CN106946473B - 防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃，包括玻璃基板以及依次设置于玻璃基板上的不导电底膜层、不导电防紫外线膜层、不导电高反射膜层、印刷油墨图案层以及保护油墨层，其中，不导电底膜层为SiOX膜层，x=1~2，膜层厚度5nm~25nm；不导电防紫外线膜层为金属氧化物膜层与非晶硅膜层形成的复合膜层，膜层总厚度90nm~156nm；不导电高反射膜层为氧化不锈钢膜层、氮化硅膜层或氮氧化硅膜层，膜层总厚度110 nm~220nm。本发明提出的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃，既实现了防紫外线，又使油墨图案呈现精细纹理。

Description

防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃及其制备方法
技术领域
本发明涉及装饰玻璃及制备方法技术领域，尤其涉及一种防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃及其制备方法。
背景技术
在家居、家电和建筑等使用装饰玻璃的领域，随着人们的物质和文化生活的逐步提高，对装饰的要求也越来越高。目前的玻璃印刷只是简单的不同油墨的堆积，包含高温油墨和低温油墨、或者无机油墨和有机油墨。印刷的图案只是自身油墨的反射，缺少其他元素的反射。为了克服印刷油墨的不足，增加印刷图案的亮度、显现出印刷油墨图案的精细纹理结构，满足视觉的感官效果；同时，减少或阻止紫外线对油墨的损害（例如：退色、黄变、老化等）。就需要使油墨印刷与物理镀膜工艺相结合，提高玻璃亮度、丰富玻璃印刷图案质感，增强视觉的冲击力。
赵青南、张乃芝和赵修建利用氧化铈和氧化钛复合，发明了“紫外线截止镀膜玻璃及其制备方法（发明专利：200410061019.3）”，赵青南、倪佳苗和赵修建发明了“截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃及其制备方法（发明专利：200410061018.9）；二者都是利用氧化铈和氧化钛复合隔绝紫外线。由于二氧化钛的光催化降解性能，它能降解高分子或有机油墨，这种膜系不适合与印刷的高分子或有机油墨复合。赵青南等发明的“一种具有裂纹涂层的镀膜装饰玻璃的制备方法”（发明专利：201310049147.5），是利用镀膜的方法把金属等材料镶嵌在油墨裂纹里。这些技术都没有在膜层上印刷油墨，没有利用膜层的性能使印刷油墨纹理产生更好、更精细的感官效果，以及保护油墨不被外界紫外线损害。
在玻璃上产生金属光泽的专利技术有，“具有金属光泽的彩晶玻璃，申请号：201110357556.2”采取玻璃上粘贴铝箔；“仿不锈钢彩晶玻璃，申请号：201510941712.8”采取黏结剂中填加青金粉印刷到玻璃上；“具有拉丝效果的仿不锈钢彩晶玻璃，申请号：201110357558.1”采取玻璃上粘贴拉丝铝箔。
目前的丝网印刷装饰玻璃的图案纹理，由于边部渗透产生锯齿状外观，表观显得粗糙，达不到精细纹理的效果，影响图案的装饰效果。
综上，并没有既能防紫外线又可以实现精细纹理印刷图案的装饰玻璃。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃及其制备方法。
为实现上述目的，本发明提供一种防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃，包括玻璃基板以及依次设置于玻璃基板上的不导电底膜层、不导电防紫外线膜层、不导电高反射膜层、印刷油墨图案层以及保护油墨层，其中，
所述不导电底膜层为SiOX膜层，x=1~2，膜层厚度5nm~25nm；所述不导电防紫外线膜层为金属氧化物膜层与非晶硅膜层形成的复合膜层，膜层总厚度90nm~156nm；所述不导电高反射膜层为氧化不锈钢膜层、氮化硅膜层或氮氧化硅膜层，膜层总厚度110 nm~220nm，不导电高反射膜层的光学带隙小于3.1eV。
优选地，所述金属氧化物为氧化铈、氧化铌、氧化锆、氧化锡、氧化钨或氧化镍。
优选地，所述不导电高反射膜层的折射率为1.8~2.2。
一种防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法，包括以下步骤：
在真空室中采用磁控溅射工艺镀制不导电底膜层；
在不导电底膜层上采用磁控溅射工艺镀制不导电防紫外线膜层；
在不导电防紫外线膜层上采用磁控溅射工艺镀制不导电高反射膜层;
在不导电高反射膜层上形成印刷油墨图案层；
在印刷油墨图案层上形成保护油墨层。
优选地，镀制不导电底膜层的操作条件为：在真空箱体中，氧气和氩气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材进行磁控溅射。
优选地，所述在不导电底膜层上采用磁控溅射工艺镀制不导电防紫外线膜层的步骤具体包括：
在真空箱体中，使用氩气为工作气体，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材沉积得到非晶硅膜层；
空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯金属钨、纯金属铌、纯金属锆、纯金属锡、纯金属镍、氧化铈、氧化钨、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化镍做靶材。
