CN106765356A - 一种红外烹调器的不间断加热方法及烹调器 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种红外烹调器的不间断加热方法及烹调器，包括底座、作为食物容器的盘体和红外线照射部；所述盘体设置在底座上，红外线照射部设置在盘体上，所述红外线照射部被施加电源后会朝向所述盘体照射红外线，盘体与红外线照射部之间为开放或半开放的热辐射区域；加热方法包括至少一个红外线照射部以固定功率对盘体持续照射的加热模式，该加热模式的变化条件为：红外线照射部不被施加电源和红外线照射部变换另一固定功率对盘体持续照射；该加热模式的变化条件不包括检测红外线照射部的温度是否达到限定值。本发明应用于开放的上照射式烹调器，免受环境因素影响，效果更优。

Description

一种红外烹调器的不间断加热方法及烹调器
技术领域
本发明属于加热设备技术领域，具体涉及一种上辐射(半)开放式加热的红外烹调器。
背景技术
本发明针对的是一种特定的烹调器，又称之为(半)开放式红外烹调器、光波烤盘，其包括底座、盘体、红外线照射部等结构，红外线照射部通过支撑结构设置在盘体上方，红外线照射部设有通电时向盘体照射红外线，食物在盘体上被热辐射加热。
上述这种烹调器在现有技术中采用有温控器的加热控制方式。工作时，红外线照射部以某功率加热，当红外线照射部达到温控单元设定的温度时，红外线照射部断电停止加热，当红外线照射部的温度降低到温控单元设定的温度以下时，红外线照射部通电继续加热，如此重复使红外线照射部间歇向盘体照射红外线。
发明人经过长期观察发现，上述的加热控制方法并不适应红外烹调器的特点。红外烹调器是采用上辐射(半)开放式加热，加热过程受环境因素影响非常明显，且红外线照射部的温度与照射时盘体的温度无法直接对应，当环境因素影响较大时，比如，当周围温度较低或风速较大时，即使红外线照射部达到温控单元设定的温度而断电停止加热，但实际盘体上的食物尚未完全烤熟，但又不得不等到红外线照射部的温度降低到温控单元设定的温度以下才通电继续加热，如此使用者等待的时间就会大大延长，也使食物反复加热，影响口感。
发明内容
本发明针对这种开放或半开放式且采用红外线照射部向下照射盘体食物的加热方法。并且显然的。这种加热方法仅限于解决以上条件下的红外烹调器所产生的受环境因素影响问题，而提供的一种更加合理和对食物烹饪效果更好的加热方法。
本发明采用的技术方案如下：
一种红外烹调器的不间断加热方法，所述红外烹调器包括底座、作为食物容器的盘体和红外线照射部；所述盘体设置在底座上，红外线照射部设置在盘体上；所述红外线照射部被施加电源后会朝向所述盘体照射红外线；盘体与红外线照射部之间为开放或半开放的热辐射区域；加热方法包括至少一个红外线照射部以固定功率对盘体持续照射的加热模式，该加热模式使得盘体被持续照射后维持在一个特定的工作温度；该加热模式的变化条件为：红外线照射部不被施加电源和红外线照射部变换另一固定功率对盘体持续照射；该加热模式的变化条件不包括检测红外线照射部的温度是否达到限定值。
本发明的加热方法针对开放或半开放且向下辐射式的红外烹调器。所谓的“开放”，是指在红外线照射部与盘体之间是开放状态；同理，“半开放”，是指至少有一部分区域属于开放状态，定义开放或半开放用于限定这种烹调器的热辐射区域容易被外界因素影响。
以上方法取消了传统的温控方法弊端，使红外烹调器不设置检测红外线照射部温度的温控单元，而是以不同的额定功率持续不断电的照射红外线，直接以盘体温度作为控制的目标，因此避免了环境因素的干扰和影响。且由于持续不断电加热，加热效率高，电路简单，寿命提高，简化了控制电器，简化了红外线照射部的结构，降低了制造成本。
优选的，具有两种以上的加热模式，每种加热模式对应不同的设定功率。通过调节功率的大小可以调节不同的加热温度，针对不同食材进行选择。
优选的，变换另一固定功率时红外线照射部不断电，变换是无级的功率连续改变。无级连续变换使得红外线照射部可以在各种功率下工作，并以触摸屏滑动方式、按键方式或者旋钮方式等，调整整个控制。
优选的，加热模式的设置方法为：将盘体区域的工作温度范围区分成不同的工作温度选项，再检测不同工作温度选项下红外线照射部对应的功率，以所述对应的功率作为加热模式设置的依据。
