CN106658934A - 一种微波等离子体粉体处理装置 - Google Patents

一种微波等离子体粉体处理装置 Download PDF

Info

Publication number
CN106658934A
CN106658934A CN201710124267.5A CN201710124267A CN106658934A CN 106658934 A CN106658934 A CN 106658934A CN 201710124267 A CN201710124267 A CN 201710124267A CN 106658934 A CN106658934 A CN 106658934A
Authority
CN
China
Prior art keywords
microwave plasma
rotary shaft
powder
rectangular waveguide
treatment device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201710124267.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106658934B (zh
Inventor
邬钦崇
邬明旭
全峰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Youpu Levin Plasma Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen Youpu Levin Plasma Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Youpu Levin Plasma Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen Youpu Levin Plasma Technology Co Ltd
Priority to CN201710124267.5A priority Critical patent/CN106658934B/zh
Publication of CN106658934A publication Critical patent/CN106658934A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106658934B publication Critical patent/CN106658934B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/06Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
    • C01B21/064Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with boron
    • C01B21/0648After-treatment, e.g. grinding, purification
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H05H1/461Microwave discharges
    • H05H1/4622Microwave discharges using waveguides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

本发明公开了一种微波等离子体粉体处理装置,包括安装于角度调节架上的装置体,所述装置体包括管式微波等离子体源,管式微波等离子体源由石英、陶瓷或耐热玻璃介质制成的介质管,矩形波导的一端连接微波源,其另一端连接可调节短路板,介质管一端与水冷金属法兰相连接,另一端与矩形波导的H面相连接。本发明用石英管式微波等离子体源,增添放置处理粉体的石英制成的旋转鼓杯,构成一种微波等离子体粉体处理装置,用这种装置,将纳米级或微米级的金刚石粉体、石墨烯粉体、立方氮化硼粉体或其他无机物粉体放置入旋转鼓杯,在管式微波等离子体源的高密度等离子体区域进行表面刻蚀、净化、接枝、沉积等功能化处理。