优选地，镀制不导电高反射膜层的操作条件为：
当不导电高反射膜层为氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层时，在真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用304不锈钢、纯硅或硅硼做靶材沉积得到氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层；
当不导电高反射膜层为氮氧硅膜层时，真空箱体中，氧气和氮气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材沉积得到氮氧硅膜层。
优选地，在不导电防紫外线膜层上形成印刷油墨图案层的方法为丝网印刷、热转印、UV转印、喷绘或打印。
优选地，形成印刷油墨图案层时采用热固化处理或者紫外线固化处理，采用热固化处理时，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；采用紫外固化油墨时，紫外辐射波长为280nm~385nm，照射3~15分钟；形成保护油墨层时，采用热固化处理或者紫外线固化处理，采用热固化处理时，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；采用紫外固化油墨时，紫外辐射波长为280nm~385nm，照射3~15分钟。
优选地，在不导电高反射膜层上形成印刷油墨图案层之前还包括：对不导电高反射膜层进行等离子体处理，电压1000~1200伏，气压10-1~10-2Pa。
本发明提出的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃，不导电防紫外线膜层为金属氧化物膜层与非晶硅膜层形成的复合膜层，在避免降解高分子或有机油墨的同时保护油墨不被外界紫外线降解或老化，实现了对油墨层的防紫外线功能。本装饰玻璃的紫外线截止率为100%，且镀制的膜层与油墨结合牢固。另外，通过合理控制不导电底膜层、不导电防紫外线膜层和不导电高反射膜层的厚度，使玻璃反射率在15%~35%之间可调。通过反射可见光来掩盖印刷图案的边部锯齿状，使印刷图案呈现精细纹理。当装饰玻璃大于10cm距离处，人眼通过非镀膜和非印刷的玻璃面观测不到印刷纹理边部的锯齿形状。本发明提出的装饰玻璃可广泛应用于家电、家居和建筑等使用装饰玻璃的领域，镀膜玻璃的理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准，印刷油墨图案达到GB/T29757-2013彩晶装饰玻璃要求。
附图说明
图1为本发明防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的结构示意图。
图中，1、玻璃基板；2、不导电底膜层；3、不导电防紫外线膜层；4、不导电高反射膜层；5、印刷油墨图案层；6、保护油墨层。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明提出一种防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃。
参照图1，一种防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃，包括玻璃基板1以及依次设置于玻璃基板1上的不导电底膜层2、不导电防紫外线膜层3、不导电高反射膜层4、印刷油墨图案层5以及保护油墨层6，其中，
不导电底膜层2为SiOX膜层，x=1~2，膜层厚度5nm~25nm；不导电防紫外线膜层3为金属氧化物膜层与非晶硅膜层形成的复合膜层，膜层总厚度90nm～156nm；不导电高反射膜层4为氧化不锈钢膜层、氮化硅膜层或氮氧化硅膜层，膜层总厚度110 nm～220nm。
金属氧化物为氧化铈、氧化铌、氧化锆、氧化锡、氧化钨或氧化镍。为高分子有机油墨层。不导电高反射膜层4为氧化不锈钢膜层、氮化硅膜层或氮氧化硅膜层，是因为材料需满足和非晶硅相容、膨胀匹配，不导电高反射膜层4的光学带隙小于3.1eV以截止紫外线。
不导电高反射膜层4的折射率为1.8~2.2。
本发明在此提出几个具体实施例。
实施例1
本实施例中，SiOX膜层厚度为5nm，不导电防紫外线膜层3中沉积的非晶硅的厚度为30nm，沉积的氧化铈膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层、氧化钨膜层或氧化镍膜层的厚度为70nm，不导电高反射膜层4厚度为110nm。
印刷油墨图案层5为高分子有机白色油墨图案层。
实施例2
本实施例中，SiOX膜层厚度为10nm，不导电防紫外线膜层3中沉积的非晶硅的厚度为50nm，沉积的氧化铈膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层、氧化钨膜层或氧化镍膜层的厚度为80nm，不导电高反射膜层4厚度为140nm。
印刷油墨图案层5为高分子有机黄色油墨图案层。
实施例3
本实施例中，SiOX膜层厚度为15nm，不导电防紫外线膜层3中沉积的非晶硅的厚度为40nm，沉积的氧化铈膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层、氧化钨膜层或氧化镍膜层的厚度为90nm，不导电高反射膜层4厚度为170nm。
印刷油墨图案层5为高分子有机绿色油墨图案层。
实施例4