优选的，还设有时间参数，该时间参数由用户设定，当时间参数条件满足后，红外线照射部不被施加电源或红外线照射部变换为较低的固定功率对盘体持续照射。
优选的，所述加热模式切换或结束手动控制或自动控制，当采用自动控制时，以检测盘体与红外线照射部之间热辐射区域的环境温度作为自动控制加热模式结束或转换的依据。由于是对盘体而不是对红外线照射部的温度进行检测，提高了控制的准确性、合理性。
本发明的另一目的在于提供采用上述加热方式的烹调器，通过一种功率调节装置实现不同加热模式的切换。
在一种实施例中，该功率调节装置为可控硅功率调整器和数字电路控制模块。此时，对应的是数字电路控制下的功率调节装置，具有稳定和高效的特点。
另一种实施例中，该功率调节装置为由整流二极管实现的功率调节模拟电路。此时，对应的是模拟电路控制下的功率调节装置，具有低成本和可靠的特点。
还有另一种实施例中，采用不同红外照射部工作或组合的方式进行功率调节。此时，具有至少两个或以上的红外线照射部，这些照射部之间可以分别工作或处于不同组合状态下工作，并通过一个选择开关实现这些红外线照射部的分别和/或组合工作的选择，以获得不同固定功率的加热模式。这种方案具有简单、低成本的特点。
优选的，作为烹调器结构上的改进，红外线照射部为环形光波管，所述环形光波管的接线端使得光波管产生加热冷区，此时，所述盘体可旋转地设置于底座上。由于光波管是非封闭式的，其两端形成的缺口处不生产红外线，无法对食物进行加热，形成一定范围的冷区，本发明通过驱动装置驱动盘体相对红外线照射部旋转运动，可以避免位于冷区的食物接收不到红外线，从而提高加热效果。
附图说明
图1为本发明红外烹调器的示意图；
图2为本发明红外烹调器的控制面板图；
图3为本发明实施例1的电路原理图；
图4为本发明实施例2的电路原理图；
图5为本发明实施例3的电路原理图。
具体实施方式
以下结合具体的实施例对本发明的技术方案进行详细的说明。
参见图1，一种不间断加热的红外烹调器，包括底座2、盘体3、红外线照射部1和控制电路，盘体3设置在底座2上，红外线照射部1通过支撑臂4设置在所述盘体3的上方，控制电路与红外线照射部1连接；红外线照射部1内不设置检测红外线照射部1温度的温控单元，红外线照射部1可以对放置在盘体3上表面的食物以设定功率持续照射红外线，红外线照射部1在设定功率下工作时不断电。
本发明针对的是开放或半开放且向下辐射式的红外烹调器所做的加热方法改进。所谓的“开放”，是指在红外线照射部1与盘体3之间是开放状态；同理，“半开放”，是指至少有一部分区域属于开放状态。这里所谓的“加热模式”是指保持以固定功率对盘体3持续照射的模式，不同的加热模式对应不同的固定功率。以上方法取消了传统的温控方法，红外烹调器不设置检测红外线照射部1温度的温控单元，而是以不同的额定功率持续不断电的照射红外线，因此避免了环境因素的干扰和影响。且由于持续不断电加热，加热效率高，电路简单，寿命提高，简化了控制电器，简化了红外线照射部1的结构，降低了制造成本。
从控制方法上，至少包括一个红外线照射部1以固定功率对盘体3持续照射的加热模式，该加热模式的变化条件为：红外线照射部1不被施加电源和红外线照射部1变换另一固定功率对盘体3持续照射，且该加热模式的变化条件不包括检测红外线照射部1的温度是否达到限定值。
加热模式的设置方法为：将盘体3区域的工作温度范围区分成不同的工作温度选项，再检测不同工作温度选项下红外线照射部1对应的功率，以所述对应的功率作为加热模式设置的依据。
见图2的控制面板，待机状态下轻触滑动条，可任意设置80-280度区间任意温度，该温度是指盘体3预设的工作温度，不同工作温度设定对应不同的红外线照射部1工作功率。开始先设置好需要的温度，再按一次“开始/停止”键启动产品。若再按一次“开始/停止”键则回到待机状态；设置烹饪时间，用手顺时针旋动旋钮，以1分钟递增，设置好时间后，直接进入计时状态。此时数码屏显示倒计时时间。
当需要调节工作温度时，轻触滑动条进入不同的温度区间，自动设定不同功率的加热模式。时间参数由用户设定，当时间参数条件满足后，红外线照射部1不被施加电源或红外线照射部1变换为较低的固定功率对盘体3持续照射。
另一个实施例中，所述加热模式切换或结束手动控制或自动控制，当采用自动控制时，以检测盘体3与红外线照射部1之间热辐射区域的环境温度作为自动控制加热模式结束或转换的依据。此时是对盘体3工作温度，而不是对红外线照射部1的温度进行检测，提高了控制的准确性、合理性。
