CN107067984A - 曲面显示面板的制作方法、曲面显示面板及曲面显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种曲面显示面板的制作方法、曲面显示面板及曲面显示装置，涉及显示技术领域。本发明通过制作阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸，将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对合。通过预先计算补正量，在制作阵列基板和彩膜基板的阶段，根据预先获得的补正量调整阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸，以实现弯曲后的阵列基板与彩膜基板无偏移对合，提高开口率，减少漏光现象的发生。

Description

曲面显示面板的制作方法、曲面显示面板及曲面显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种曲面显示面板的制作方法、曲面显示面板及曲面显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，曲面显示越来越受到面板厂商和消费者的推崇，曲面显示面板是一种采用柔性塑料的显示面板，主要通过OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)面板来实现，相比于传统的直面显示面板，曲面显示面板的弹性更好，不易破碎，且能带来更直观的视觉感受。

目前，在制作曲面显示面板的工艺中，使用正常的mask(掩膜板)工艺制作阵列基板和彩膜基板，将制作好的阵列基板和彩膜基板对合之后，由于采用弯曲技术，要将原有的直面显示面板弯曲，曲面显示面板会以显示面板的中心位置为基准，使得彩膜基板上的黑矩阵与阵列基板上的非像素开口区域，从原本正对应的位置发生一定程度的偏移。图1示出了现有的曲面显示面板的结构示意图，阵列基板11和彩膜基板12弯曲后，彩膜基板12上的黑矩阵121与阵列基板11上的非像素开口区域111，从原本正对应的位置发生一定程度的偏移，偏移之后黑矩阵121(或非像素开口区域111)的宽度与产生偏移的宽度的总和为第一对合宽度D1。

在发明人应用在先技术时，发现在先技术对于现有的曲面显示面板，彩膜基板上的黑矩阵会遮蔽阵列基板上的部分像素开口区域，且越到曲面显示面板的边缘，契合度越不好，黑矩阵与非像素开口区域的偏移量越大，导致开口率降低，且容易发生漏光现象。

发明内容

本发明提供一种曲面显示面板的制作方法、曲面显示面板及曲面显示装置，以解决现有的曲面显示面板开口率低，且容易发生漏光现象的问题。

为了解决上述问题，本发明公开了一种曲面显示面板的制作方法，包括：

制作阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸；

将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对合。

优选地，所述补正量等于1减去第一尺寸与第二尺寸的比值后得到的差值；所述第一尺寸为所述曲面显示面板的曲率半径与所述彩膜基板的厚度的和，所述第二尺寸为所述第一尺寸以及所述阵列基板与所述彩膜基板之间的间距的和。

优选地，所述阵列基板的曲边尺寸为加入所述补正量后的尺寸；或者，所述彩膜基板的曲边尺寸为减去所述补正量后的尺寸。

优选地，所述补正量等于1减去第一尺寸与第二尺寸的比值后得到的差值；所述第一尺寸为所述曲面显示面板的曲率半径与所述阵列基板的厚度的和，所述第二尺寸为所述第一尺寸以及所述阵列基板与所述彩膜基板之间的间距的和。

优选地，所述阵列基板的曲边尺寸为减去所述补正量后的尺寸；或者，所述彩膜基板的曲边尺寸为加入所述补正量后的尺寸。

优选地，所述制作阵列基板和彩膜基板的步骤，包括：

根据所述补正量与所述曲面显示面板的中心位置对应的坐标值，制作掩膜板；

利用所述掩膜板制作所述阵列基板或所述彩膜基板。

优选地，所述利用所述掩膜板制作所述阵列基板或所述彩膜基板的步骤，包括：

利用所述掩膜板制作至少一个阵列基板或至少一个彩膜基板；所述阵列基板的曲边尺寸为以其中心位置为基准进行缩小或增大后的尺寸，或所述彩膜基板的曲边尺寸为以其中心位置为基准进行增大或缩小后的尺寸

其中，所述掩膜板包括至少一个掩膜区域，一个掩膜区域对应形成一个阵列基板或一个彩膜基板。

优选地，所述制作阵列基板和彩膜基板的步骤，包括：

根据所述补正量与所述曲面显示面板的中心位置对应的坐标值，调整曝光机的曝光位置参数；

基于所述曝光位置参数，制作所述阵列基板或所述彩膜基板。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种曲面显示面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸。

优选地，所述阵列基板的非像素开口区域与所述彩膜基板上的黑矩阵之间无偏移。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种曲面显示装置，包括上述的曲面显示面板。