本实施例中，SiOX膜层厚度为20nm，不导电防紫外线膜层3中沉积的非晶硅的厚度为40nm，沉积的氧化铈膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层、氧化钨膜层或氧化镍膜层的厚度为106nm，不导电高反射膜层4厚度为190nm。
印刷油墨图案层5为高分子有机橙黄色油墨图案层。
实施例5
本实施例中，SiOX膜层厚度为20nm，不导电防紫外线膜层3中沉积的非晶硅的厚度为40nm，沉积的氧化铈膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层、氧化钨膜层或氧化镍膜层的厚度为106nm，当不导电高反射膜层4为氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层时，其厚度为190nm，当不导电高反射膜层4为氮氧化硅膜层时，其厚度为210nm。
印刷油墨图案层5为高分子有机紫红色油墨图案层。
实施例6
本实施例中，SiOX膜层厚度为20nm，不导电防紫外线膜层3中沉积的非晶硅的厚度为40nm，沉积的氧化铈膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层、氧化钨膜层或氧化镍膜层的厚度为106nm，当不导电高反射膜层4为氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层时，其厚度为190nm，当不导电高反射膜层4为氮氧化硅膜层时，其厚度为210nm。
印刷油墨图案层5为高分子有机红色油墨图案层。
实施例7
本实施例中，SiOX膜层厚度为25nm，不导电防紫外线膜层3中沉积的非晶硅的厚度为45nm，沉积的氧化铈膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层、氧化钨膜层或氧化镍膜层的厚度为111nm，当不导电高反射膜层4为氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层时，其厚度为220nm，当不导电高反射膜层4为氮氧化硅膜层时，其厚度为120nm。
印刷油墨图案层5为高分子有机黑色油墨图案层。
本发明提出的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃，不导电防紫外线膜层3为金属氧化物膜层与非晶硅膜层形成的复合膜层，在避免降解高分子或有机油墨的同时保护油墨不被外界紫外线降解或老化，实现了对油墨层的防紫外线功能。本装饰玻璃的紫外线截止率为100%，且镀制的膜层与油墨结合牢固。另外，通过合理控制不导电底膜层2、不导电防紫外线膜层3和不导电高反射膜层4的厚度，使玻璃反射率在15%~35%之间可调（非镀膜玻璃的浮法玻璃的可见光反射率是8%）。通过反射可见光来掩盖印刷图案的边部锯齿状，使印刷图案呈现精细纹理。当装饰玻璃大于10cm距离处，人眼通过非镀膜和非印刷的玻璃面观测不到印刷纹理边部的锯齿形状。本发明提出的装饰玻璃可广泛应用于家电、家居和建筑等使用装饰玻璃的领域，镀膜玻璃的理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准，印刷油墨图案达到GB/T29757-2013彩晶装饰玻璃要求。
本发明进一步提出一种防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法。
本优选实施例中，一种防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法，包括以下步骤：
步骤S10，在真空室中采用磁控溅射工艺镀制不导电底膜层；
步骤S20，在不导电底膜层上采用磁控溅射工艺镀制不导电防紫外线膜层；
步骤S30，在不导电防紫外线膜层上采用磁控溅射工艺镀制不导电高反射膜层;
步骤S40，在不导电高反射膜层上形成印刷油墨图案层；
步骤S50，在印刷油墨图案层上形成保护油墨层。
步骤S10中，镀制不导电底膜层的操作条件为：在真空箱体中，氧气和氩气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材进行磁控溅射。
步骤S20具体包括：
在真空箱体中，使用氩气为工作气体，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材沉积得到非晶硅膜层；
空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯金属钨、纯金属铌、纯金属锆、纯金属锡、纯金属镍、氧化铈、氧化钨、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化镍做靶材。
步骤S30中，镀制不导电高反射膜层的操作条件为：
当不导电高反射膜层为氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层时，在真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用304不锈钢、纯硅或硅硼做靶材沉积得到氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层；
当不导电高反射膜层为氮氧硅膜层时，真空箱体中，氧气和氮气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材沉积得到氮氧硅膜层。
