CN201249403Y - 一种纳米磁性液体清理抛光装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种纳米磁性液体清理抛光装置,包括有电机、清理抛光装置和控制电箱,其特征在于:所述的清理抛光装置,包括旋转筒、永磁磁铁和储液器皿,所述永磁磁铁固装在旋转筒内,所述储液器皿内装有清洗抛光液。由于本实用新型采用了以上技术方案,其优点为:结构简单,用液量小,清理效果好,能全自动处理,效率高,也不会造成环境污染。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种机械,具体的说是一种纳米磁性液体清理抛光装置。
背景技术
目前市场上五金、珠宝、精密仪器、仪表的部件、眼镜架等物的去毛刺、清理、抛光等方面的加工设备基本上是吊轮、振动抛光、离心振动、电解、化学等设备,多数不存在噪音污染、化学污染、灰程污染等各种不良因素,且清理、抛光不均匀,有死角等各种缺点。同时现有设备的工作效率低,不能全自动化处理,而且设备的通用性差。
发明内容
针对上述存在的问题,本实用新型提供一种纳米磁性液体清理抛光装置,结构简单,用液量小,清理效果好,能全自动处理,效率高,也不会造成环境污染。
为了解决上述问题,本实用新型采用以下技术方案,一种纳米磁性液体清理抛光装置,包括有电机、清理抛光装置和控制电箱,其特征在于:所述的清理抛光装置,包括旋转筒、永磁磁铁和储液器皿,所述永磁磁铁固装在旋转筒内,所述储液器皿内装有清洗或抛光液。
由于本实用新型采用了以上技术方案,其优点为:结构简单,用液量小,清理效果好,能全自动处理,效率高,也不会造成环境污染。
附图说明
图1为本实用新型的一个实施例的结构示意图
图2为本实用新型的一个实施例的旋转筒、永磁磁铁、储液器皿的A-A剖视结构示意图
1、顶旋转固定板 2、控制电箱 3、丝杆 4、导轨 5、旋转筒6、永磁磁铁 7、导轨滑块 8、固定杆升降板 9、物体固定杆10、固定法兰 11、工作平台 12、箱体 13、储液器皿 14、机座 15、主电机固定板 16、移动滚轮 17、主电机 18、旋转筒联轴器 19、电机固定板 20、轴承 21、副电机 22、副电机联轴器 23、调节滑块 24、调节支撑杆
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明
实施例一
如图1所示,本实用新型一种纳米磁性液体清理抛光装置,主要包括有电机〖可以是单电机也可以是双电机(主电机17、副电机21),分别控制〗、清理抛光装置、物体固定及升降装置和控制电箱,具体说明如下:
清理抛光装置通常安装在箱体12上,主要包括固定法兰10、工作平台11、旋转筒5、永磁磁铁6、储液器皿13,储液器皿13通过固定法兰10固定在工作平台11上,旋转筒5安装在储液器皿13外,永磁磁铁6则安装在旋转筒5内〖旋转筒为中空,套在储液器皿13外部(不接触),周边均匀分布2组或2组以上永磁磁铁孔(工作前装配永磁磁铁)〗。而主电机17则安装在旋转筒5下方,通过旋转筒联轴器18与旋转筒5连接,同时通过主电机固定板15、机座14、轴承20连接并固装在箱体12内,为便于主电机17的安装连接,在主电机外还设有电机固定板19。
物体固定及升降装置位于清理抛光装置上方,同样也安装在箱体上,主要包括顶旋转固定板1、丝杆3、导轨4、导轨滑块7、固定杆升降板8、物体固定杆9,具体连接关系如下:导轨4固接在箱体12上,固定杆升降板8与丝杆3固接,并通过导轨滑块7沿导轨4上下滑动,物体固定杆9固接在固定杆升降板8上,导轨4和丝杆3的上端固接在顶旋转固定板1上。为了便于固定杆升降板8调节和拆换,在丝杆3上还设有一调节滑块23。
控制电箱则安装在顶旋转固定板1上,便于安装操作和使用操作。
为了提高工作效率,同时便于控制,通常对物体固定及升降装置进行独立控制,所以在物体固定及升降装置下方还连接一副电机21,副电机21通过副电机联轴器22与丝杆3连接,通过调节支撑杆24与顶旋转固定板1连接。
为了便于本装置的移动,通常在箱体底部装有移动滚轮16。
工作流程如下:装卡—工作下降(电机带动)一到位盖好(均为自动)—电机带铝筒旋转(即产生旋转磁场)—磁场带动纳米材料液体旋转—清理、打磨、抛光物体表面—时间到、电机停,上升—取下物件—清洗—结束。
目前市场上清理、抛光设备基本上是吊轮、振动抛光、离心振动、电解、化学等设备,多数不存在噪音污染、化学污染、灰程污染等各种不良因素,且清理、抛光不均匀,有死角等各种缺点。
本设备的特点兼有各种设备的长处,布轮抛光机由布轮旋转,本机的轮子是液体的。振动和离心振动清理的颗粒是很大的磨料颗粒,本机是10-300纳米的细小颗粒。由于是物理性质的液体,不会产生灰尘,气体等有害物质,由于是磁场控制的磁性物质,颗粒分布均匀,力量分布均匀,故而清理效果也同样均匀。
设备由于是在磁场的控制下运转(磁场属于短程力),适合与五金、珠宝、精密仪器、仪表的部件、眼镜架等物的去毛刺、清理、抛光等方面的加工。4-8分钟可抛光2-3副镜架,2-4分可加工数十个仪表轴。
除上述实施例外,本实用新型还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案,均落在本实用新型要求的保护范围。
Claims (4)
1、一种纳米磁性液体清理抛光装置,包括有电机、清理抛光装置和控制电箱,其特征在于:所述的清理抛光装置,包括旋转筒、永磁磁铁和储液器皿,所述永磁磁铁固装在旋转筒内,所述储液器皿内装有清洗或抛光液。
2、根据权利要求1所述的一种纳米磁性液体清理抛光装置,其特征在于:所述的永磁磁铁至少有2组。
3、根据权利要求2所述的一种纳米磁性液体清理抛光装置,有一物体固定及升降装置位于清理抛光装置上方,安装在箱体上,其特征在于:所述物体固定及升降装置主要包括顶旋转固定板、丝杆、导轨、导轨滑块、固定杆升降板、物体固定杆,具体连接关系为,导轨固接在箱体上,固定杆升降板与丝杆固接,并通过导轨滑块沿导轨上下滑动,物体固定杆固接在固定杆升降板上,导轨和丝杆的上端固接在顶旋转固定板上。
4、根据权利要求3所述的一种纳米磁性液体清理抛光装置,其特征在于:所述箱体底部装有移动滚轮。
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