CN107020568A - 一种盖板制备系统及盖板制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种盖板制备系统及盖板制备方法，其中所述盖板制备系统包括：悬浊液容器、转动装置和基材夹具；在利用所述盖板制备系统进行具有高雾度特性的盖板制备时，利用所述基材夹具固定基材一侧表面，并将基材的另一面浸入所述悬浊液容器中的悬浊液中，然后利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨，以使所述基材具有高雾度特性，整个过程简单易实现，并且由于不需要使用蒙砂粉对所述基材进行处理，不但不会对操作人员产生伤害，而且对环境友好。
Description
技术领域
本申请涉及电子产品制备技术领域，更具体地说，涉及一种盖板制备系统及盖板制备方法。
背景技术
随着社会的不断发展，电子产品的种类也愈加繁多，在电子产品中，盖板是影响电子产品显示效果的重要配件之一。
电子产品在高亮度环境中使用时，很可能会出现眩光问题。眩光不仅影响用户使用电子产品，而且会对用户的视力健康产生不良影响。特别是在电纸书、教育白板等以阅读大量文字为主的电子产品中，如何避免产生眩光问题是电子产品厂商关注的问题之一，通常情况下，在这类产品中，通常通过配置高雾度盖板来实现降低眩光产生概率的目的。
但是在现有技术中，具有高雾度特性的盖板在制作过程中通常采用对基材进行蒙砂，然后蚀刻的方式形成高雾度盖板。但是蒙砂过程需要采用蒙砂粉对基材进行处理，而蒙砂粉通常以氟化物(如氟化铵、氟氢化钾、氟化钙)为主要成分，再加入硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾以及其他添加剂制成，蒙砂粉对操作人员的伤害很大，蒙砂过程处理废物对环境的污染也很大。如何降低具有高雾度特性的盖板在制作过程中对操作人员的伤害和对环境的污染，成为厂商努力的方向。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明提供了一种盖板制备系统及盖板制备方法，以实现降低具有高雾度特性的盖板在制作过程中对操作人员的伤害和对环境的污染的目的。
为实现上述技术目的，本发明实施例提供了如下技术方案：
一种盖板制备系统，包括：悬浊液容器、转动装置和基材夹具；其中，
所述悬浊液容器用于盛放悬浊液，所述悬浊液为预设材料颗粒的悬浊液，所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于基材的莫氏硬度；
所述基材夹具设置于所述悬浊液容器的上方，用于固定所述基材一侧表面，和用于将所述基材浸入所述悬浊液或从所述悬浊液中取出；
所述转动装置设置于所述悬浊液容器底部，用于带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
可选的，所述转动装置工作时，所述转动装置在所述悬浊液容器底部的投影完全覆盖所述基材在所述悬浊液容器底部的投影。
可选的，所述转动装置包括第一转动转盘和位于所述第一转动转盘内部的至少一个第二转动转盘；
所述第一转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动；
所述第二转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动。
可选的，所述第二转动转盘还用于每隔第二预设时间改变转动方向。
可选的，所述第一时针方向为顺时针方向；
所述第二时针方向为逆时针方向。
一种盖板制备方法，应用于上述任一项所述的盖板制备系统，所述盖板制备系统包括：悬浊液容器、转动装置和基材夹具；所述盖板制备方法包括：
提供基材，并在所述悬浊液容器中倒入悬浊液；
利用所述基材夹具吸附所述基材，并将所述基材的待处理表面浸入所述悬浊液中，所述悬浊液为预设材料颗粒的悬浊液，所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于基材的莫氏硬度；
利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
可选的，当所述转动装置包括第一转动转盘和位于所述第一转动转盘内部的至少一个第二转动转盘；
所述第一转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动；
所述第二转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动时，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨包括：
利用所述第一转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动；