具体地，在不导电防紫外线膜层上形成印刷油墨图案层的方法为丝网印刷、热转印、UV转印、喷绘或打印。当采用UV转印时，其效率高，且没有丝印的网格印。步骤S40中，形成印刷油墨图案层时采用热固化处理或者紫外线固化处理，采用热固化处理时，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；采用紫外固化油墨时，紫外辐射波长为280nm~385nm，照射3~15分钟。在紫外固化油墨时采取上述参数是因为可以降低热固化的能源能耗；如波长再短，实验中发现玻璃变色，产生色差。步骤S50中，形成保护油墨层时，采用热固化处理或者紫外线固化处理，采用热固化处理时，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；采用紫外固化油墨时，紫外辐射波长为280nm~385nm，照射3~15分钟。
另外，在步骤S40之前还包括不导电高反射膜层还需要进行等离子体处理，电压1000~1200伏，气压10-1~10-2Pa。否则，由于膜层太致密光滑，油墨图案层容易剥落。
本发明在此提出几个具体实施例。
实施例8
本实施例提出实施例1所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法。
具体操作如下：
一、在玻璃的一面依次镀膜
镀制SiOX底层膜：真空箱体中，氧气和氩气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅、或硅硼做靶材，沉积的氧化硅膜层厚度5nm。
二、镀制不导电防紫外线膜层和不导电高反射膜层
2.1镀制非晶硅膜层：真空箱体中，氩气做工作气体，溅射气压为（2.5~4.5）×10- 1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的膜层厚度30nm。
2.2镀制氧化铈膜层、氧化钨膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层或氧化镍膜层：真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯金属钨、纯金属铌、纯金属锆、纯金属锡、纯金属镍、氧化铈、氧化钨、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化镍做靶材，沉积的膜层厚度70nm；
2.3镀制不导电高反射膜层
真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用304不锈钢、纯硅或硅硼做靶材，沉积氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层，沉积的膜层厚度110nm；
或镀制氮氧硅膜层：真空箱体中，氧气和氮气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氮氧硅膜层厚度110nm。
二、在不导电高反射膜层上印刷高分子有机白色油墨纹理图案
1、印刷的工艺可以是丝网印刷、热/UV转印、喷绘/打印等。
2、印刷油墨图案层进行热固化处理或者紫外线固化处理：低温固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟；
3、在油墨图案层上印刷一层保护油墨层
当热固化处理时，低温固化印刷在油墨图案上的保护油墨层，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟。
得到的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃结构为：
玻璃基板/氧化硅膜/不导电防紫外线膜层/不导电高反射膜层/印刷油墨图案层/保护油墨层
此时，镀膜后装饰玻璃的可见光波长范围金属光泽反射率18%，紫外线截止率100%，理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。印刷油墨图案复合GB/T29757-2013彩晶装饰玻璃，距离装饰玻璃>10cm处，人眼观测不到印刷纹理边部的锯齿形状，得到一种防紫外线精细纹理图案的镀膜印刷复合装饰玻璃。
实施例9
本实施例提出实施例2所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法。
具体操作如下：
一、在玻璃的一面依次镀膜
镀制SiOX底层膜：真空箱体中，氧气和氩气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氧化硅膜层厚度10nm。
二、镀制不导电防紫外线膜层和不导电高反射膜层
2.1镀制非晶硅膜层：真空箱体中，氩气做工作气体，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的膜层厚度50nm。
2.2镀制氧化铈膜层、氧化钨膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层或氧化镍膜层：真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯金属钨、纯金属铌、纯金属锆、纯金属锡、纯金属镍、氧化铈、氧化钨、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化镍做靶材，沉积的膜层厚度80nm；
