CN106574215B - 甲基全氟庚烯醚、1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟戊烷和反-1,2-二氯乙烯的组合物及其用途 - Google Patents
甲基全氟庚烯醚、1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟戊烷和反-1,2-二氯乙烯的组合物及其用途 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106574215B CN106574215B CN201580037657.8A CN201580037657A CN106574215B CN 106574215 B CN106574215 B CN 106574215B CN 201580037657 A CN201580037657 A CN 201580037657A CN 106574215 B CN106574215 B CN 106574215B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- composition
- weight
- method described
- product
- trans
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5036—Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
- C11D7/504—Azeotropic mixtures containing halogenated solvents all solvents being halogenated hydrocarbons
- C11D7/5063—Halogenated hydrocarbons containing heteroatoms, e.g. fluoro alcohols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/24—Organic compounds containing halogen
- C11D3/245—Organic compounds containing halogen containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/43—Solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/28—Organic compounds containing halogen
- C11D7/30—Halogenated hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02806—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing only chlorine as halogen atom
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/42—Stripping or agents therefor
- G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
- G03F7/426—Stripping or agents therefor using liquids only containing organic halogen compounds; containing organic sulfonic acids or salts thereof; containing sulfoxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
本文公开了包含90至99重量%的反‑1,2‑二氯乙烯、0.1至8重量%的甲基全氟庚烯醚和0.1至2.0重量%的1,1,1,2,2,3,4,5,5,5‑十氟戊烷的组合物,其中所述组合物不可燃。本公开还提供从制品表面除去残留物的方法,包括:(a)使所述制品与包含MPHE、HFC‑4310mee和反‑1,2‑二氯乙烯的组合物的组合物接触;以及(b)从所述组合物中回收所述表面。
Description
发明背景
发明领域
本公开属于甲基全氟庚烯醚组合物领域。这些组合物是零ODP、低 GWP组合物,可作为去焊剂用于精密清洁应用,以及用于从表面上除去油或残留物。
相关技术描述
现代工业中广泛需要精密清洁。从印刷电路板制造到制表业,各种不同的工业都需要标准严苛的清洁,以确保终产品提供可靠、无故障的性能。多种工业,包括航天、运输、通讯和数据处理工业,都使用关键电子器件和电路板,它们的故障可能是灾难性的。用于这些系统的印刷电路板 (PCB)在使用前必须用溶剂清洁,以除去在PCB制造工艺中引入的焊剂和其他污垢。用于半导体工业的产品需要精密清洁,以满足严苛的性能标准。航空工业需要对着陆装置进行精密清洁,以消除由于残留的水造成的着陆装置部件的破裂。珠宝和制表工业需要美观、无污渍、没有任何污垢的终产品。从手术针到人工心脏瓣膜,医疗设备必须得到标准严苛的清洁,以防止感染和疾病传播。汽车工业需要精密清洁关键部件,例如喷油器、ABS刹车、压缩机、继电器、传感器和开关。对于光学部件包括光学组件、镜头、光纤和平板显示器的无污渍清洁也需要溶剂。
精密溶剂理想地应是不可燃、低毒性的,以提供使用安全性。也需要除去污垢时的高溶剂效力。溶剂效力通常用贝壳杉脂丁醇(KB)值表示,它反映了溶剂溶解重烃油脂的能力-KB值越高,溶剂的效力越高。