利用所述第二转账转盘沿所述第一转动转盘转动方向的反方向转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
可选的，当所述第一转动转盘还用于每隔第一预设时间改变转动方向，所述第二转动转盘还用于每隔第二预设时间改变转动方向时，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨包括：
利用所述第一转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动，并每隔第一预设时间改变转动方向；
利用所述第二转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动，并每隔第二预设时间改变转动方向，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
可选的，当所述基材为玻璃时，所述预设材料颗粒为氧化铝颗粒或碳化硅颗粒或氧化铝与碳化硅的混合物颗粒。
可选的，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨之后还包括：
对所述基材进行光化过程。
从上述技术方案可以看出，本发明实施例提供了一种盖板制备系统及盖板制备方法，其中所述盖板制备系统包括：悬浊液容器、转动装置和基材夹具；在利用所述盖板制备系统进行具有高雾度特性的盖板制备时，利用所述基材夹具固定基材一侧表面，并将基材的另一面浸入所述悬浊液容器中的悬浊液中，然后利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨，以使所述基材具有高雾度特性，整个过程简单易实现，并且由于不需要使用蒙砂粉对所述基材进行处理，不但不会对操作人员产生伤害，而且对环境友好。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本申请的一个实施例提供的一种盖板制备系统的截面结构示意图；
图2为本申请的一个实施例提供的一种转动装置的俯视结构示意图；
图3为本申请的一个实施例提供的一种盖板制备方法的流程示意图；
图4为本申请的另一个实施例提供的一种盖板制备方法的流程示意图；
图5为本申请的又一个实施例提供的一种盖板制备方法的流程示意图；
图6为本申请的一个优选实施例提供的一种盖板制备方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本申请实施例提供了一种盖板制备系统，如图1所示，包括：悬浊液容器200、转动装置300和基材夹具100；其中，
所述悬浊液容器200用于盛放悬浊液，所述悬浊液为预设材料颗粒的悬浊液，所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于基材A10的莫氏硬度；
所述基材夹具100设置于所述悬浊液容器200的上方，用于固定所述基材A10一侧表面，和用于将所述基材A10浸入所述悬浊液或从所述悬浊液中取出；
所述转动装置300设置于所述悬浊液容器200底部，用于带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材A10进行研磨。
需要说明的是，利用所述盖板制备系统制备所述基材A10具有高雾度特性表面的基本原理是利用莫氏硬度大于基材A10的莫氏硬度的预设材料颗粒在基材A10表面进行研磨，以使所述基材A10表面由于被所述预设材料的研磨而出现雾度效果。
当所述基材A10为玻璃时，所述预设材料颗粒可以是氧化铝颗粒，也可以是碳化硅颗粒，还可以是氧化铝颗粒和碳化硅颗粒的混合物；所述悬浊液中的液体可以是水，还可以是其他不与氧化铝颗粒和碳化硅颗粒反应的液体，但优选为水，这是因为水的成本较低，且对环境友好。当所述基材A10为铝板或亚克力板时，所述预设材料颗粒根据基材A10的种类不同可以选择不同的颗粒来对所述基材A10进行研磨，只需要保证所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于所述基材A10的莫氏硬度即可。本申请对所述基材A10和所述预设材料颗粒的具体种类并不做限定，具体视实际情况而定。
在利用所述盖板制备系统进行具有高雾度特性的盖板制备时，利用所述基材夹具100固定基材A10一侧表面，并将基材A10的另一面浸入所述悬浊液容器200中的悬浊液中，然后利用所述转动装置300带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材A10进行研磨，以使所述基材A10具有高雾度特性，整个过程简单易实现，并且由于不需要使用蒙砂粉对所述基材A10进行处理，不但不会对操作人员产生伤害，而且对环境友好。
还需要说明的是，所述基材夹具100固定所述基材A10一侧表面的方式可以为粘合，但更优选地，所述基材夹具100固定所述基材A10一侧表面的方式为吸附，以避免粘合剂对基材A10表面的污染。