2.3镀制不导电高反射膜层
真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用304不锈钢、纯硅或硅硼做靶材，沉积氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层，沉积的膜层厚度140nm；
或镀制氮氧硅膜层：真空箱体中，氧气和氮气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氮氧硅膜层厚度140nm。
二、在不导电高反射膜层上印刷高分子有机黄色油墨纹理图案
1、印刷的工艺可以是丝网印刷、热转印、UV转印、喷绘或打印等。
2、印刷油墨图案层进行热固化处理或者紫外线固化处理：低温固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟；
3、在油墨图案层上印刷一层保护油墨层
当热固化处理时，低温固化印刷在油墨图案上的保护油墨层，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟。
得到的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃结构为：
玻璃基板/氧化硅膜/不导电防紫外线膜层/不导电高反射膜层/印刷油墨图案层/保护油墨层
此时，镀膜后装饰玻璃的可见光波长范围金属光泽反射率24%，紫外线截止率100%，理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。印刷油墨图案复合GB/T29757-2013彩晶装饰玻璃，距离装饰玻璃>10cm处，人眼观测不到印刷纹理边部的锯齿形状，得到一种防紫外线精细纹理图案的镀膜印刷复合装饰玻璃。
实施例10
本实施例提出实施例3所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法。
具体操作如下：
一、在玻璃的一面依次镀膜
镀制SiOX底层膜：真空箱体中，氧气和氩气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氧化硅膜层厚度15nm。
二、镀制不导电防紫外线膜层和不导电高反射膜层
2.1镀制非晶硅膜层：真空箱体中，氩气做工作气体，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的膜层厚度40nm。
2.2镀制氧化铈膜层、氧化钨膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层或氧化镍膜层：真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯金属钨、纯金属铌、纯金属锆、纯金属锡、纯金属镍、氧化铈、氧化钨、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化镍做靶材，沉积的膜层厚度90nm；
2.3镀制不导电高反射膜层
真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用304不锈钢、纯硅或硅硼做靶材，沉积氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层，沉积的膜层厚度170nm；
或镀制氮氧硅膜层：真空箱体中，氧气和氮气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氮氧硅膜层厚度170nm。
二、在不导电高反射膜层上印刷高分子有机绿色油墨纹理图案
1、印刷的工艺可以是丝网印刷、热转印、UV转印、喷绘或打印等。
2、印刷油墨图案层进行热固化处理或者紫外线固化处理：低温固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟；
3、在油墨图案层上印刷一层保护油墨层
当热固化处理时，低温固化印刷在油墨图案上的保护油墨层，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟。
得到的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃结构为：
玻璃基板/氧化硅膜/不导电防紫外线膜层/不导电高反射膜层/印刷油墨图案层/保护油墨层
此时，镀膜后装饰玻璃的可见光波长范围金属光泽反射率29%，紫外线截止率100%，理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。印刷油墨图案复合GB/T29757-2013彩晶装饰玻璃，距离装饰玻璃>10cm处，人眼观测不到印刷纹理边部的锯齿形状，得到一种防紫外线精细纹理图案的镀膜印刷复合装饰玻璃。
实施例11
本实施例提出实施例4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法。
具体操作如下：
一、在玻璃的一面依次镀膜
镀制SiOX底层膜：真空箱体中，氧气和氩气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氧化硅膜层厚度20nm。
二、镀制不导电防紫外线膜层和不导电高反射膜层
