CN106915758B - 一种用于tft-lcd玻璃的低锂氧化铝制备方法 - Google Patents

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Abstract

一种用于TFT‑LCD玻璃的低锂氧化铝制备方法，包括以下步骤：（1）挑选出锂含量不超过150ppm的氧化铝粉料；（2）除去氧化铝粉料中的铁；（3）得到的氧化铝粉料需要采用高铝质匣钵进行煅烧，对选用的高铝质匣钵进行脱锂；（4）向得到的氧化铝粉料中加入矿化剂并混合均匀，然后将其装入选用的高铝质匣钵中；（5）将盛装氧化铝粉料及矿化剂的高铝质匣钵送入隧道窑内进行煅烧；（6）分拣出高铝质匣钵内的氧化铝；（7）对得到的氧化铝进行破碎，并进行研磨均化处理；（8）对得到的氧化铝进行检测，挑选出锂含量不超过10ppm的氧化铝，并对其进行包装入库。本发明能够有效降低氧化铝中锂的含量、生产效率高、生产质量好。

Description

一种用于TFT-LCD玻璃的低锂氧化铝制备方法
技术领域
本发明属于氧化铝技术领域，尤其涉及一种用于TFT-LCD玻璃的低锂氧化铝制备方法。
背景技术
TFT-LCD即薄膜晶体管液晶显示器，TFT-LCD技术是微电子技术与液晶显示器技术结合的一种技术。人们利用在硅上进行微电子精细加工的技术，移植到在大面积玻璃上进行TFT阵列的加工，再将该阵列基板与另一片带彩色滤色膜的基板，利用与业已成熟的LCD技术，形成一个液晶盒相结合，再经过后工序如偏光片贴覆等过程，最后形成液晶显示器。氧化铝是TFT-LCD玻璃的主要原料之一，氧化铝中的锂是在生产氧化铝的过程中由铝土矿带进的微量元素，并在生产过程中逐渐富集，国内铝土矿生产的氧化铝的锂含量最低为70ppm，有的可高达510ppm，对于TFT-LCD基板玻璃而言要求的锂含量很低，国内生产的氧化铝中的锂含量过高达不到要求，因此降低氧化铝中锂的含量至关重要。
发明内容
本发明为了解决现有技术中的不足之处，提供一种能够有效降低氧化铝中锂的含量、生产效率高、生产质量好的用于TFT-LCD玻璃的低锂氧化铝制备方法。
为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种用于TFT-LCD玻璃的低锂氧化铝制备方法，包括以下步骤：
（1）对待加工的氧化铝原料中的锂含量进行检测，挑选出锂含量不超过150ppm的氧化铝粉料；
（2）采用湿法除去步骤(1)中挑选出的氧化铝粉料中的铁；
（3）得到的氧化铝粉料需要采用高铝质匣钵进行煅烧，对选用的高铝质匣钵进行脱锂；
（4）向得到的氧化铝粉料中加入矿化剂并混合均匀，然后将其装入选用的高铝质匣钵中，所述矿化剂采用氯化物、氟化物或氯化物与氟化物的复合；
（5）将盛装氧化铝粉料及矿化剂的高铝质匣钵送入隧道窑内进行煅烧，在高温煅烧的过程中，控制窑内气氛在矿化剂与氧化铝粉料中的Li2O反应时将易挥发的锂的化合物排出窑外，并对高铝质匣钵内的混合物料进行脱钠处理；
（6）将经过隧道窑煅烧的高铝质匣钵从隧道窑内取出，并分拣出高铝质匣钵内的氧化铝；
（7）对步骤（6）中得到的氧化铝进行破碎，并进行研磨均化处理，然后除去氧化铝中的铁；
（8）对得到的氧化铝进行检测，挑选出锂含量不超过10ppm的氧化铝，并对其进行包装入库。
采用原子吸收光谱法测定氧化铝粉料中锂的含量。
步骤（5）中矿化剂与氧化铝粉料在高温煅烧的过程中，主要的离子反应式为：
Li+ + Cl- LiCl；Li+ + F- LiF。
采用上述技术方案，本发明具有如下优点：
1、本发明将氧化铝粉料及矿化剂混合后装入经过脱锂处理的高铝质匣钵中，然后将盛有氧化铝粉料及矿化剂的高铝质匣钵放入隧道窑内高温煅烧，从而降低和除去氧化铝内锂的含量，采用上述方法操作简便，能够有效降低氧化铝中锂的含量。
2、本发明首先挑选出锂含量不超过150ppm的氧化铝粉料，减轻后续除锂的难度，加快了除锂效率。
3、本发明在除去氧化铝中锂含量的同时，排除铁、钠等元素的干扰，使得生产出的氧化铝比较纯净，生产质量得到大大提高。
附图说明
图1是本发明的工艺流程图。
具体实施方式
如图1所示，本发明的一种用于TFT-LCD玻璃的低锂氧化铝制备方法，包括以下步骤：
（1）对待加工的氧化铝原料中的锂含量进行检测，挑选出锂含量不超过150ppm（百万分之一百五十）的氧化铝粉料；
（2）采用湿法除去步骤(1)中挑选出的氧化铝粉料中的铁；
（3）得到的氧化铝粉料需要采用高铝质匣钵进行煅烧，对选用的高铝质匣钵进行脱锂；
（4）向得到的氧化铝粉料中加入矿化剂并混合均匀，然后将其装入选用的高铝质匣钵中，所述矿化剂采用氯化物、氟化物或氯化物与氟化物的复合；
（5）将盛装氧化铝粉料及矿化剂的高铝质匣钵送入隧道窑内进行煅烧，在高温煅烧的过程中，控制窑内气氛在矿化剂与氧化铝粉料中的Li2O反应时将易挥发的锂的化合物排出窑外，并对高铝质匣钵内的混合物料进行脱钠处理；
（6）将经过隧道窑煅烧的高铝质匣钵从隧道窑内取出，并分拣出高铝质匣钵内的氧化铝；
（7）对步骤（6）中得到的氧化铝进行破碎，并进行研磨均化处理，然后除去氧化铝中的铁；
（8）对得到的氧化铝进行检测，挑选出锂含量不超过10ppm（百万分之十）的氧化铝，并对其进行包装入库。
采用原子吸收光谱法测定氧化铝粉料中锂的含量。
步骤（5）中矿化剂与氧化铝粉料在高温煅烧的过程中，主要的离子反应式为：
Li+ + Cl- LiCl；Li+ + F- LiF。
本实施例并非对本发明的形状、材料、结构等作任何形式上的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均属于本发明技术方案的保护范围。

