CN106584658B - 一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法 - Google Patents

Abstract

本发明一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，所述方法采用两个设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸、两个釉泵、淋釉钟罩、淋釉斗组成闭路釉浆循环系统，在整个釉浆循环系统中，釉浆始终处于降温、循环流动、过筛处理的节奏中，很好的解决了淋釉过程出现的釉浆触变、釉浆液面结皮、釉浆不均匀等问题，同时可滤掉一些大的杂质颗粒，主釉缸釉浆液面稳定，对整个淋釉系统起到稳定的基石作用，本发明一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法很好的保持了砖坯整个淋釉过程的稳定。

Description

一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法

技术领域

本发明涉及在陶瓷生产中一种淋釉方法，尤其是一种可以保持釉浆恒温、淋釉过程稳定的方法。

背景技术

目前，在陶瓷生产中，淋釉看起来是一道比较简单的工序，但又是比较容易出错的工序，很多瓷砖釉面缺陷都是淋釉引起，像釉面波纹、不平、针孔、釉泡、釉粉等缺陷，淋釉引起的缺陷在瓷砖缺陷降级中占有很大比例。目前，淋釉过程主要采用单釉缸淋釉方式，一个釉缸、一个釉泵，釉泵抽釉输送到釉斗，釉斗的釉一部分向下流向淋釉钟罩，经淋釉钟罩呈帘幕状淋在砖面上，另一部分经回釉管流回釉缸(釉泵输釉流量大于釉斗向下流量)，淋釉钟罩帘幕淋釉一部分淋在砖面一部分经集釉斗收集流回到釉缸，釉缸、釉泵、釉斗、淋釉钟罩、集釉斗在釉泵与输釉管联接下组成一个循环系统。此循环系统在生产过程中存在很多缺陷，

1、釉缸中釉浆在釉泵的搅拌过程会存在分层差异，釉缸下层的釉浆搅拌速度较快流动性好，上层流动性慢时会出现触变现象，上层釉浆呈固体果冻状态，搅动一下又成釉浆。触变现象不去处理时间一长随着表层水份的蒸发表层会形成一层釉皮，此釉皮水份含量减少，经搅拌不能返回成釉浆，时间越长釉皮会越厚。釉皮块或颗粒淋在砖面，砖会形成釉团釉泡等缺陷。釉缸中釉的触变同时也导致釉浆的不均匀，釉浆的不均匀淋釉烧成后会出现产品颜色不稳定。

2、釉缸中的釉浆在使用过程中，釉浆液位会逐步下降，下降到一定位置又添加新釉料，液位又回升，整个淋釉工序釉缸中的釉浆液位处于一个上下下上的变化过程，这对于稳定淋釉十分不利，釉浆液位的高低会影响釉泵抽釉的压力，从而影响输釉量的变化，输釉量的变化也就是整个循环系统的变化。当釉浆液位低于或平行釉泵泄流孔时，釉浆从釉泵泄流孔流出速度快很容易飞浅出来，同时釉浆很容易产生气泡，泄流孔失去外压流量加大，相对向上输釉量就会减小，这对淋釉是十分不利。

3、釉浆粘性大，易沉淀、同色与均匀性要求高，釉泵在釉缸中需要不断搅拌，搅拌叶片旋转摩擦产生大量热量，导致釉浆温度升高，釉浆温度高会引起釉浆性能变差，釉浆会变粘，釉浆水分蒸发加快，淋釉釉量不稳定等问题。

发明内容

为了克服目前淋釉的缺点：本发明提供一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其特征在于：所述方法采用两个设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸、两个釉泵、淋釉钟罩、淋釉斗组成闭路釉浆循环系统，釉浆始终处于降温、循环流动、过筛处理的循环状态。