2.1镀制非晶硅膜层：真空箱体中，氩气做工作气体，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的膜层厚度40nm。
2.2镀制氧化铈膜层、氧化钨膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层或氧化镍膜层：真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯金属钨、纯金属铌、纯金属锆、纯金属锡、纯金属镍、氧化铈、氧化钨、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化镍做靶材，沉积的膜层厚度106nm；
2.3镀制不导电高反射膜层
真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用304不锈钢、纯硅或硅硼做靶材，沉积氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层，沉积的膜层厚度190nm；
或镀制氮氧硅膜层：真空箱体中，氧气和氮气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氮氧硅膜层厚度190nm。
二、在不导电高反射膜层上印刷高分子有机橙黄色油墨纹理图案
1、印刷的工艺可以是丝网印刷、热转印、UV转印、喷绘或打印等。
2、印刷油墨图案层进行热固化处理或者紫外线固化处理：低温固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟；
3、在油墨图案层上印刷一层保护油墨层
当热固化处理时，低温固化印刷在油墨图案上的保护油墨层，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟。
得到的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃结构为：
玻璃基板/氧化硅膜/不导电防紫外线膜层/不导电高反射膜层/印刷油墨图案层/保护油墨层
此时，镀膜后装饰玻璃的可见光波长范围金属光泽反射率31%，紫外线截止率100%，理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。印刷油墨图案复合GB/T29757-2013彩晶装饰玻璃，距离装饰玻璃>10cm处，人眼观测不到印刷纹理边部的锯齿形状，得到一种防紫外线精细纹理图案的镀膜印刷复合装饰玻璃。
实施例12
本实施例提出实施例5所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法。
具体操作如下：
一、在玻璃的一面依次镀膜
镀制SiOX底层膜：真空箱体中，氧气和氩气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氧化硅膜层厚度20nm。
二、镀制不导电防紫外线膜层和不导电高反射膜层
2.1镀制非晶硅膜层：真空箱体中，氩气做工作气体，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的膜层厚度40nm。
2.2镀制氧化铈膜层、氧化钨膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层或氧化镍膜层：真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯金属钨、纯金属铌、纯金属锆、纯金属锡、纯金属镍、氧化铈、氧化钨、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化镍做靶材，沉积的膜层厚度106nm；
2.3镀制不导电高反射膜层
真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用304不锈钢、纯硅或硅硼做靶材，沉积氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层，沉积的膜层厚度190nm；
或镀制氮氧硅膜层：真空箱体中，氧气和氮气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氮氧硅膜层厚度210nm。
二、在不导电高反射膜层上印刷高分子有机紫红色油墨纹理图案
1、印刷的工艺可以是丝网印刷、热转印、UV转印、喷绘或打印等。
2、印刷油墨图案层进行热固化处理或者紫外线固化处理：低温固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟；
3、在油墨图案层上印刷一层保护油墨层
当热固化处理时，低温固化印刷在油墨图案上的保护油墨层，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟。
得到的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃结构为：
玻璃基板/氧化硅膜/不导电防紫外线膜层/不导电高反射膜层/印刷油墨图案层/保护油墨层
此时，镀膜后装饰玻璃的可见光波长范围金属光泽反射率32%，紫外线截止率100%，理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。印刷油墨图案复合GB/T29757-2013彩晶装饰玻璃，距离装饰玻璃>10cm处，人眼观测不到印刷纹理边部的锯齿形状，得到一种防紫外线精细纹理图案的镀膜印刷复合装饰玻璃。