Description

一种微波等离子体粉体处理装置
技术领域
本发明涉及一种微波等离子体粉体处理装置。
背景技术
金刚石、石墨烯、立方氮化硼等粉体(包括微粉和纳米粉)的表面净化、氢化、功能化对其应用极为重要。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种用石英管式微波等离子体源,增添放置处理粉体的石英制成的旋转鼓杯,构成一种微波等离子体粉体处理装置,用这种装置,将纳米级或微米级的金刚石粉体、石墨烯粉体、立方氮化硼粉体或其他无机物粉体放置入旋转鼓杯,在管式微波等离子体源的高密度等离子体区域进行表面刻蚀、净化、接枝、沉积等功能化处理的微波等离子体粉体处理装置。
本发明是通过以下技术方案来实现的:一种微波等离子体粉体处理装置,包括安装于角度调节架上的装置体,所述装置体包括管式微波等离子体源,管式微波等离子体源由石英、陶瓷或耐热玻璃介质制成的介质管,该介质管穿过微波矩形波导的H面;
矩形波导的一端连接微波源,其另一端连接可调节短路板,穿过微波矩形波导的H面的介质管的上下两端由水冷金属法兰和O形胶圈密封形成真空室,介质管穿出矩形波导管的部分用带观察网孔的金属管或金属网卷成的管包围,其一端与水冷金属法兰相连接,另一端与矩形波导的H面相连接;
反应室上端有进气接口,与气路系统相连接,反应室下端连接一个金属腔体,金属腔体的一个侧向与真空规管连接,通过真空计检测工作气压,金属腔体的另一侧向连接旋风分离器、粉体过滤器、粗调节流阀和细调节流阀、放气阀,然后接真空泵用的截断放气阀、真空管路,最后接真空泵;
金属腔体的下端有KF快卸法兰接口,通过KF快卸法兰卡箍,将旋转鼓杯装入反应室。
作为优选的技术方案,所述旋转鼓杯由石英、陶瓷或耐热玻璃介质制成杯状容器,并将杯脚装入真空动密封旋转轴上,动密封轴承安装在KF快卸法兰上。
作为优选的技术方案,所述旋转鼓杯装入反应室后,旋转鼓杯的真空动密封旋转轴与介质管中心轴一致,旋转轴由电动机通过齿轮或带、链传动,使装入的旋转鼓杯随之转动。
作为优选的技术方案,所述真空动密封旋转轴包括一根旋转轴,旋转轴外部安装密封轴承座,旋转轴的尾端安装锁紧螺母与止动垫圈,其伸出锁紧螺母与止动垫圈还开设有一平键,旋转轴与密封轴承座之间还安装有球轴承、J型密封圈、J型密封圈与密封圈压套。
作为优选的技术方案,所述气路系统包括气体钢瓶及气体、流量控制器、截止阀以及输气管道。
作为优选的技术方案,所述旋转轴与水平面之间的夹角为30°至60°之间。
作为优选的技术方案,所述管式微波等离子体源外部还设置有冷却系统,所述冷却系统为冷却水槽。
作为优选的技术方案,所述角度调节支架安装于一个底座上,底座包括第一调节板与第二调节板,角度调节支架的底部通过转轴连接第二调节板,角度调节支架的顶部通过锁紧螺丝安装于第一调节板上纵向开设的一个以上的角度调节孔中。
本发明的有益效果是:本发明用石英管式微波等离子体源,增添放置处理粉体的石英制成的旋转鼓杯,构成一种微波等离子体粉体处理装置,用这种装置,将纳米级或微米级的金刚石粉体、石墨烯粉体、立方氮化硼粉体或其他无机物粉体放置入旋转鼓杯,在管式微波等离子体源的高密度等离子体区域进行表面刻蚀、净化、接枝、沉积等功能化处理。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为管式微波等离子体源和旋转杯的结构示意图;
图2为真空动密封旋转轴的结构示意图;
图3为本发明的整体结构示意图。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。
本说明书(包括任何附加权利要求、摘要和附图)中公开的任一特征,除非特别叙述,均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即,除非特别叙述,每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
如图1所示,包括安装于角度调节架上的装置体,所述装置体包括管式微波等离子体源1,管式微波等离子体源1由石英、陶瓷或耐热玻璃介质制成的介质管,该介质管穿过微波矩形波导的H面;
矩形波导的一端连接微波源2(频率为2450MHz或915MHz,包括微波发生器,阻抗匹配器,有需要时尚可加入环行器与水负载及定向耦合器等),其另一端连接可调节短路板3,可调节短路板3至适当位置时高密度等离子体区域(等离子体球)会出现在介质管的中心区,当工作参数(包括气体种类、工作气压、气体流量、微波功率等)的改变不会引起微波阻抗的显著变化时,可用固定位置短路板。
穿过微波矩形波导的H面的介质管的上下两端由水冷金属法兰和O形胶圈密封形成真空室,介质管穿出矩形波导管的部分用带观察网孔的金属管或金属网卷成的管包围,其一端与水冷金属法兰相连接,另一端与矩形波导的H面相连接,以防止工作时的微波泄漏导致对人体及环境的损害。
反应室上端有进气接口,与气路系统17相连接,反应室下端连接一个金属腔体,金属腔体的一个侧向与真空规管4连接,通过真空计检测工作气压,金属腔体的另一侧向连接旋风分离器5、粉体过滤器6、粗调节流阀7和细调节流阀8、放气阀9,然后接真空泵10用的截断放气阀11、真空管路,最后接真空泵10,通过真空泵气体排出口将装置中抽出的无害气体用排气管道排出户外,或将有害气体排到废气处理器进行无害化处理。金属腔体的下端有KF快卸法兰接口;
金属腔体的下端有KF快卸法兰接口,通过KF快卸法兰卡箍12,将旋转鼓杯装入反应室。
本实施例中,旋转鼓杯15由石英、陶瓷或耐热玻璃介质制成杯状容器,并将杯脚装入真空动密封旋转轴13上,动密封轴承安装在KF快卸法兰上。