与现有技术相比，本发明包括以下优点：

根据本发明的一种曲面显示面板的制作方法、曲面显示面板及曲面显示装置，通过制作阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸，将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对合。通过预先计算补正量，在制作阵列基板和彩膜基板的阶段，根据预先获得的补正量调整阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸，以实现弯曲后的阵列基板与彩膜基板无偏移对合，提高开口率，减少漏光现象的发生。

附图说明

图1示出了现有的曲面显示面板的结构示意图；

图2示出了本发明实施例一的一种曲面显示面板的制作方法的流程图；

图3示出了本发明的一种补正量的计算原理图；

图4示出了本发明的一种掩膜板的结构示意图；

图5示出了本发明的另一种掩膜板的结构示意图；

图6示出了本发明补正后的曲面显示面板的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

实施例一

参照图2，示出了本发明实施例一的一种曲面显示面板的制作方法的流程图，具体可以包括如下步骤：

步骤201，制作阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸。

本发明实施例中，首先分别制作阵列基板和彩膜基板，在制作阵列基板和彩膜基板的阶段，可以根据预先获得的补正量只调整阵列基板的曲边尺寸，彩膜基板的曲边尺寸无需做调整；或者，可以根据预先获得的补正量只调整彩膜基板的曲边尺寸，阵列基板的曲边尺寸无需做调整；或者，还可以根据预先获得的补正量调整阵列基板和彩膜基板的曲边尺寸。

其中，彩膜基板的黑矩阵与阵列基板上的非像素开口区域没有偏移时，黑矩阵(或非像素开口区域)的宽度为第二对合宽度D2，如图6所示；若阵列基板和彩膜基板发生偏移，偏移之后黑矩阵(或非像素开口区域)的宽度与产生偏移的宽度的总和为第一对合宽度D1，如图1所示；则D1-D2为彩膜基板上的黑矩阵与阵列基板上的非像素开口区域之间的偏移量。本发明通过预先根据基本对盒后无偏移的相关结构尺寸计算补正量然后根据补正量调整阵列基板的曲边尺寸和/或彩膜基板的曲边尺寸，对偏移量D1-D2进行补正，使得彩膜基板的黑矩阵与阵列基板上的非像素开口区域没有偏移。

下面具体介绍补正量的计算方法。

参照图3，示出了本发明的一种补正量的计算原理图。

如图3所示，曲面显示面板向彩膜基板的方向弯曲，31为阵列基板，32为彩膜基板，弯曲后的曲面显示面板有固定的曲率，圆心为O，曲率半径为R，OB1和OB2的夹角为θ，B1B2为阵列基板31的曲边长度，其曲边尺寸为L2，阵列基板31的厚度为T2，彩膜基板32的厚度为T1，阵列基板31与彩膜基板32之间的间距为n，假设A1A2为根据补正量调整后的彩膜基板曲边的长度，其曲边尺寸为L1，则有如下计算公式：

(R+T1+n)×θ×π/180＝L2， (1)

以及(R+T1)×θ×π/180＝L1； (2)

根据上述计算公式(1)和计算公式(2)可以得到公式(3)：

L1＝L2×(R+T1)/(R+T1+n)， (3)

所以补正量Min＝(L2-L1)/L2＝[L2-L2×(R+T1)/(R+T1+n)]/L2＝[1-(R+T1)/(R+T1+n)]； (4)

公式(4)给出了补正量Min的计算方法，补正量实际表示的是补正系数，即单位长度下需要补正的值，在对阵列基板或彩膜基板的曲边尺寸进行调整时，需要通过补正量Min乘以补正位置的实际长度，确定补正的长度。本发明中由于无法获取偏移量D1-D2，不能直接根据偏移量确定补正量，而需要根据上述公式(4)来获得补正量，通过补正量去消除偏移量。

当曲面显示面板向彩膜基板的方向弯曲时，补正量等于1减去第一尺寸与第二尺寸的比值后得到的差值；所述第一尺寸为所述曲面显示面板的曲率半径与所述彩膜基板的厚度的和，所述第二尺寸为所述第一尺寸以及所述阵列基板与所述彩膜基板之间的间距的和。

其中，可以根据上述补正量调整彩膜基板的曲边尺寸，彩膜基板的曲边尺寸为原始曲边尺寸减去补正量后的尺寸，补正后的曲边尺寸小于原始曲边尺寸；或者还可以根据补正量调整阵列基板的曲边尺寸，阵列基板的曲边尺寸为原始曲边尺寸加入补正量后的尺寸，补正后的曲边尺寸大于原始曲边尺寸。

另外，还可以根据补正量同时调整阵列基板和彩膜基板的曲边尺寸，则根据第一补正量调整彩膜基板的曲边尺寸，彩膜基板的曲边尺寸为原始曲边尺寸减去第一补正量后的尺寸，根据第二补正量调整阵列基板的曲边尺寸，阵列基板的曲边尺寸为原始曲边尺寸加入第二补正量后的尺寸，第一补正量与第二补正量的和等于上述的补正量；其中，第一补正量和第二补正量均为正数，优选地，可将第一补正量和第二补正量的差值设置成接近于零。

在本发明的另一种实施例中，当曲面显示面板向阵列基板的方向弯曲时，补正量的计算方法与上述的计算方法类似，在此不做详述。则补正量等于1减去第一尺寸与第二尺寸的比值后得到的差值；所述第一尺寸为所述曲面显示面板的曲率半径与所述阵列基板的厚度的和，所述第二尺寸为所述第一尺寸以及所述阵列基板与所述彩膜基板之间的间距的和。

其中，可以根据上述补正量调整阵列基板和/或彩膜基板的曲边尺寸，所述阵列基板的曲边尺寸为原始曲边尺寸减去所述补正量后的尺寸；或者，所述彩膜基板的曲边尺寸为原始曲边尺寸加入所述补正量后的尺寸。

具体的，可以根据所述补正量与所述曲面显示面板的中心位置对应的坐标值，制作掩膜板，利用所述掩膜板制作所述阵列基板或所述彩膜基板。

本发明实施例中，根据预先获得的补正量与曲面显示面板的中心位置对应的掩膜板的坐标值，制作相应的掩膜板；其中，可以制作包含补正量的彩膜基板对应的掩膜板，和不包含补正量的阵列基板对应的掩膜板；还可以制作包含补正量的阵列基板对应的掩膜板，和不包含补正量的彩膜基板对应的掩膜板。然后，利用包含补正量的掩膜板制作相应的阵列基板或彩膜基板。

例如，55寸曲面显示面板的大小为1219.6×689.8mm，其向彩膜基板的方向弯曲，彩膜基板的厚度T1为0.5mm，曲率半径R为3000mm，阵列基板与彩膜基板之间的间距n为3.5μm，即为0.0035mm，根据上述计算公式得到补正量Min＝[1-(3000+0.5)/(3000+0.5+0.0035)]＝1.2×10^-6＝0.12μm/100mm，由于曲面显示面板的尺寸参数一般为mm，为了方便制作包含补正量Min的掩膜板，需要将补正量的单位折算成μm/100mm，补正量Min＝0.12μm/100mm实际表示的是补正系数，当掩膜板对应的图案尺寸为100mm时，则需要补正的长度为0.12μm。该55寸曲面显示面板的彩膜基板对应的掩膜板的补正量为0.12μm/100mm，根据该补正量和55寸曲面显示面板的中心位置对应的掩膜板的坐标值，制作包含补正量的彩膜基板对应的掩膜板。

参照图4，示出了本发明的一种掩膜板的结构示意图。

如图4所示，41为阵列基板或彩膜基板的掩膜板，以41为彩膜基板的掩膜板进行说明，掩膜板41中只包含一个掩膜区域，其中，掩膜区域411为不包含补正量的掩膜区域，对应形成一个不包含补正量的彩膜基板，掩膜区域412为包含补正量的掩膜区域，对应形成一个包含补正量的彩膜基板，包含补正量的掩膜区域412相对于不包含补正量的掩膜区域411，其长边以掩膜区域412的中心位置为基准向内缩小。

参照图5，示出了本发明的另一种掩膜板的结构示意图。

如图5所示，42为阵列基板或彩膜基板的掩膜板，以42为彩膜基板的掩膜板进行说明，掩膜板42中包含四个掩膜区域，每个掩膜区域对应形成一个彩膜基板，其中，掩膜区域421为不包含补正量的掩膜区域，对应形成一个不包含补正量的彩膜基板，掩膜区域422为包含补正量的掩膜区域，对应形成一个包含补正量的彩膜基板，包含补正量的掩膜区域422相对于不包含补正量的掩膜区域421，其长边以掩膜区域422的中心位置为基准向内缩小，而不是以掩膜板42的中心位置为基准向内缩小，对于其余三个掩膜区域，也是以各自的中心位置为基准向内缩小。

因此，曲面显示面板缩小或增大的边为曲面显示面板的长边，短边无需缩小或增大。

本发明实施例中，可以利用包含补正量的掩膜板制作至少一个阵列基板或至少一个彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸为以其中心位置为基准进行缩小或增大后的尺寸，或所述彩膜基板的曲边尺寸为以其中心位置为基准进行增大或缩小后的尺寸，其中，所述掩膜板包括至少一个掩膜区域，一个掩膜区域对应形成一个阵列基板或一个彩膜基板。

其中，形成后的一个阵列基板的曲边尺寸是根据该阵列基板的中心位置为基准进行缩小或增大后的尺寸；形成后的一个彩膜基板的曲边尺寸是根据该彩膜基板的中心位置为基准进行增大或缩小后的尺寸。

具体的，还可以根据所述补正量与所述曲面显示面板的中心位置对应的坐标值，调整曝光机的曝光位置参数，基于所述曝光位置参数，制作所述阵列基板或所述彩膜基板。

本发明实施例中，制作阵列基板和彩膜基板通常使用渐进式曝光机，曝光机是通过掩膜板将光折射到基板上，当掩膜板与基板的距离不同时，基板上曝光的位置也会相应变化。根据预先获得的补正量与曲面显示面板的中心位置对应的掩膜板的坐标值，在渐进式曝光机的菜单上，调整掩膜板与基板之间的距离，此时，基板可以为阵列基板或彩膜基板，通过掩膜板与基板之间的距离调整曝光机的曝光位置参数，此时，掩膜板为不包含补正量的掩膜板，基于曝光机的曝光位置参数，调整需要曝光的部分，制作相应的阵列基板或彩膜基板。

步骤202，将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对合。

本发明实施例中，将制作好的阵列基板和彩膜基板进行对合，形成曲面显示面板，此时，由于阵列基板和/或彩膜基板中包含预先获得的补正量，使得彩膜基板的黑矩阵与阵列基板的像素开口区域没有偏移，实现了弯曲后的阵列基板与彩膜基板无偏移对合。

参照图6，示出了本发明补正后的曲面显示面板的结构示意图。

如图6所示，曲面显示面板向彩膜基板的方向弯曲，61为阵列基板，62为彩膜基板，其中，阵列基板61的曲边尺寸和/或彩膜基板62的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸，彩膜基板62上的黑矩阵621与阵列基板61上的非像素开口区域611完全对合，黑矩阵621(或非像素开口区域611)的宽度为第二对合宽度D2。

本发明实施例中，通过制作阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸，将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对合。通过预先计算补正量，在制作阵列基板和彩膜基板的阶段，根据预先获得的补正量调整阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸，以实现弯曲后的阵列基板与彩膜基板无偏移对合，提高开口率，减少漏光现象的发生。

实施例二

本发明实施例还公开了一种曲面显示面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸。

其中，所述阵列基板的非像素开口区域与所述彩膜基板上的黑矩阵之间无偏移。

如图6所示，曲面显示面板向彩膜基板的方向弯曲，61为阵列基板，62为彩膜基板，其中，阵列基板61的曲边尺寸和/或彩膜基板62的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸，彩膜基板62上的黑矩阵621与阵列基板61上的非像素开口区域611完全对合。

根据实施例一中的计算方法获得补正量，当曲面显示面板向彩膜基板的方向弯曲时，补正量等于1减去第一尺寸与第二尺寸的比值后得到的差值，所述第一尺寸为所述曲面显示面板的曲率半径与所述彩膜基板的厚度的和，所述第二尺寸为所述第一尺寸以及所述阵列基板与所述彩膜基板之间的间距的和；可以根据上述补正量调整彩膜基板的曲边尺寸，彩膜基板的曲边尺寸为原始曲边尺寸减去补正量后的尺寸，补正后的曲边尺寸小于原始曲边尺寸；或者还可以根据补正量调整阵列基板的曲边尺寸，阵列基板的曲边尺寸为原始曲边尺寸加入补正量后的尺寸，补正后的曲边尺寸大于原始曲边尺寸。