实施例13
本实施例提出实施例6所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法。
具体操作如下：
一、在玻璃的一面依次镀膜
镀制SiOX底层膜：真空箱体中，氧气和氩气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氧化硅膜层厚度20nm。
二、镀制不导电防紫外线膜层和不导电高反射膜层
2.1镀制非晶硅膜层：真空箱体中，氩气做工作气体，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的膜层厚度40nm。
2.2镀制氧化铈膜层、氧化钨膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层或氧化镍膜层：真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯金属钨、纯金属铌、纯金属锆、纯金属锡、纯金属镍、氧化铈、氧化钨、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化镍做靶材，沉积的膜层厚度106nm；
2.3镀制不导电高反射膜层
真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用304不锈钢、纯硅或硅硼做靶材，沉积氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层，沉积的膜层厚度190nm；
或镀制氮氧硅膜层：真空箱体中，氧气和氮气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氮氧硅膜层厚度210nm。
二、在不导电高反射膜层上印刷高分子有机红色油墨纹理图案
1、印刷的工艺可以是丝网印刷、热转印、UV转印、喷绘或打印等。
2、印刷油墨图案层进行热固化处理或者紫外线固化处理：低温固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟；
3、在油墨图案层上印刷一层保护油墨层
当热固化处理时，低温固化印刷在油墨图案上的保护油墨层，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟。
得到的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃结构为：
玻璃基板/氧化硅膜/不导电防紫外线膜层/不导电高反射膜层/印刷油墨图案层/保护油墨层
此时，镀膜后装饰玻璃的可见光波长范围金属光泽反射率32%，紫外线截止率100%，理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。印刷油墨图案复合GB/T29757-2013彩晶装饰玻璃，距离装饰玻璃>10cm处，人眼观测不到印刷纹理边部的锯齿形状，得到一种防紫外线精细纹理图案的镀膜印刷复合装饰玻璃。
实施例14
本实施例提出实施例7所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法。
具体操作如下：
一、在玻璃的一面依次镀膜
镀制SiOX底层膜：真空箱体中，氧气和氩气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氧化硅膜层厚度25nm。
二、镀制不导电防紫外线膜层和不导电高反射膜层
2.1镀制非晶硅膜层：真空箱体中，氩气做工作气体，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的膜层厚度45nm。
2.2镀制氧化铈膜层、氧化钨膜层、氧化铌膜层、氧化锆膜层、氧化锡膜层或氧化镍膜层：真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯金属钨、纯金属铌、纯金属锆、纯金属锡、纯金属镍、氧化铈、氧化钨、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化镍做靶材，沉积的膜层厚度111nm；
2.3镀制不导电高反射膜层
真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用304不锈钢、纯硅或硅硼做靶材，沉积氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层，沉积的膜层厚度220nm；
或镀制氮氧硅膜层：真空箱体中，氧气和氮气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材，沉积的氮氧硅膜层厚度120nm。
二、在不导电高反射膜层上印刷高分子有机黑色油墨纹理图案
1、印刷的工艺可以是丝网印刷、热转印、UV转印、喷绘或打印等。
2、印刷油墨图案层进行热固化处理或者紫外线固化处理：低温固化油墨印刷的玻璃，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟；
3、在油墨图案层上印刷一层保护油墨层
当热固化处理时，低温固化印刷在油墨图案上的保护油墨层，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；紫外线固化处理时，紫外辐射波长280nm~385nm，照射3-15分钟。