本发明的另一目的在于提供采用上述加热方法的烹调器，关键在于设定并实现不同固定功率的切换，因此通过采用功率调节装置实现。
图3是另一种实施例，该功率调节装置为可控硅功率调整器和数字电路控制模块。此时，对应的是数字电路控制下的功率调节装置，具有稳定和高效的特点。
图4是另一种实施例，该功率调节装置为由整流二极管实现的功率调节模拟电路。此时，对应的是模拟电路控制下的功率调节装置，具有低成本和可靠的特点。
图5是另一种实施例，采用不同红外照射部工作和/或组合的方式进行功率调节。此时，具有至少两个或以上的红外线照射部1，这些照射部之间可以分别工作或处于不同组合状态下工作，并通过一个选择开关实现这些红外线照射部1的分别以和/或组合工作的选择，以获得不同固定功率的加热模式。这种方案具有简单、低成本的特点。
优选的，作为烹调器结构上的改进，红外线照射部1为环形光波管，所述环形光波管的接线端使得光波管产生加热冷区，此时，所述盘体3可旋转地设置于底座2上。由于光波管是非封闭式的，其两端形成的缺口处不生产红外线，无法对食物进行加热，形成一定范围的冷区，本发明通过驱动装置驱动盘体3相对红外线照射部1旋转运动，可以避免位于冷区的食物接收不到红外线，从而提高加热效果。
根据上述说明书的揭示和教导，本发明所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本发明并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对本发明的一些修改和变更也应当落入本发明的权利要求的保护范围内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本发明构成任何限制。

Claims (10)

1.一种红外烹调器的不间断加热方法，所述红外烹调器包括底座、作为食物容器的盘体和红外线照射部；所述盘体设置在底座上，红外线照射部设置在盘体上；所述红外线照射部被施加电源后会朝向所述盘体照射红外线；盘体与红外线照射部之间为开放或半开放的热辐射区域；其特征在于：加热方法包括至少一个红外线照射部以固定功率对盘体持续照射的加热模式，该加热模式使得盘体被持续照射后维持在一个特定的工作温度；该加热模式的变化条件为：红外线照射部不被施加电源和红外线照射部变换另一固定功率对盘体持续照射；该加热模式的变化条件不包括检测红外线照射部的温度是否达到限定值。
2.根据权利要求1所述的加热方法，其特征在于，加热方法具有两种以上对应不同设定功率的加热模式。
3.根据权利要求2所述的加热方法，其特征在于，变换为另一固定功率的过程中红外线照射部不被断电。
4.根据权利要求2所述的加热方法，其特征在于，加热模式的设置方法为：将盘体的工作温度范围区分成不同的工作温度选项，再检测不同工作温度选项下红外线照射部对应的功率，以所述对应的功率作为加热模式设置的依据。
5.根据权利要求2所述的加热方法，其特征在于，还设有时间参数，该时间参数由用户设定，当时间参数条件满足后，红外线照射部不被施加电源，或红外线照射部变换为较低的固定功率对盘体持续照射。
6.根据权利要求1所述的加热方法，其特征在于，以检测盘体与红外线照射部之间热辐射区域的环境温度作为自动控制加热模式结束或转换的依据。
7.一种应用权利要求1所述方法的烹调器，其特性在于，所述加热模式对应的固定功率由功率调节装置实现，该功率调节装置为可控硅功率调整器和数字电路控制模块。
8.一种应用权利要求1所述方法的烹调器，其特征在于，所述加热模式对应的固定功率由功率调节装置实现，该功率调节装置为由整流二极管实现的功率调节模拟电路。
9.一种应用权利要求1所述方法的烹调器，其特征在于，包括多个红外线照射部，还包括选择开关，该选择开关用于实现多个红外线照射部分别和/或组合工作，以获得不同的固定功率的加热模式。
10.根据权利要求7至9任一项所述的烹调器，其特征在于：红外线照射部为环形光波管，所述环形光波管的接线端使得光波管产生加热冷区，此时，所述盘体可旋转地设置于底座上。
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