在实际应用过程中，所述基材A10浸入所述悬浊液中的深度决定了悬浊液对所述基材A10表面的压力，这个压力决定了所述悬浊液在对所述基材A10进行研磨过程中预设材料颗粒可以对所述基材A10表面的研磨力度，一般而言，所述基材A10浸入所述悬浊液中的深度越深，基材A10表面所受的压力越大，研磨过程中预设材料颗粒对所述基材A10表面的研磨力度越大，获得同样雾度的基材A10所需的时间越短。
另外，所述悬浊液对所述基材A10表面的研磨力度还受到悬浊液的浓度、预设材料颗粒的大小以及所述悬浊液中的预设材料颗粒的成分比例的影响。
在上述实施例的基础上，在本申请的一个实施例中，所述转动装置300工作时，所述转动装置300在所述悬浊液容器200底部的投影完全覆盖所述基材A10在所述悬浊液容器200底部的投影。
在本实施例中，所述基材夹具100夹持的基材A10在被所述悬浊液研磨时，优选保证所述转动装置300在所述悬浊液容器200底部的投影完全覆盖所述基材A10在所述悬浊液容器200底部的投影，以使所述基材A10得到充分的研磨，提升研磨效率和研磨效果。
在上述实施例的基础上，在本申请的另一个实施例中，参考图2，所述转动装置300包括第一转动转盘310和位于所述第一转动转盘310内部的至少一个第二转动转盘320；
所述第一转动转盘310用于沿第一时针方向或第二时针方向转动；
所述第二转动转盘320用于沿第一时针方向或第二时针方向转动。
在本实施例中，所述转动装置300由第一转动装盘和至少一个第二转动转盘320构成，以实现对所述悬浊液的尽量无规则的搅动，避免持续单方向搅动所述悬浊液在所述基材A10表面形成划痕的情况出现，提升研磨后的基材A10的雾度效果。
需要说明的是，优选的，所述第二转动转盘320的数量为多个，例如2个、3个或4个。本申请对所述第二转动转盘320的具体数量并不做限定，具体视实际情况而定。
在上述实施例的基础上，在本申请的又一个实施例中，所述第一转动转盘310还用于每隔第一预设时间改变转动方向。
在本实施例中，所述第一转动转盘310每隔第一预设时间改变转动方向可以进一步避免所述预设材料颗粒在所述基材A10表面单一方向研磨而造成划痕的情况出现，进一步提升所述基材A10的雾度效果。
需要说明的是，所述第一预设时间的取值可以是固定值，还可以是跟随研磨时间变化的时间值。本申请对所述第一预设时间的具体取值并不做限定，具体视实际情况而定。
在上述实施例的基础上，在本申请的再一个实施例中，所述第二转动转盘320还用于每隔第二预设时间改变转动方向。
在本实施例中，所述第二转动转盘320每隔第二预设时间改变转动方向可以进一步避免所述预设材料颗粒在所述基材A10表面单一方向研磨而造成划痕的情况出现，进一步提升所述基材A10的雾度效果。
同样的，所述第二预设时间的取值可以是固定值，还可以是跟随研磨时间变化的时间值。本申请对所述第二预设时间的具体取值并不做限定，具体视实际情况而定。
优选的，所述第一预设时间与所述第二预设时间在同一时刻内是不同的，但在本申请的一些实施例中，所述第一预设时间与所述第二预设时间在同一时刻内也可以相同。本申请对此并不做限定，具体视实际情况而定。
需要说明的是，在本申请的一个实施例中，所述第一时针方向为顺时针方向；
所述第二时针方向为逆时针方向。
相应的，本申请实施例还提供了一种盖板制备方法，如图3所示，应用于上述任一实施例所述的盖板制备系统，所述盖板制备系统包括：悬浊液容器、转动装置和基材夹具；所述盖板制备方法包括：
S101：提供基材，并在所述悬浊液容器中倒入悬浊液；
S102：利用所述基材夹具吸附所述基材，并将所述基材的待处理表面浸入所述悬浊液中，所述悬浊液为预设材料颗粒的悬浊液，所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于基材的莫氏硬度；
S103：利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
需要说明的是，利用所述盖板制备系统方法所述基材具有高雾度特性表面的基本原理是利用莫氏硬度大于基材的莫氏硬度的预设材料颗粒在基材表面进行研磨，以使所述基材表面由于被所述预设材料的研磨而出现雾度效果。
当所述基材为玻璃时，所述预设材料颗粒可以是氧化铝颗粒，也可以是碳化硅颗粒，还可以是氧化铝颗粒和碳化硅颗粒的混合物；所述悬浊液中的液体可以是水，还可以是其他不与氧化铝颗粒和碳化硅颗粒反应的液体，但优选为水，这是因为水的成本较低，且对环境友好。当所述基材为铝板或亚克力板时，所述预设材料颗粒根据基材的种类不同可以选择不同的颗粒来对所述基材进行研磨，只需要保证所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于所述基材的莫氏硬度即可。本申请对所述基材和所述预设材料颗粒的具体种类并不做限定，具体视实际情况而定。