本发明方法采用如下技术方案：

首先，本发明采用了一种组合淋釉装置，包含主釉缸，主釉缸釉泵，主釉泵输釉管，淋釉斗，回釉管，淋釉钟罩，集釉管，主釉缸釉泵具有第一泄流孔，集釉管上连接一集釉斗，其改进在于，还包含：一副釉缸及与之配合的副釉缸釉泵，副釉缸釉泵具有第二泄流孔；一副釉泵输釉管，其入口端设置于副釉缸内，出口端延伸至主釉缸；所述副釉缸内的釉浆通过副釉缸釉泵及副釉泵输釉管输送入至主釉缸内；一溢流管，其入口端设置于主釉缸的靠近顶部位置，出口端延伸至副釉缸，主釉缸内釉浆通过溢流管回流至副釉缸；所述回釉管延伸至副釉缸；所述集釉管延伸至副釉缸。

其中，所述主釉缸和副釉缸均为包含釉缸外壁和釉缸内壁的双层结构；所述釉缸外壁和釉缸内壁之间设置有镙旋形分隔层并形成有镙旋形冷却液通道；所述镙旋形冷却液通道的入口设在釉缸缸体底部外壁上，出口设在釉缸缸体外壁上部与外界相通。

其中，所述主釉缸设置有第一过筛网，所述副釉泵输釉管的出口端与之相对；所述副釉缸设置有第二过筛网和第三过筛网，所述溢流管的出口端与第二过筛网相对，所述回釉管和集釉管的出口端与之相对。

其中，所述主釉缸和副釉缸底部均设有底部固定凹口，该底部固定凹口呈圆形分散布置，底部固定凹口尺寸大于釉泵支撑脚面大小。

此外，本发明提供一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其改进在于：

将釉浆加入副釉缸，釉浆液位第二泄流孔时，启动副釉缸釉泵，使得釉浆处于搅拌状态；

当釉浆液位接近溢流管时，打开副釉泵输釉管上的阀门，让釉浆经副釉泵输釉管输送到主釉缸第一过筛网过筛流到主釉缸；

持续往副釉缸添加釉浆，到主釉缸的釉浆从溢流管顺畅回流到副釉缸第二过筛网过筛流回副釉缸，调节副釉泵输釉管上的阀门的开度，使副釉泵输釉管输釉流量小于溢流管的最大可流出量；

接通主釉缸釉泵的电源，釉泵叶片旋转，让主釉缸中的釉浆处于搅拌状态；

打开主釉缸输釉管上的阀门，让釉浆输送到淋釉斗，当淋釉斗上的回釉管有釉浆流出时，打开淋釉斗下部阀门，让釉浆流下到淋釉钟罩形成釉浆帘幕。

实时调整主釉缸输釉管上的阀门使得淋釉斗的液位处于回釉溢流孔内高度的20-50％。

实时调整副釉泵输釉管上的阀门开度主釉缸中的釉浆液位要处于溢流口内高度的20-50％。

所述副釉缸向主釉缸输送流量要大于主釉缸向淋釉斗的输送流量，多的部分经溢流管流回副釉缸。

所述主釉缸向淋釉斗输送釉浆量要大于淋釉斗向淋釉钟罩输送釉量，多的部分经回釉管流回副釉缸。

所述淋釉钟罩形成釉浆帘幕，砖坯在皮带的输送下在釉浆帘幕下通过，釉浆淋于砖坯面上，多余的釉浆经集釉斗收集流回副釉缸。

上述技术方案主、副两个设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸，主釉缸釉泵抽釉至淋釉斗，淋釉斗釉桨一部分向下流到淋釉钟罩淋釉到砖坯上，向下流量由淋釉斗阀门控制，溢多的一部分釉桨经回釉管回流到副釉缸过筛网过筛流回副釉缸；淋釉钟罩流下的多余釉料经集釉斗收集也回流到副釉缸过筛网过筛流回副釉缸。副釉缸釉泵把副釉缸的釉浆经副釉泵输釉管输送到主釉缸过筛网过筛，过筛后的釉浆流到主釉缸。主釉缸、淋釉斗、淋釉钟罩、副釉缸形成一个闭路的釉浆循环系统。这里主釉缸釉泵输送流量要大于淋釉斗向下流量，副釉缸釉泵向主釉缸输送流量要大于主釉缸釉泵向釉斗输送流量。