旋转鼓杯15装入反应室后,旋转鼓杯15的真空动密封旋转轴与介质管中心轴一致,旋转轴由电动机28通过齿轮14或带、链传动,使装入的旋转鼓杯随之转动。
如图2所示,真空动密封旋转轴包括一根旋转轴18,旋转轴18外部安装密封轴承座19,旋转轴18的尾端安装锁紧螺母与止动垫圈20,其伸出锁紧螺母与止动垫圈还开设有一平键21,旋转轴与密封轴承座之间还安装有球轴承22、J型密封圈23、J型密封圈与密封圈压套24。
本实施例中,管式微波等离子体源外部还设置有冷却系统,所述冷却系统为冷却水槽16。
如图3所示,角度调节支架25安装于一个底座上,底座包括第一调节板26与第二调节板27,角度调节支架的底部通过转轴连接第二调节板,角度调节支架的顶部通过锁紧螺丝安装于第一调节板上纵向开设的一个以上的角度调节孔29中,使装置的旋转轴(介质管和放置粉体旋转鼓杯的轴)与水平面有一个角度,通常在30°至60°之间,可由调节机构调节固定,并不需要变动真空系统的位置。
当粉体装入旋转鼓杯后,再将旋转鼓杯装入反应室,拧紧KF快卸法兰卡箍形成真空连接;
开动真空泵,由调节阀控制抽气速率防止旋转鼓杯内的粉体随抽气气流飞扬。抽至本底真空后输入工作气体和参与反应的反应气体(这里统称工作气体)。当有特殊需要时可能要使用液相单体,这时需要用载气(通常使用Ar气)在加热的液相单体中通过,将单体分子送入反应室。开动转动电机,通过齿轮或带、链传动,使旋转鼓杯转动,这时启动微波源,在反应室中激发出微波等离子体。
当调节工作气体流量、压强、微波功率等参数达到工艺要求后,粉体在杯状容器中连续翻动,使粉体表面与等离子体相接触而得到均匀处理。在粉体处理至规定时间后,相继关闭工作气体、真空泵、微波源、转动电机后,打开放气阀,使反应室内达到大气压,就可卸去KF快卸法兰卡箍,取出旋转鼓杯,并取出处理好的粉体。
本发明的有益效果是:本发明用石英管式微波等离子体源,增添放置处理粉体的石英制成的旋转鼓杯,构成一种微波等离子体粉体处理装置,用这种装置,将纳米级或微米级的金刚石粉体、石墨烯粉体、立方氮化硼粉体或其他无机物粉体放置入旋转鼓杯,在管式微波等离子体源的高密度等离子体区域进行表面刻蚀、净化、接枝、沉积等功能化处理。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种微波等离子体粉体处理装置,其特征在于:包括安装于角度调节架上的装置体,所述装置体包括管式微波等离子体源,管式微波等离子体源由石英、陶瓷或耐热玻璃介质制成的介质管,该介质管穿过微波矩形波导的H面;
矩形波导的一端连接微波源,其另一端连接可调节短路板,穿过微波矩形波导的H面的介质管的上下两端由水冷金属法兰和O形胶圈密封形成真空室,介质管穿出矩形波导管的部分用带观察网孔的金属管或金属网卷成的管包围,其一端与水冷金属法兰相连接,另一端与矩形波导的H面相连接;
反应室上端有进气接口,与气路系统相连接,反应室下端连接一个金属腔体,金属腔体的一个侧向与真空规管连接,通过真空计检测工作气压,金属腔体的另一侧向连接旋风分离器、粉体过滤器、粗调节流阀和细调节流阀、放气阀,然后接真空泵用的截断放气阀、真空管路,最后接真空泵;
金属腔体的下端有KF快卸法兰接口,通过KF快卸法兰卡箍,将旋转鼓杯装入反应室。
2.如权利要求1所述的微波等离子体粉体处理装置,其特征在于:所述旋转鼓杯由石英、陶瓷或耐热玻璃介质制成杯状容器,并将杯脚装入真空动密封旋转轴上,动密封轴承安装在KF快卸法兰上。
3.如权利要求1所述的微波等离子体粉体处理装置,其特征在于:所述旋转鼓杯装入反应室后,旋转鼓杯的真空动密封旋转轴与介质管中心轴一致,旋转轴由电动机通过齿轮或带、链传动,使装入的旋转鼓杯随之转动。
4.如权利要求1所述的微波等离子体粉体处理装置,其特征在于:所述真空动密封旋转轴包括一根旋转轴,旋转轴外部安装密封轴承座,旋转轴的尾端安装锁紧螺母与止动垫圈,其伸出锁紧螺母与止动垫圈还开设有一平键,旋转轴与密封轴承座之间还安装有球轴承、J型密封圈、J型密封圈与密封圈压套。
5.如权利要求1所述的微波等离子体粉体处理装置,其特征在于:所述气路系统包括气体钢瓶及气体、流量控制器、截止阀以及输气管道。
6.如权利要求4所述的微波等离子体粉体处理装置,其特征在于:所述旋转轴与水平面之间的夹角为30°至60°之间。
7.如权利要求1所述的微波等离子体粉体处理装置,其特征在于:所述管式微波等离子体源外部还设置有冷却系统,所述冷却系统为冷却水槽。
8.如权利要求1所述的微波等离子体粉体处理装置,其特征在于:所述角度调节支架安装于一个底座上,底座包括第一调节板与第二调节板,角度调节支架的底部通过转轴连接第二调节板,角度调节支架的顶部通过锁紧螺丝安装于第一调节板上纵向开设的一个以上的角度调节孔中。
CN201710124267.5A 2017-03-03 2017-03-03 一种微波等离子体粉体处理装置 Active CN106658934B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710124267.5A CN106658934B (zh) 2017-03-03 2017-03-03 一种微波等离子体粉体处理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710124267.5A CN106658934B (zh) 2017-03-03 2017-03-03 一种微波等离子体粉体处理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106658934A true CN106658934A (zh) 2017-05-10
CN106658934B CN106658934B (zh) 2023-10-31

