CN101670550A - 一种清污装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种清污装置，包括有电机、清污装置和控制箱，其特征在于：所述的清污装置，包括转筒、磁块和储液筒，所述磁块固装在转筒内，所述储液筒内装有清洗抛光液。由于本发明采用了以上技术方案，其优点为：结构简单，用液量小，清理效果好，能全自动处理，效率高，也不会造成环境污染。

Description

一种清污装置

技术领域

本发明涉及一种机械，具体的说是一种清污装置。

背景技术

目前市场上五金、珠宝、精密仪器、仪表的部件、眼镜架等物的去毛刺、清理、抛光等方面的加工设备基本上是吊轮、振动抛光、离心振动、电解、化学等设备，多数不存在噪音污染、化学污染、灰程污染等各种不良因素，且清理、抛光不均匀，有死角等各种缺点。同时现有设备的工作效率低，不能全自动化处理，而且设备的通用性差。

发明内容

针对上述存在的问题，本发明提供一种清污装置，结构简单，用液量小，清理效果好，能全自动处理，效率高，也不会造成环境污染。

为了解决上述问题，本发明采用以下技术方案，一种清污装置，包括有电机、清污装置和控制箱，其特征在于：所述的清污装置，包括转筒、磁块和储液筒。

由于本发明采用了以上技术方案，其优点为：结构简单，用液量小，清理效果好，能全自动处理，效率高，也不会造成环境污染。

附图说明

图1为本发明的一个实施例的结构示意图

图2为本发明的一个实施例的转筒、磁块、储液筒的A-A剖视结构示意图

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步说明

实施例一

如图1所示，本发明一种清污装置，主要包括有电机〖可以是单电机也可以是双电机(主电机17、副电机21)，分别控制〗、清污装置、物体固定及升降装置和控制箱，具体说明如下：

清污装置通常安装在箱体12上，主要包括固定法兰10、工作平台11、转筒5、磁块6、储液筒13，储液筒13通过固定法兰10固定在工作平台11上，转筒5安装在储液筒13外，磁块6则安装在转筒5内〖转筒为中空，套在储液筒13外部(不接触)，周边均匀分布2组或2组以上磁块孔(工作前装配磁块)〗。而主电机17则安装在转筒5下方，通过转筒联轴器18与转筒5连接，同时通过主电机固定板15、机座14、轴承20连接并固装在箱体12内，为便于主电机17的安装连接，在主电机外还设有电机固定板19。

物体固定及升降装置位于清污装置上方，同样也安装在箱体上，主要包括顶旋转固定板1、丝杆3、导轨4、导轨滑块7、固定杆升降板8、物体固定杆9，具体连接关系如下：导轨4固接在箱体12上，固定杆升降板8与丝杆3固接，并通过导轨滑块7沿导轨4上下滑动，物体固定杆9固接在固定杆升降板8上，导轨4和丝杆3的上端固接在顶旋转固定板1上。为了便于固定杆升降板8调节和拆换，在丝杆3上还设有一调节滑块23。

控制箱则安装在顶旋转固定板1上，便于安装操作和使用操作。

为了提高工作效率，同时便于控制，通常对物体固定及升降装置进行独立控制，所以在物体固定及升降装置下方还连接一副电机21，副电机21通过副电机联轴器22与丝杆3连接，通过调节支撑杆24与顶旋转固定板1连接。

为了便于本装置的移动，通常在箱体底部装有移动滚轮16。

工作流程如下：装卡-工作下降(电机带动)-到位盖好(均为自动)-电机带铝筒旋转(即产生旋转磁场)-磁场带动纳米材料液体旋转-清理、打磨、抛光物体表面-时间到、电机停，上升-取下物件-清洗-结束。

目前市场上清理、抛光设备基本上是吊轮、振动抛光、离心振动、电解、化学等设备，多数不存在噪音污染、化学污染、灰程污染等各种不良因素，且清理、抛光不均匀，有死角等各种缺点。

本设备的特点兼有各种设备的长处，布轮抛光机由布轮旋转，本机的轮子是液体的。振动和离心振动清理的颗粒是很大的磨料颗粒，本机是10-300纳米的细小颗粒。由于是物理性质的液体，不会产生灰尘，气体等有害物质，由于是磁场控制的磁性物质，颗粒分布均匀，力量分布均匀，故而清理效果也同样均匀。

设备由于是在磁场的控制下运转(磁场属于短程力)，适合与五金、珠宝、精密仪器、仪表的部件、眼镜架等物的去毛刺、清理、抛光等方面的加工。4-8分钟可抛光2-3副镜架，2-4分可加工数十个仪表轴。

除上述实施例外，本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本发明要求的保护范围。

Claims (1)

1、一种清污装置，包括有电机、清污装置和控制箱，其特征在于：所述的清污装置，包括转筒、磁块和储液筒。

Images