所述方法采用两个设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸，主釉缸放置位置高度高于副釉缸位置，高度以主釉缸溢流管釉浆能顺畅流向副釉缸过筛网为优选,副釉缸釉泵把副釉缸的釉浆经副釉泵输釉管输送到主釉缸过筛网过筛，过筛后的釉浆流到主釉缸；副釉缸釉泵向主釉缸输送流量要大于主釉缸釉泵向釉斗输送流量。主釉缸随釉浆的输入釉浆液面上升，上升至溢出口时，釉浆经溢流管流向副釉缸过筛网过筛流回副釉缸，主釉缸与副釉缸之间组成一个小循环系统。此小循环系统可以很好的解决釉浆的触变问题，釉浆触变原因是缺乏流动，主釉缸釉浆在釉缸中搅拌，上层流动慢的釉浆经溢流管流向副釉缸过筛网过筛流回副釉缸，副釉缸搅拌好的釉浆过筛后补充回主釉缸，这样就能保证主釉缸中上下层釉浆都处于循环状态，以解决釉浆触变问题，主釉缸釉浆在溢流管的溢流作用下，釉浆液面可以保持稳定，主釉缸釉泵对釉浆抽压就稳定，主釉缸釉泵对釉浆抽压稳定对整个淋釉系统起到稳定的基石作用。主釉缸对外界落下的有机杂质和少量釉皮，可随上层釉浆经溢流管流到副釉缸过筛网过筛除去，副釉缸输送到主釉缸的釉也经过过筛处理，这样可以保证主釉缸釉浆干净液面稳定，对后续淋釉提供保证！釉斗溢多的一部分回釉与淋釉钟罩流下的多余釉料都经过筛处理后流回副釉缸，副釉缸有三处回釉口、一处抽釉口可以保证其釉浆的搅拌的均匀性。随着生产的进行，主釉缸釉浆液位可以保持不变，生产用去的釉浆会在副釉缸下降的釉液位体现出来，随着副釉缸液位的下降，可以往副釉缸中添加新的釉料，添加过程需经过筛处理，整个添加过程对主釉缸没有影响！

所述方法采用的釉缸为设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸，该釉缸的缸壁部分全部采用双层设计，内、外缸壁之间的冷却通道采用镙旋形分隔层分隔成镙旋形冷却通道，镙旋形分隔层呈镙旋状向上，把冷却通道分隔成镙旋形冷却通道，其上部不接触顶部，下部不接触底部，上下部距顶底部距离以3至8厘米为宜，这样可以保证整个镙旋形冷却通道冷却液都能进入。冷却液入口设置在釉缸底部，出口设置在釉缸体上部，其按装位可在同一侧也可分布在其它位置，优选按装在同一侧便于接冷却液。冷却液从底部入口进入沿镙旋形冷却通道呈镙旋形向上流动到顶部出口流出；冷却液沿镙旋形冷却通道呈镙旋形向上流动的过程中，充分与釉缸壁进行热交换，入口冷却液温度最低与底部釉缸温度最高首先热交换，再向上流动。冷却液的流动过程中与釉缸内壁充分进行热交换，带走搅拌叶片旋转摩擦产生的大量热量，维持釉浆温度的恒温。

该釉缸的缸体顶部偏下位置开设溢流孔，溢流孔的位置距离釉缸顶部3至8厘米为宜，溢流孔在釉浆添加过多时流出多余的釉浆，避免釉浆从缸体顶部漫出，在循环淋釉系统中，溢流孔可维持釉缸釉浆液面的稳定。该釉缸缸体内底部设有底部固定凹口，底部固定凹口呈圆形每隔40度角分散布置，底部固定凹口尺寸略大于釉泵支撑脚面大小。釉泵放入釉缸中，旋转釉泵使釉泵3支撑脚卡入底部固定凹口从而固定釉泵的位置。以解决釉泵在叶片旋转过程中导致的釉泵位置偏移。

本发明方法的有益效果：本发明方法采用两个设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸、两个釉泵、淋釉钟罩、淋釉斗组成闭路釉浆循环系统，主釉缸与副釉缸之间组成一个小循环系统。主釉缸与副釉缸组成的小循环系统利用釉浆的循环流动解决了釉浆的触变性问题，同时利用循环流动保持了主釉缸的液面稳定。本发明方法加强了三道过筛关口保证了釉浆的干净，釉缸采用了设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸，解决了搅拌叶片旋转摩擦产生大量热量导致釉浆温度升高的问题。釉缸设有底部固定凹口可以固定釉泵的位置以解决釉泵在叶片旋转过程中导致的釉泵位置偏移。本发明一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法很好的保持了瓷砖整个淋釉过程的稳定，解决了釉浆在淋釉过程出现的釉浆触变、结皮、受污染、温度高等问题。

附图说明

图1为本发明的工作结构示意图。

图2为本发明所述设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸的剖面图。

图3为本发明所述设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸的俯视图。

图4为本发明所述设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸的侧视图。

【图号说明】

1、砖坯 2、皮带 3、主釉缸釉泵

4-1、第一过筛网 4-2、第二过筛网 4-3、第三过筛网

5、主釉缸 6、釉缸冷却液出口 7、釉缸冷却液入口

8、釉泵泄流孔 9、釉浆 10釉泵叶片

11、溢流管 12、副釉缸 13、副釉泵输釉管

14、集釉管 15、集釉斗 16、副釉缸釉泵

17、淋釉钟罩 18、回釉管 19、淋釉斗

20、主釉泵输釉管 21、阀门

22、釉缸外壁 23、镙旋形冷却液通道 24、釉缸内壁

25、底部固定凹口 26、镙旋形分隔层。

具体实施方式

如图1至图4所示，其公开一种组合淋釉装置，包含主釉缸5，主釉缸釉泵3，主釉泵输釉管20，淋釉斗19，回釉管18，淋釉钟罩17，集釉管14，主釉缸釉泵3具有第一泄流孔8-1，集釉管14上连接一集釉斗15，本方案的重点改进在于，还包含副釉缸12及与之配合的副釉缸釉泵16，副釉缸釉泵16具有第二泄流孔8-2；包含副釉泵输釉管13，其入口端设置于副釉缸12内，出口端延伸至主釉缸5。副釉缸12内的釉浆9通过副釉缸釉泵16及副釉泵输釉管13输送入至主釉缸5内。包含溢流管11，其入口端设置于主釉缸5的靠近顶部位置，出口端延伸至副釉缸12，主釉缸5内釉浆9通过溢流管11回流至副釉缸12；回釉管18延伸至副釉缸12；所述集釉管14延伸至副釉缸12。所述主釉缸5和副釉缸12均为包含釉缸外壁22和釉缸内壁24的双层结构，釉缸外壁22和釉缸内壁24之间设置有镙旋形分隔层26并形成有镙旋形冷却液通道23；所述镙旋形冷却液通道23的入口7设在釉缸缸体底部外壁上，出口6设在釉缸缸体外壁上部与外界相通。所述主釉缸5设置有第一过筛网4-1，所述副釉泵输釉管13的出口端与之相对；所述副釉缸12设置有第二过筛网4-2和第三过筛网4-3，所述溢流管11的出口端与第二过筛网4-2相对，所述回釉管18和集釉管14的出口端与之相对。所述主釉缸5和副釉缸12底部均设有底部固定凹口25，该底部固定凹口25呈圆形分散布置，底部固定凹口尺寸大于釉泵支撑脚面大小。