Family

ID=58846904

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710124267.5A Active CN106658934B (zh) 2017-03-03 2017-03-03 一种微波等离子体粉体处理装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106658934B (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107572508A (zh) * 2017-10-12 2018-01-12 北京大学 生产石墨烯粉体的设备
CN110010436A (zh) * 2019-04-24 2019-07-12 南京奥依菲光电科技有限公司 等离子体流化床粉体处理装置
CN111715162A (zh) * 2020-06-24 2020-09-29 深圳优普莱等离子体技术有限公司 一种大功率微波等离子体粉体处理器
CN114506827A (zh) * 2022-01-28 2022-05-17 中国人民解放军火箭军工程大学 一种鸡毛掸子状六方氮化硼微纳米管片复合结构的制备方法
CN116745253A (zh) * 2021-01-26 2023-09-12 杰富意钢铁株式会社 等离子体处理方法、等离子体处理六方氮化硼粉末的制造方法以及等离子体处理装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201301341Y (zh) * 2008-11-04 2009-09-02 乐培界 一种微波等离子体实验装置
CN103846111A (zh) * 2012-11-30 2014-06-11 神华集团有限责任公司 一种粉体或颗粒等离子体处理装置
CN104046958A (zh) * 2014-06-06 2014-09-17 华中科技大学 一种用于微纳米颗粒表面修饰的装置和方法
CN106432779A (zh) * 2016-11-30 2017-02-22 深圳优普莱等离子体技术有限公司 一种微波等离子体粉体处理装置
CN206596282U (zh) * 2017-03-03 2017-10-27 深圳优普莱等离子体技术有限公司 一种微波等离子体粉体处理装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201301341Y (zh) * 2008-11-04 2009-09-02 乐培界 一种微波等离子体实验装置
CN103846111A (zh) * 2012-11-30 2014-06-11 神华集团有限责任公司 一种粉体或颗粒等离子体处理装置
CN104046958A (zh) * 2014-06-06 2014-09-17 华中科技大学 一种用于微纳米颗粒表面修饰的装置和方法
CN106432779A (zh) * 2016-11-30 2017-02-22 深圳优普莱等离子体技术有限公司 一种微波等离子体粉体处理装置
CN206596282U (zh) * 2017-03-03 2017-10-27 深圳优普莱等离子体技术有限公司 一种微波等离子体粉体处理装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107572508A (zh) * 2017-10-12 2018-01-12 北京大学 生产石墨烯粉体的设备
CN110010436A (zh) * 2019-04-24 2019-07-12 南京奥依菲光电科技有限公司 等离子体流化床粉体处理装置
CN110010436B (zh) * 2019-04-24 2024-05-14 南京奥依菲光电科技有限公司 等离子体流化床粉体处理装置
CN111715162A (zh) * 2020-06-24 2020-09-29 深圳优普莱等离子体技术有限公司 一种大功率微波等离子体粉体处理器
CN116745253A (zh) * 2021-01-26 2023-09-12 杰富意钢铁株式会社 等离子体处理方法、等离子体处理六方氮化硼粉末的制造方法以及等离子体处理装置
CN114506827A (zh) * 2022-01-28 2022-05-17 中国人民解放军火箭军工程大学 一种鸡毛掸子状六方氮化硼微纳米管片复合结构的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN106658934B (zh) 2023-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106658934A (zh) 一种微波等离子体粉体处理装置
CN206595225U (zh) 一种微波等离子体粉体处理器
JP4393844B2 (ja) プラズマ成膜装置及びプラズマ成膜方法
CN103670333B (zh) 注水井井口高压射流加药方法及其加药装置
KR101327715B1 (ko) 진공 배기 장치 및 진공 배기 방법, 그리고 기판 처리 장치
EP0615473B1 (en) Method and device for removing one or more contaminations from a bulk material
US7232502B2 (en) Sheet-fed treating device
CN106432779A (zh) 一种微波等离子体粉体处理装置
CN206596282U (zh) 一种微波等离子体粉体处理装置
CN208839891U (zh) 催化剂浆液涂覆装置
CN101528363A (zh) 具有错置的降压及增压回路的容器等离子处理机
KR970067539A (ko) 기판처리장치
CN110566491A (zh) 空气悬浮鼓风机的自动控制系统
CN212441165U (zh) 一种大功率微波等离子体粉体处理装置
CN107744712A (zh) 一种钢铁铸造车间粉尘处理装置
JPH1176740A (ja) 有機フッ素系排ガスの分解処理方法及び分解処理装置
CN108452548B (zh) 回收易燃易爆高粘度聚合物废料中有机溶剂的装置及方法
JPH0261068A (ja) 縦型熱処理装置
CN218188516U (zh) 一种焙烧多功能天车粉尘回收装置
CN206481488U (zh) 一种新型微波等离子体处理装置
CN109289628A (zh) 一种钕铁硼粉末防氧化暂存装置
CN114893957A (zh) 一种超高真空除气干燥的方法及系统
CN215964235U (zh) 一种处理粘稠物料的喷枪
CN216972643U (zh) 一种铝溶液真空除气装置
CN219649638U (zh) 一种喷砂控制装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant