CN107093371B - 一种显示器件及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

一种显示器件，包括盖板、以及盖板底面涂覆的光学调整层、及遮蔽层，光学调整层包括叠加组合在一起的氮化钼子层与氧化硅子层，其中氮化钼子层位于盖板一侧，氧化硅层位于显示屏一侧。本发明通过光学调整层中的氮化钼子层与氧化硅子层叠加组合，熄屏时正面光线反射率大于60％，点亮时背面光线透射率大于50％，完全满足显示屏点亮时作为正常显示器件使用，熄屏时作为镜子使用，将遮蔽层涂印在光学调整层的氧化硅子层上，遮蔽层与显示屏中心显示区域从视觉上看起来成为一体，使镜面更宽，使用更方便。本显示器件的制备方法工艺简单，可适用于大批量生产。

Description

一种显示器件及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示器领域，特别的，涉及一种可作为镜子使用的显示器件及其制备方法。
背景技术
随着手机、平板等数码产品在人们日常生活中的普及，人们对数码产品显示器面板的要求也越来越高，在保证正常显示的前提下，还需要尽可能更多的功能，为人们的生活提供方便，现有市面上的数码产品熄屏时，显示器面板还能当镜子使用，现有的带镜子功能的显示器面板一般是在面板上镀金属膜层，但熄屏时其正面光线反射率不够，镜子使用效果差，也有正面光线反射率较高的，但屏幕点亮时其背面光线透射率不高而影响显示屏的正常使用，或者其加工工艺复杂，成本高。中国专利201520482448.1公开了一种半透半反智能化妆镜，其镜面上镀有半透半反膜层，其LCD模组未显示时，可作为普通镜子使用，其半透半反膜层采用NB2O5、SiO2、Si3N4、TiO2中的至少两种，该方案只阐述了其半透半反膜层对150nm～650nm可见光波段的透射率为35～50％，反射率为50～65％，并未详述屏幕点亮时其背面光线的透射率，且未公开其半透半反膜层的具体结构。
发明内容
本发明目的在于提供一种显示器件及其制备方法，使得该显示器件在熄屏时正面反射率尽可能地高以使得其作为镜子使用的效果更好，同时在该显示器件点亮时背面光线透射率较高以保持该显示器件的正常显示效果，从而解决背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示器件，在厚度方向依次包括盖板、盖板底面涂覆的光学调整层以及显示屏，所述光学调整层包括叠加组合在一起的氮化钼子层与氧化硅子层，其中氮化钼子层位于盖板一侧，氧化硅子层位于显示屏一侧。
进一步的，所述盖板底面涂覆的光学调整层为一层或重复叠加的多层。
进一步的，所述光学调整层中，氮化钼子层的厚度为2～15nm，氧化硅子层的厚度为60～100nm。
优选的，所述氮化钼子层为MoyNx，其中N原子数x与Mo原子数y的比值范围为：x：y＝(1.7～2)：3，所述氧化硅子层为SiwOz，其中O原子数z与Si原子数w的比值范围为：z：w＝(1.8～2)：1。
进一步的，所述显示器件还包括盖板与显示屏之间的遮住显示屏边框区域的遮蔽层，遮蔽层涂印于盖板底面，第一层光学调整层的氮化钼子层整面涂覆在印有遮蔽层的盖板底面上；或者遮蔽层涂印于最后一层光学调整层的氧化硅子层上，再在该涂印有遮蔽层的氧化硅子层上整面涂粘光学胶，或在显示屏上涂粘光学胶，通过光学胶将涂有光学调整层与遮蔽层的盖板与显示屏粘合在一起；当遮蔽层涂印于盖板底面时，所述氮化钼子层的涂覆厚度不包括遮蔽层的厚度，即不包括嵌入遮蔽层所围成的中心显示区域部分的厚度。
一种显示器件的制备方法，包括以下步骤：
1)在盖板底面涂覆光学调整层，或涂印遮蔽层；
2)在光学调整层上涂印遮蔽层，或在涂有遮蔽层的盖板底面上整面涂覆光学调整层；
3)通过水胶或OCA等光学胶将步骤2结束后的盖板涂有遮蔽层及光学调整层的一面与显示屏粘合在一起。
步骤1及步骤2中所涂覆的光学调整层为一层、或重复叠加的多层。
每一层所述光学调整层的涂覆过程为：先在盖板底面或前一层光学调整层的氧化硅子层上镀氮化钼子层，再在该氮化钼子层上镀氧化硅子层。
所述光学调整层采用阴极溅射方式涂覆，所述遮蔽层采用丝印方式涂印。
有益效果：本发明通过光学调整层中的氮化钼子层增大反射率，氧化硅子层增大透射率，两者叠加组合后，使显示器熄屏时正面光线反射率大于60％，显示屏点亮时背面光线穿透率大于50％，完全满足显示屏点亮时作为正常显示器件使用，熄屏时可作为镜子使用，且不影响显示屏的电性能，通过夹在盖板与显示屏边框区域之间的遮蔽层，将显示屏除中心显示区域之外的外露线路遮住，若将遮蔽层涂印在光学调整层的氧化硅子层上，光学调整层对遮蔽层的颜色具有调整作用，即使遮蔽层与显示屏中心显示区域从视觉上看起来成为一体，淡化两者之间的颜色层次，使镜面更宽，使用更方便。本显示器件的制备方法工艺简单，可适用于大批量生产。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本发明作进一步详细的说明。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1是本发明优选实施例一的盖板横截面图；
图2是本发明优选实施例二的盖板横截面图；
图3是本发明实施例一的制备方法过程示意图；