工作前，把整个淋釉系统清洗干净，包括釉缸、釉泵、淋釉斗、淋釉钟罩、皮带、集釉斗以及各输釉管道。把主釉缸5、副釉缸12放平放稳，主釉缸5放置的高度要高于副釉缸12，高度以主釉缸5的溢流管11中的釉浆能顺畅流向副釉缸12第二过筛网为优选。把主釉缸釉泵3放入主釉缸5中，轻轻旋转釉泵，使釉泵支撑脚卡入底部固定凹口25以固定釉泵位置；同样把副釉缸釉泵16放入副釉缸12，轻轻旋转釉泵，使釉泵支撑脚卡入底部固定凹口25以固定釉泵位置。联接好各输釉管道，安装好过筛网并关闭各阀门21，把釉浆添加入副釉缸12，加入过程需过筛处理，加至釉浆液位超过副釉缸的釉泵第一泄流孔8-1位以上时，接通副釉缸釉泵16的电源让副釉缸中的釉浆处于搅拌状态，继续添加釉浆至液位接近溢流管。打开副釉泵输釉管13上的阀门，让釉经副釉泵输釉管13输送到主釉缸第一过筛网4-1过筛流到主釉缸，持续往副釉缸12添加釉浆，到主釉缸的釉浆9可以从溢流管11顺畅回流到副釉缸过筛网过筛流回副釉缸12，调节副釉泵输釉管13上的阀门21的开度，使副釉泵输釉管13输釉流量小于溢流管11的最大可流出量。接通主釉缸釉泵16的电源，釉泵叶片10旋转，让主釉缸中的釉浆9处于搅拌状态。

将主副釉缸冷却液入口7和釉缸冷却液出口6分别与辅助的冷却装置连接，主釉泵接通电源同时启动冷却装置；冷却液经冷却液入口7流入，经镙旋形冷却液通道23镙旋形往上流动，流动的过程充分与釉缸内壁24进行热交换，把釉泵叶片10搅拌釉浆摩擦产生的热量交换到冷却液，冷却液经釉缸冷却液出口6流出，调节冷却液的温度与流速可调节对釉缸的冷却速度，冷却液的流动带走热量可维持釉缸中釉浆的恒温并保持在较低的温度。

打开主釉缸输釉管20上的阀门，让釉输送到淋釉斗19，淋釉斗19中釉浆液面上升，到淋釉斗19上的回釉管有釉流出时，打开淋釉斗19下部阀门，让釉浆流下到淋釉钟罩17形成釉浆帘幕，釉浆帘幕两边用毛巾阻挡。这里要注意控制主釉泵的输釉流量，输釉流量大于淋釉斗19向下流量与回釉流量之和时，釉浆会从淋釉斗19顶部漫出，输釉流量等于或小于淋釉斗19向下流量时，无法保证淋釉斗19中釉浆液面的稳定，淋釉斗19中釉浆液面的不稳定，淋在砖坯1上釉量就不稳定。此处控制点为，控制淋釉斗19下部阀门，让釉浆流下到淋釉钟罩17，使釉浆在淋釉钟罩17上形成稳定的釉浆帘幕，并检查釉浆的帘幕的均匀性，消除釉浆帘幕的波纹；检查回釉管是否还有稳定回釉流出，也可察看淋釉斗19中釉浆液位，液位处于回釉溢流孔内高度的20-50％为佳，如不在最佳位可调节主釉缸输釉管上的阀门21调整输釉量。

启动皮带电机，让皮带处于运转状态，用砖坯或铁盘测试淋釉量，调整淋釉量至符合工艺要求，所测淋釉量与工艺要求相差较大时调整淋釉斗19下部阀门开度，所测淋釉量与工艺要求相差不是很远时，调节皮带转速调整。调整淋釉斗19下部阀门时，要保证釉浆帘幕的均匀性与稳定性，调好施釉量后，要检查回釉管18是否还有稳定回釉流出，有正常，没有说明主釉缸釉泵的输釉流量小了，调节主釉缸输釉管上的阀门21开度适当增加输釉量，使淋釉斗内的液位正常，再重新调整施釉量到符合工艺要求，如主釉缸输釉管上的阀门21开到最大依然无法满足要求时需要更换釉泵，换输釉量更大的釉泵。

调好施釉量后重新检查主釉缸5中的釉浆9液位，主釉缸5中的釉浆液位要处于溢流口内高度的20-50％为佳，主釉缸中釉浆9要有部分稳定流回副釉缸。如液位不对可调整副釉泵输釉管13上的阀门开度，调整副釉缸12输送到主釉缸5的输釉量，使主釉缸的液位达到要求。

副釉缸12向主釉缸5输送釉浆，主釉缸5向淋釉斗19输送釉浆；副釉缸向主釉缸输送流量要大于主釉缸向淋釉斗的输送流量，多的部分经溢流管11流回副釉缸12；主釉缸与副釉缸之间有一个小循环，小循环让釉缸中的釉浆处于流动循环状态，以解决釉缸中釉浆出现触变问题，并可滤除液面有机杂与少量釉皮，同时保持主釉缸釉浆液面稳定。主釉缸5向淋釉斗19输送釉浆，淋釉斗19向淋釉钟罩17送釉，主釉缸5向淋釉斗19输送釉浆量要大于淋釉斗19向淋釉钟罩17输送釉量，多的部分经回釉管18流回副釉缸12；淋釉钟罩17形成釉浆帘幕，砖坯在皮带的输送下在釉浆帘幕下通过，釉浆淋于砖坯面上，多余的釉浆经集釉斗15收集流回副釉缸12流回副釉缸12的釉浆都需经过筛处理。

主釉缸5、副釉缸12、淋釉斗19、淋釉钟罩17在釉泵与输釉管的串联下形成一个大的循环系统。在这个循环系统中主釉缸5、淋釉斗19釉浆液位可以保持不变，生产时砖坯1淋釉消耗的釉浆会在副釉缸12下降的釉液位上体现出来，随着副釉缸12液位的下降，可以往副釉缸12中添加新的釉料，添加过程需经过筛处理，整个添加过程对主釉缸和淋釉系统没有影响。主副釉缸都采用设有镙旋形冷却通道的恒温釉缸，冷却液在镙旋形冷却液通道23中流动带走热量维持釉缸中的釉浆温度恒定，釉浆温度恒定与主釉缸、淋釉斗液面稳定可以充份保证钟罩淋釉状态的稳定，保证淋釉质量。在整个釉浆循环系统中，釉浆始终处于降温、循环流动、过筛处理的节奏中，很好的解决了淋釉过程出现的釉浆触变、釉浆液面结皮、釉浆不均匀等问题，同时可滤掉一些大的杂质颗粒，淋釉状态的稳定使淋釉质量大大提高，减少了因淋釉产生的产品降级。

Claims (10)

1.一种组合淋釉装置，包含主釉缸(5)，主釉缸釉泵(3)，主釉泵输釉管(20)，淋釉斗(19)，回釉管(18)，淋釉钟罩(17)，集釉管(14)，主釉缸釉泵(3)具有第一泄流孔(8-1)，集釉管(14)上连接一集釉斗(15)，其特征在于，还包含：