得到的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃结构为：
玻璃基板/氧化硅膜/不导电防紫外线膜层/不导电高反射膜层/印刷油墨图案层/保护油墨层
此时，镀膜后装饰玻璃的可见光波长范围金属光泽反射率35%，紫外线截止率100%，理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。印刷油墨图案复合GB/T29757-2013彩晶装饰玻璃，距离装饰玻璃>10cm处，人眼观测不到印刷纹理边部的锯齿形状，得到一种防紫外线精细纹理图案的镀膜印刷复合装饰玻璃。
本发明提出的制备防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法，其工艺简单、方法成熟。
以上仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃，其特征在于，包括玻璃基板以及依次设置于玻璃基板上的不导电底膜层、不导电防紫外线膜层、不导电高反射膜层、印刷油墨图案层以及保护油墨层，其中，
所述不导电底膜层为SiOX膜层，x=1~2，膜层厚度5nm~25nm；所述不导电防紫外线膜层为金属氧化物膜层与非晶硅膜层形成的复合膜层，膜层总厚度90nm~156nm；所述不导电高反射膜层为氧化不锈钢膜层、氮化硅膜层或氮氧化硅膜层，膜层总厚度110 nm~220nm，不导电高反射膜层的光学带隙小于3.1eV；非晶硅膜层位于金属氧化物膜层和不导电底膜层之间。
2.如权利要求1所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃，其特征在于，所述金属氧化物为氧化铈、氧化铌、氧化锆、氧化锡、氧化钨或氧化镍。
3.如权利要求1所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃，其特征在于，所述不导电高反射膜层的折射率为1.8~2.2。
4.如权利要求1所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
采用磁控溅射工艺镀制不导电底膜层；
在不导电底膜层上采用磁控溅射工艺镀制不导电防紫外线膜层；
在不导电防紫外线膜层上采用磁控溅射工艺镀制不导电高反射膜层;
在不导电高反射膜层上形成印刷油墨图案层；
在印刷油墨图案层上形成保护油墨层。
5.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法，其特征在于，镀制不导电底膜层的操作条件为：在真空箱体中，氧气和氩气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材进行磁控溅射。
6.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法，其特征在于，所述在不导电底膜层上采用磁控溅射工艺镀制不导电防紫外线膜层的步骤具体包括：
在真空箱体中，使用氩气为工作气体，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材沉积得到非晶硅膜层；
真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯金属钨、纯金属铌、纯金属锆、纯金属锡、纯金属镍、氧化铈、氧化钨、氧化铌、氧化锆、氧化锡或氧化镍做靶材。
7.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法，其特征在于，镀制不导电高反射膜层的操作条件为：
当不导电高反射膜层为氧化不锈钢膜层或氮化硅膜层时，在真空箱体中，氧气和氩气流量比例15~25%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用304不锈钢、纯硅或硅硼做靶材沉积得到氧化不锈钢膜层；
当不导电高反射膜层为氮氧硅膜层时，真空箱体中，氧气和氮气流量比例5~15%，溅射气压（2.5~4.5）×10-1Pa，用纯硅或硅硼做靶材沉积得到氮氧硅膜层。
8.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法，其特征在于，在不导电防紫外线膜层上形成印刷油墨图案层的方法为丝网印刷、热转印、UV转印、喷绘或打印。
9.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法，形成印刷油墨图案层时采用热固化处理或者紫外线固化处理，采用热固化处理时，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；采用紫外固化油墨时，紫外辐射波长为280nm~385nm，照射3~15分钟；形成保护油墨层时，采用热固化处理或者紫外线固化处理，采用热固化处理时，在140℃~260℃热处理5~15分钟固化；采用紫外固化油墨时，紫外辐射波长为280nm~385nm，照射3~15分钟。
10.如权利要求4所述的防紫外线且具有精细纹理图案的装饰玻璃的制备方法，在不导电高反射膜层上形成印刷油墨图案层之前还包括：对不导电高反射膜层进行等离子体处理，电压1000~1200伏，气压10-1~10-2Pa。
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