图4是本发明实施例二的制备方法过程示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的实施例进行详细说明，但是本发明可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
实施例一
参见图1，一种显示器件，包括盖板、以及盖板底面涂覆的一层光学调整层，光学调整层包括叠加在一起的Mo3N2子层与SiO2子层，其中的Mo3N2子层位于盖板一侧为上层，SiO2层位于显示屏一侧为下层。
本实施例中，光学调整层的Mo3N2子层的厚度a为5nm，SiO2子层的厚度b为90nm。
显示器件还包括盖板与显示屏之间的遮住显示屏边框区域的遮蔽层，本实施例中，遮蔽层涂印于光学调整层的SiO2子层上。
参见图3，实施例一中显示器件的制备方法，包括以下步骤：
1)在盖板底面涂覆光学调整层；
2)在光学调整层上涂印遮蔽层；
3)通过OCA将步骤2结束后的盖板涂有遮蔽层及光学调整层的一面与显示屏粘合在一起，其中OCA整面涂粘在印有光学调整层及遮蔽层的盖板底面，且将遮蔽层在最后一层光学调整层的氧化硅子层上所围成的中心显示区域填平，使OCA与最后一层光学调整层的氧化硅子层无缝隙粘合。
本实施例中，步骤1中涂覆的光学调整层为一层，步骤1中采用阴极溅射涂覆光学调整层，步骤2中采用丝印方式涂印遮蔽层。
光学调整层的涂覆过程为：先在盖板底面镀Mo3N2子层，再在该Mo3N2子层上镀SiO2子层。
实施例二
参见图2，一种显示器件，包括盖板、一层光学调整层，光学调整层包括叠加在一起的Mo3N1.9子层与SiO1.9子层，其中的Mo3N1.9子层位于盖板一侧为上层，SiO1.9子层位于显示屏一侧为下层。
本实施例中，光学调整层的Mo3N1.9子层的厚度a为8nm，SiO1.9子层的厚度b为80nm。
显示器件还包括盖板与显示屏之间的遮住显示屏边框区域的遮蔽层，本实施例中，遮蔽层涂印于于盖板底面，光学调整层的Mo3N1.9子层整面涂覆在印有遮蔽层的盖板底面上，SiO1.9子层涂覆在Mo3N1.9子层上，本实施例中，Mo3N1.9子层的厚度a不包括遮蔽层的厚度c。
参见图4，实施例二中显示器件的制备方法，包括以下步骤：
1)在盖板底面涂印遮蔽层；
2)在遮蔽层上涂覆光学调整层，其中第一层光学调整层的氮化钼子层整面涂覆在印有遮蔽层的盖板底面，且将遮蔽层在盖板底面所围成的中心显示区域填平，使第一层光学调整层的氮化钼子层与盖板底面无缝粘合；
3)通过OCA将步骤2结束后的盖板涂有遮蔽层及光学调整层的一面与显示屏粘合在一起。
本实施例中，步骤2中涂覆的光学调整层为一层，步骤2中采用阴极溅射涂覆光学调整层，步骤1中采用丝印方式涂印遮蔽层。
光学调整层的涂覆过程为：先在遮蔽层镀Mo3N1.9子层，再在该Mo3N1.9子层上镀SiO1.9子层。
本发明中，实施例一与实施例二的遮蔽层均使用黑色油墨。
本发明实施例一、实施例二及对比实施例的实验效果如表1
表1
从表1可看出，实施例一及实施例二中的光学调整层，在正面光线反射率大于60％的同时，还能保证到背面光线透射率大于50％，因此，实施例一及实施例二中的光学调整层完全可以当镜面使用，且显示屏点亮时，光线透射率也能大于50％，同时满足镜面与显示屏的使用条件。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种显示器件，其特征在于，在厚度方向依次包括盖板、盖板底面涂覆的光学调整层以及显示屏，所述光学调整层包括叠加组合在一起的氮化钼子层与氧化硅子层，其中氮化钼子层位于盖板一侧，氧化硅子层位于显示屏一侧；所述光学调整层中，氮化钼子层的厚度为2～15nm，氧化硅子层的厚度为60～100nm；
所述显示器件还包括位于盖板与显示屏之间的用于遮住显示屏边框区域的遮蔽层，遮蔽层涂印于盖板底面，第一层光学调整层的氮化钼子层整面涂覆在印有遮蔽层的盖板底面上；或者遮蔽层涂印于最后一层光学调整层的氧化硅子层上；当遮蔽层涂印于盖板底面时，所述氮化钼子层的涂覆厚度不包括遮蔽层的厚度，即不包括嵌入遮蔽层所围成的中心显示区域部分的厚度。
2.根据权利要求1所述的一种显示器件，其特征在于，所述光学调整层为一层或重复叠加的多层。
3.根据权利要求2所述的一种显示器件，其特征在于，所述氮化钼子层为MoyNx，其中N原子数x与Mo原子数y的比值范围为：x：y＝(1.7～2)：3，所述氧化硅子层为SiwOz，其中O原子数z与Si原子数w的比值范围为：z：w＝(1.8～2)：1。
4.一种如权利要求1～3中任一项所述显示器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)在盖板底面涂覆光学调整层，或涂印遮蔽层；
2)在光学调整层上涂印遮蔽层，或在遮蔽层上涂覆光学调整层；
3)通过光学胶将步骤2)结束后的盖板涂有遮蔽层及光学调整层的一面与显示屏粘合在一起。
5.根据权利要求4所述显示器件的制备方法，其特征在于，所述光学胶为水胶或OCA。
6.根据权利要求5所述显示器件的制备方法，其特征在于，每一层所述光学调整层的涂覆过程为：先在盖板底面或前一层光学调整层的氧化硅子层上镀氮化钼子层，再在该氮化钼子层上镀氧化硅子层。
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