在利用所述盖板制备方法进行具有高雾度特性的盖板制备时，利用所述基材夹具固定基材一侧表面，并将基材的另一面浸入所述悬浊液容器中的悬浊液中，然后利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨，以使所述基材具有高雾度特性，整个过程简单易实现，并且由于不需要使用蒙砂粉对所述基材进行处理，不但不会对操作人员产生伤害，而且对环境友好。
还需要说明的是，所述基材夹具固定所述基材一侧表面的方式可以为粘合，但更优选地，所述基材夹具固定所述基材一侧表面的方式为吸附，以避免粘合剂对基材表面的污染。
在实际应用过程中，所述基材浸入所述悬浊液中的深度决定了悬浊液对所述基材表面的压力，这个压力决定了所述悬浊液在对所述基材进行研磨过程中预设材料颗粒可以对所述基材表面的研磨力度，一般而言，所述基材浸入所述悬浊液中的深度越深，基材表面所受的压力越大，研磨过程中预设材料颗粒对所述基材表面的研磨力度越大，获得同样雾度的基材所需的时间越短。
另外，所述悬浊液对所述基材表面的研磨力度还受到悬浊液的浓度、预设材料颗粒的大小以及所述悬浊液中的预设材料颗粒的成分比例的影响。
在上述实施例的基础上，在本申请的一个实施例中，如图4所示，当所述转动装置包括第一转动转盘和位于所述第一转动转盘内部的至少一个第二转动转盘；
所述第一转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动；
所述第二转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动时，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨包括：
S1031：利用所述第一转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动；
S1032：利用所述第二转账转盘沿所述第一转动转盘转动方向的反方向转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
在本实施例中，所述转动装置由第一转动装盘和至少一个第二转动转盘构成，以实现对所述悬浊液的尽量无规则的搅动，避免持续单方向搅动所述悬浊液在所述基材表面形成划痕的情况出现，提升研磨后的基材的雾度效果。
需要说明的是，优选的，所述第二转动转盘的数量为多个，例如2个、3个或4个。本申请对所述第二转动转盘的具体数量并不做限定，具体视实际情况而定。
在上述实施例的基础上，在本申请的又一个实施例中，如图5所示，当所述第一转动转盘还用于每隔第一预设时间改变转动方向，所述第二转动转盘还用于每隔第二预设时间改变转动方向时，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨包括：
S1033：利用所述第一转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动，并每隔第一预设时间改变转动方向；
S1034：利用所述第二转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动，并每隔第二预设时间改变转动方向，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
在本实施例中，所述第一转动转盘每隔第一预设时间改变转动方向可以进一步避免所述预设材料颗粒在所述基材表面单一方向研磨而造成划痕的情况出现，进一步提升所述基材的雾度效果。
同样的，所述第二转动转盘每隔第二预设时间改变转动方向可以进一步避免所述预设材料颗粒在所述基材表面单一方向研磨而造成划痕的情况出现，进一步提升所述基材的雾度效果。
需要说明的是，所述第一预设时间的取值可以是固定值，还可以是跟随研磨时间变化的时间值。本申请对所述第一预设时间的具体取值并不做限定，具体视实际情况而定。
同样的，所述第二预设时间的取值可以是固定值，还可以是跟随研磨时间变化的时间值。本申请对所述第二预设时间的具体取值并不做限定，具体视实际情况而定。
优选的，所述第一预设时间与所述第二预设时间在同一时刻内是不同的，但在本申请的一些实施例中，所述第一预设时间与所述第二预设时间在同一时刻内也可以相同。本申请对此并不做限定，具体视实际情况而定。
需要说明的是，在本申请的一个实施例中，所述第一时针方向为顺时针方向；
所述第二时针方向为逆时针方向。
在上述实施例的基础上，在本申请的一个优选实施例中，如图6所示，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨之后还包括：
S104：对所述基材进行光化过程，以调整所述基材的雾度。
需要说明的是，以所述基材为玻璃为例，对玻璃进行光化过程的具体方式为利用含氟溶液对研磨后的玻璃进行蚀刻，钝化研磨造成的微裂纹，得到理想的雾度效果。
