚度为1～3微米。
下面对本申请实施例提供的像素界定层制备方法进行举例说明。
实施例一，如图3所示，采用聚酰亚胺作为光刻胶材料，制备一层倒梯形像素界定层包括如下步骤：
S301、对基板1进行表面处理，使基板具有一定的疏水能力；
对基板进行表面处理可以采用四氟甲烷(CF4)等离子进行处理，也可以采用氟化硅烷、氯硅氧烷进行表面处理。
S302、通过喷墨打印将水溶性高分子材料4打印到所述基板的像素区；
S303、将所述水溶性高分子材料4固化成膜，形成控制层；
S304、通过旋涂或狭缝涂覆方式将聚酰亚胺5涂布到所述基板1上，并覆盖所述水溶性高分子材料4控制层；
S305、对聚酰亚胺5进行曝光显影，形成一层倒梯形像素界定层。
S306、去除水溶性高分子材料4控制层。
本申请实施例提供的像素界定层制备方法，采用一步曝光工艺形成像素界定层，工艺流程简单，并且适用于本申请实施例提供的聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯类、有机硅烷等正性光刻胶材料，在实际制备像素界定层时，可将聚酰亚胺替换成其他光刻胶材料。
实施例二、像素界定层包括上下两层倒梯形，上层倒梯形的倾斜角与下层倒梯形倾斜角不同，制备下层倒梯形的步骤采用实施例一提供的步骤S301～S306，之后，采用与聚酰亚胺不同的的材料作为光刻胶，如图4所示，制备第二层倒梯形包括如下步骤：
S407、对设置有一层倒梯形聚酰亚胺5的基板1进行表面处理，使基板具有一定的疏水能力；
对基板进行表面处理可以采用四氟甲烷(CF4)等离子处理，也可以采用氟化硅烷、氯硅氧烷进行表面处理。
S408、通过喷墨打印将水溶性高分子材料4打印到所述基板1的像素区，并将所述水溶性高分子材料4固化成膜，形成控制层；
S409、通过旋涂或狭缝涂覆方式将第二种光刻胶材料6涂布到聚酰亚胺5上,并覆盖所述水溶性高分子材料4控制层；
当需要设置两层不同材料的倒梯形像素界定层，第二种光刻胶材料选择出聚酰亚胺外的其他光刻胶材料即可；
S410、对第二种光刻胶材料6进行曝光显影，形成第二层倒梯形像素界定层。
S411、去除水溶性高分子材料4控制层，最终得到包括上下两层倒梯形的像素界定层。
需要说明的是，实施例二提供的像素界定层制备方法制得的像素界定层，上层倒梯形的材料与下层倒梯形的材料不同，实际生产中，上下两层倒梯形的材料也可以是相同的，在制备过程中，只要将步骤S409中的第二种光刻胶材料选用与下层倒梯形相同的材料即可。
实施例三，像素界定层包括一层倒梯形以及位于倒梯形之上的正梯形，上下两层正梯形材料相同，采用聚酰亚胺作为光刻胶材料，如图5所示，制备像素界定层包括如下步骤：
S501、对基板1进行表面处理，使基板具有一定的疏水能力；
对基板进行表面处理可以采用四氟甲烷(CF4)等离子处理，也可以采用氟化硅烷、氯硅氧烷进行表面处理。
S502、通过喷墨打印将水溶性高分子材料4打印到所述基板1的像素区；
S503、将所述水溶性高分子材料4固化成膜，形成控制层；
S504、通过旋涂或狭缝涂覆方式将聚酰亚胺5涂布到所述基板1上，并覆盖所述水溶性高分子材料4控制层；
S505、对聚酰亚胺5进行曝光显影，得到下层是倒梯形、上层是正梯形的像素界定层。
S506、去除水溶性高分子材料4控制层。
采用本申请实施例提供的像素界定层制备方法，可以制备一层像素界定层，也可以制备两层甚至更多层像素界定层，像素界定层每层的材料和形状可以相同也可以不同。
本申请实施例提供的一种像素界定层，所述像素界定层采用本申请实施例提供的像素界定层制备方法制得。
本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例提供的像素界定层。
例如，本申请实施例提供的显示面板可以是OLED显示面板。
综上所述，本申请实施例提供的像素界定层制备方法、像素界定层及显示面板，由于在基板上设置所述控制层，从而在像素界定层制备中便于控制所述像素界定层的高度和形状，可以提供厚度和形状满足需要的像素界定层，从而可以避免蒸镀过厚的电极层，可以减少生产成本，还可以消除像素界定层因厚度不易控制在显示器件应用的限制。本申请实施例提供的像素界定层制备方法，通过设置所述控制层正梯形的厚度以及底角的角度，从而可以控制像素界定层的厚度和形状，在垂直于所述基板方向上，采用本申请实施例提供的方法制得的像素界定层的形状为上宽下窄的梯形，即倒梯形，倒梯形像素界定层成膜均一性好，并且厚度可以控制，消除了倒梯形像素界定层厚度不容易控制在显示器件应用的限制。
显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种像素界定层制备方法，其特征在于，该方法包括：
在基板上设置呈阵列分布的控制层，所述控制层用于控制像素界定层的形状和高度；
在设置有呈阵列分布的控制层的所述基板上设置像素界定层；
去除所述控制层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在垂直于所述基板方向上，所述控制层截面的形状为上窄下宽的梯形。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在基板上设置呈阵列分布的控制层具体包括：
对所述基板进行表面处理，使所述基板具有疏水能力；
通过喷墨打印将水溶性高分子材料打印到所述基板的像素区；
将所述水溶性高分子材料固化成膜形成所述控制层。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述控制层的厚度为50～500纳米。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述水溶性高分子材料包括下列材料之一或组合：淀粉类、纤维素类、聚乙烯醇类、聚丙烯酸盐类、聚氧乙烯类。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述基板上设置像素界定层具体包括：
通过旋涂或狭缝涂覆将光刻胶涂覆到所述基板上，并覆盖所述控制层；
对所述光刻胶进行曝光显影，形成像素界定层。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述光刻胶的材料包括下列材料之一或组合：聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯类、有机硅烷。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在设置有呈阵列分布的控制层的所述基板上设置多层像素界定层。
9.一种像素界定层，其特征在于，所述像素界定层采用权利要求1～8任一权利要求所述的方法制得。
10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求9所述的像素界定层。
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