一副釉缸(12)及与之配合的副釉缸釉泵(16)，副釉缸釉泵(16)具有第二泄流孔(8-2)；

一副釉泵输釉管(13)，其入口端设置于副釉缸(12)内，出口端延伸至主釉缸(5)；

所述副釉缸(12)内的釉浆(9)通过副釉缸釉泵(16)及副釉泵输釉管(13)输送入至主釉缸(5)内；

一溢流管(11)，其入口端设置于主釉缸(5)的靠近顶部位置，出口端延伸至副釉缸(12)，主釉缸(5)内釉浆(9)通过溢流管(11)回流至副釉缸(12)；

所述回釉管(18)延伸至副釉缸(12)；

所述集釉管(14)延伸至副釉缸(12)。

2.如权利要求1所述的组合淋釉装置，其特征在于：

所述主釉缸(5)和副釉缸(12)均为包含釉缸外壁(22)和釉缸内壁(24)的双层结构；

所述釉缸外壁(22)和釉缸内壁(24)之间设置有镙旋形分隔层(26)并形成有镙旋形冷却液通道(23)；

所述镙旋形冷却液通道(23)的入口(7)设在釉缸缸体底部外壁上，出口(6)设在釉缸缸体外壁上部与外界相通。

3.如权利要求2所述的组合淋釉装置，其特征在于：

所述主釉缸(5)设置有第一过筛网(4-1)，所述副釉泵输釉管(13)的出口端与之相对；

所述副釉缸(12)设置有第二过筛网(4-2)和第三过筛网(4-3)，所述溢流管(11)的出口端与第二过筛网(4-2)相对，所述回釉管(18)和集釉管(14)的出口端与第三过筛网(4-3)相对。

4.如权利要求2所述的组合淋釉装置，其特征在于：

所述主釉缸(5)和副釉缸(12)底部均设有底部固定凹口(25)，该底部固定凹口(25)呈圆形分散布置，底部固定凹口尺寸大于釉泵支撑脚面大小。

5.一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，使用权利要求1至4中任一项中所述的组合淋釉装置，其特征在于：

将釉浆(9)加入副釉缸(12)，釉浆(9)液位第二泄流孔(8-2)时，启动副釉缸釉泵(16)，使得釉浆处于搅拌状态；

当釉浆液位接近溢流管时，打开副釉泵输釉管(13)上的阀门，让釉浆经副釉泵输釉管(13)输送到主釉缸第一过筛网(4-1)过筛流到主釉缸；

持续往副釉缸(12)添加釉浆，到主釉缸的釉浆(9)从溢流管(11)顺畅回流到副釉缸第二过筛网(4-2)过筛流回副釉缸(12)，调节副釉泵输釉管(13)上的阀门的开度，使副釉泵输釉管(13)输釉流量小于溢流管(11)的最大可流出量；

接通主釉缸釉泵(16)的电源，釉泵叶片(10)旋转，让主釉缸中的釉浆(9)处于搅拌状态；

打开主釉缸输釉管(20)上的阀门，让釉浆(9)输送到淋釉斗(19)，当淋釉斗(19)上的回釉管(18)有釉浆流出时，打开淋釉斗(19)下部阀门，让釉浆流下到淋釉钟罩(17)形成釉浆帘幕。

6.如权利要求5所述的淋釉方法，其特征在于：实时调整主釉缸输釉管(20)上的阀门使得淋釉斗(19)的液位处于回釉溢流孔内高度的20-50％。

7.如权利要求6所述的淋釉方法，其特征在于：实时调整副釉泵输釉管(13)上的阀门开度主釉缸(5)中的釉浆液位要处于溢流口内高度的20-50％。

8.如权利要求7所述的淋釉方法，其特征在于：所述副釉缸向主釉缸输送流量要大于主釉缸向淋釉斗的输送流量，多的部分经溢流管(11)流回副釉缸(12)。

9.如权利要求8所述的淋釉方法，其特征在于：所述主釉缸(5)向淋釉斗(19)输送釉浆量要大于淋釉斗(19)向淋釉钟罩(17)输送釉量，多的部分经回釉管(18)流回副釉缸(12)。

10.如权利要求9所述的淋釉方法，其特征在于：所述淋釉钟罩(17)形成釉浆帘幕，砖坯在皮带的输送下在釉浆帘幕下通过，釉浆淋于砖坯面上，多余的釉浆经集釉斗(15)收集流回副釉缸(12)。