综上所述，本申请实施例提供了一种盖板制备系统及盖板制备方法，其中所述盖板制备系统包括：悬浊液容器、转动装置和基材夹具；在利用所述盖板制备系统进行具有高雾度特性的盖板制备时，利用所述基材夹具固定基材一侧表面，并将基材的另一面浸入所述悬浊液容器中的悬浊液中，然后利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨，以使所述基材具有高雾度特性，整个过程简单易实现，并且由于不需要使用蒙砂粉对所述基材进行处理，不但不会对操作人员产生伤害，而且对环境友好。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (11)
1.一种盖板制备系统，其特征在于，包括：悬浊液容器、转动装置和基材夹具；其中，
所述悬浊液容器用于盛放悬浊液，所述悬浊液为预设材料颗粒的悬浊液，所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于基材的莫氏硬度；
所述基材夹具设置于所述悬浊液容器的上方，用于固定所述基材一侧表面，和用于将所述基材浸入所述悬浊液或从所述悬浊液中取出；
所述转动装置设置于所述悬浊液容器底部，用于带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述转动装置工作时，所述转动装置在所述悬浊液容器底部的投影完全覆盖所述基材在所述悬浊液容器底部的投影。
3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述转动装置包括第一转动转盘和位于所述第一转动转盘内部的至少一个第二转动转盘；
所述第一转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动；
所述第二转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动。
4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第一转动转盘还用于每隔第一预设时间改变转动方向。
5.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第二转动转盘还用于每隔第二预设时间改变转动方向。
6.根据权利要求3-5任一项所述的系统，其特征在于，所述第一时针方向为顺时针方向；
所述第二时针方向为逆时针方向。
7.一种盖板制备方法，其特征在于，应用于权利要求1-6任一项所述的盖板制备系统，所述盖板制备系统包括：悬浊液容器、转动装置和基材夹具；所述盖板制备方法包括：
提供基材，并在所述悬浊液容器中倒入悬浊液；
利用所述基材夹具吸附所述基材，并将所述基材的待处理表面浸入所述悬浊液中，所述悬浊液为预设材料颗粒的悬浊液，所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于基材的莫氏硬度；
利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，当所述转动装置包括第一转动转盘和位于所述第一转动转盘内部的至少一个第二转动转盘；
所述第一转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动；
所述第二转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动时，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨包括：
利用所述第一转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动；
利用所述第二转账转盘沿所述第一转动转盘转动方向的反方向转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，当所述第一转动转盘还用于每隔第一预设时间改变转动方向，所述第二转动转盘还用于每隔第二预设时间改变转动方向时，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨包括：
利用所述第一转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动，并每隔第一预设时间改变转动方向；
利用所述第二转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动，并每隔第二预设时间改变转动方向，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，当所述基材为玻璃时，所述预设材料颗粒为氧化铝颗粒或碳化硅颗粒或氧化铝与碳化硅的混合物颗粒。
11.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨之后还包括：
对所述基材进行光化过程。
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