Claims (3)

1.一种用于TFT-LCD玻璃的低锂氧化铝制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）对待加工的氧化铝原料中的锂含量进行检测，挑选出锂含量不超过150ppm的氧化铝粉料；
（2）采用湿法除去步骤(1)中挑选出的氧化铝粉料中的铁；
（3）得到的氧化铝粉料需要采用高铝质匣钵进行煅烧，对选用的高铝质匣钵进行脱锂；
（4）向得到的氧化铝粉料中加入矿化剂并混合均匀，然后将其装入选用的高铝质匣钵中，所述矿化剂采用氯化物、氟化物或氯化物与氟化物的复合；
（5）将盛装氧化铝粉料及矿化剂的高铝质匣钵送入隧道窑内进行煅烧，在高温煅烧的过程中，控制窑内气氛在矿化剂与氧化铝粉料中的Li2O反应时将易挥发的锂的化合物排出窑外，并对高铝质匣钵内的混合物料进行脱钠处理；
（6）将经过隧道窑煅烧的高铝质匣钵从隧道窑内取出，并分拣出高铝质匣钵内的氧化铝；
（7）对步骤（6）中得到的氧化铝进行破碎，并进行研磨均化处理，然后除去氧化铝中的铁；
（8）对得到的氧化铝进行检测，挑选出锂含量不超过10ppm的氧化铝，并对其进行包装入库。
2.根据权利要求1所述的用于TFT-LCD玻璃的低锂氧化铝制备方法，其特征在于：采用原子吸收光谱法测定氧化铝粉料中锂的含量。
3.根据权利要求1所述的用于TFT-LCD玻璃的低锂氧化铝制备方法，其特征在于：步骤（5）中矿化剂与氧化铝粉料在高温煅烧的过程中，主要的离子反应式为：Li+ + Cl- LiCl；Li+ + F- LiF。
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