当曲面显示面板向阵列基板的方向弯曲时，补正量的计算方法与上述的计算方法类似，在此不做详述。则补正量等于1减去第一尺寸与第二尺寸的比值后得到的差值；所述第一尺寸为所述曲面显示面板的曲率半径与所述阵列基板的厚度的和，所述第二尺寸为所述第一尺寸以及所述阵列基板与所述彩膜基板之间的间距的和；可以根据上述补正量调整阵列基板和/或彩膜基板的曲边尺寸，所述阵列基板的曲边尺寸为原始曲边尺寸减去所述补正量后的尺寸；或者，所述彩膜基板的曲边尺寸为原始曲边尺寸加入所述补正量后的尺寸。

具体的，可以根据所述补正量与所述曲面显示面板的中心位置对应的坐标值，制作掩膜板，利用所述掩膜板制作所述阵列基板或所述彩膜基板。还可以根据所述补正量与所述曲面显示面板的中心位置对应的坐标值，调整曝光机的曝光位置参数，基于所述曝光位置参数，制作所述阵列基板或所述彩膜基板。然后，将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对合。

本发明实施例中，曲面显示面板包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸。通过预先计算补正量，在制作阵列基板和彩膜基板的阶段，根据预先获得的补正量调整阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸，以实现弯曲后的阵列基板与彩膜基板无偏移对合，提高开口率，减少漏光现象的发生。

实施例三

本发明实施例还公开了一种曲面显示装置，包括上述的曲面显示面板，曲面显示面板包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸。

其中，所述阵列基板的非像素开口区域与所述彩膜基板上的黑矩阵之间无偏移。

在本发明实施例中，关于曲面显示面板的具体描述可以参照实施例二的描述，本实施例对此不再赘述。

本发明实施例中，该曲面显示装置包括曲面显示面板，曲面显示面板包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸。通过预先计算补正量，在制作阵列基板和彩膜基板的阶段，根据预先获得的补正量调整阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸，以实现弯曲后的阵列基板与彩膜基板无偏移对合，提高开口率，减少漏光现象的发生。

对于前述的方法实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明，某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上对本发明所提供的一种曲面显示面板的制作方法、曲面显示面板及曲面显示装置，进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (11)

1.一种曲面显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

制作阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸；

将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对合。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述补正量等于1减去第一尺寸与第二尺寸的比值后得到的差值；所述第一尺寸为所述曲面显示面板的曲率半径与所述彩膜基板的厚度的和，所述第二尺寸为所述第一尺寸以及所述阵列基板与所述彩膜基板之间的间距的和。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述阵列基板的曲边尺寸为加入所述补正量后的尺寸；或者，所述彩膜基板的曲边尺寸为减去所述补正量后的尺寸。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述补正量等于1减去第一尺寸与第二尺寸的比值后得到的差值；所述第一尺寸为所述曲面显示面板的曲率半径与所述阵列基板的厚度的和，所述第二尺寸为所述第一尺寸以及所述阵列基板与所述彩膜基板之间的间距的和。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述阵列基板的曲边尺寸为减去所述补正量后的尺寸；或者，所述彩膜基板的曲边尺寸为加入所述补正量后的尺寸。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的方法，其特征在于，所述制作阵列基板和彩膜基板的步骤，包括：

根据所述补正量与所述曲面显示面板的中心位置对应的坐标值，制作掩膜板；

利用所述掩膜板制作所述阵列基板或所述彩膜基板。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述利用所述掩膜板制作所述阵列基板或所述彩膜基板的步骤，包括：

利用所述掩膜板制作至少一个阵列基板或至少一个彩膜基板；所述阵列基板的曲边尺寸为以其中心位置为基准进行缩小或增大后的尺寸，或所述彩膜基板的曲边尺寸为以其中心位置为基准进行增大或缩小后的尺寸；

其中，所述掩膜板包括至少一个掩膜区域，一个掩膜区域对应形成一个阵列基板或一个彩膜基板。

8.根据权利要求1～5中任一项所述的方法，其特征在于，所述制作阵列基板和彩膜基板的步骤，包括：

根据所述补正量与所述曲面显示面板的中心位置对应的坐标值，调整曝光机的曝光位置参数；

基于所述曝光位置参数，制作所述阵列基板或所述彩膜基板。

9.一种曲面显示面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，其特征在于，所述阵列基板的曲边尺寸和/或所述彩膜基板的曲边尺寸为根据预先获得的补正量调整后的尺寸。

10.根据权利要求9所述的曲面显示面板，其特征在于，所述阵列基板的非像素开口区域与所述彩膜基板上的黑矩阵之间无偏移。

11.一种曲面显示装置，其特征在于，包括如权利要求9～10任一项所述的曲面显示面板。