在20世纪70年代早期,精密清洁最常用的溶剂是三氯乙烯(TCE)。但是,由于与水和大地污染相关的环境问题,从20世纪70年代晚期开始, TCE在许多应用中被基于氟的溶剂CFC-113代替。TCE在国内和国外都继续面临越来越多的管控,并且它还是一种潜在致癌物。但是,CFC-113是会促成平流层臭氧破坏的溶剂,其特征在于具有巨大的臭氧消耗潜力(ODP值)。因此,根据1987年蒙特利尔议定书的规定,CFC-113已因其臭氧消耗特性而被禁用。禁用CFC-113之后,开发了具有低但并非零ODP 的溶剂,包括HCFC-141b和HCFC-225。但是,这些溶剂由于其臭氧消耗性质而被计划在不久的将来逐步禁用。最近开发出了零ODP溶剂,包括氢氟碳化物(HFC)和氢氟醚(HFE)。尽管这些化合物不会促成臭氧消耗,但它们具有中度全球增温潜势(GWP)的特征,被归类为温室气体(GHG),即在一定程度上促进全球变暖/气候变化的气体。在被证明可用于精密溶剂应用的 HFC中,包括1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-十氟戊烷(HFC-43-10mee),商品名为 Vertrel XF。美国专利5,196,137中描述了包含约58-68重量%的 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-十氟戊烷(HFC-43-10mee)和约32-42重量%的反-1,2-二氯乙烯的共沸组合物。
美国专利8,410,039中公开了包含0.4至29重量%的MPHE和反-1,2-二氯乙烯的共沸组合物。包含13.5重量%的MPHE和86.5重量%的反-1,2-二氯乙烯的组合物并非充分不可燃,不能用于某些溶剂清洁应用。当根据 ASTM D56-05测试此类组合物的闪点时,它们在多个重复中测试时表现出了一些闪光,说明其在某些条件下可能有一定的可燃性。
显然需要不仅具有低毒性和高溶解力特征,还具有零ODP和低GWP 特征的精密溶剂。甚至更期望的是还不可燃的溶剂。
本公开提供零ODP、低GWP组合物,可用于精密清洁应用,例如半导体芯片和电路板清洁、去焊和脱脂工艺。本组合物还具有高溶解能力和低毒性的特征。
发明内容
本公开提供零ODP、低GWP组合物,包含(a)0.1至8重量%的甲基全氟庚烯醚(MPHE)、0.1至2.0重量%的1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟戊烷(HFC-43- 10mee)和90至99重量%的反-1,2-二氯乙烯,其中所述组合物是不可燃的。本公开还提供从制品表面除去残留物的方法,包括:(a)使所述制品与包含 MPHE、HFC-4310mee和反-1,2-二氯乙烯的组合物的组合物接触;以及(b)从所述组合物中回收(recovering)所述表面。
具体实施方式
本文描述的是甲基全氟庚烯醚(MPHE)、反-1,2-二氯乙烯和HFC-43- 10mee的组合物。MPHE在美国专利8,399,713中有所描述。本文还描述了使用本发明的包含MPHE、反-1,2-二氯乙烯和HFC-43-10mee的组合物的新方法。上述组合物在溶剂应用中展示出优良的清洁效果,并且按照ASTM D56-05(2010)测试时未显示闪点。
美国专利8,410,039中公开了包含0.4至29重量%的MPHE和反-1,2-二氯乙烯的共沸组合物。包含13.5重量%的MPHE和86.5重量%的反-1,2-二氯乙烯的组合物并非充分不可燃,不能用于某些溶剂清洁应用。
如本文所用,术语“包含”、“包括”、“具有”或它们的任何其他变型均旨在涵盖非排他性的包括。例如,包括要素列表的工艺、方法、制品或设备不必仅限于那些要素,而是可以包括未明确列出的或此类工艺、方法、制品或设备所固有的其他要素。此外,除非明确规定相反的意思,否则“或”是指包含性的而非排他性的“或”。例如,下列任一种情况都表示条件A或B 得到满足:A为真(或存在A)且B为假(或不存在B),A为假(或不存在A)且B为真(或存在B),A和B都为真(或既存在A,又存在 B)。如本文所用,术语“基本上由...组成”旨在涵盖包含所述材料以及不影响受权利要求书保护的组合物的基本特征和新颖特征的其他组分的组合物。
连接短语“由...组成”不包括任何没有指定的元素、步骤或成分。如果是在权利要求中,此类词限制权利要求,以不包含除了通常与之伴随的杂质以外不是所述那些的材料。当短语“由...组成”出现在权利要求正文的条款中,而不是紧接在前序之后时,该短语限定只在该条款中列出的要素;其他要素不排除于作为整体的权利要求。
连接短语“基本上由...组成”用于限定所述组合物、方法或设备除了字面公开的那些以外,还包括物质、步骤、部件、组分或元素,前提条件是,这些附加包含的物质、步骤、部件、组分或元素不会实质上影响受权利要求书保护的本发明的基本特征和新颖特征。术语“基本上由...组成”居于“包含”和“由...组成”的中间。
而且,采用“一个”或“一种”来描述本文所述的要素和组件。这样做只是为了方便,并给出本发明范围的一般意义。除非意思明显相反,否则该描述应当理解为包括一个/种或至少一个/种,并且单数也包括复数的意思。
除非另外规定,否则本文所用的全部科技术语的含义都与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的一致。尽管与本文描述的方法和材料类似或等同的方法和材料也可用于实践或测试本公开的实施例,但下文描述了合适的方法和材料。除非引用具体段落,否则本文提及的全部出版物、专利申请、专利以及其他参考文献均以全文引用方式并入本文。如发生矛盾,以本说明书及其包括的定义为准。此外,描述的材料、方法和实例只是示例性的,而非限制性的。
上文已描述了许多方面和实施例,它们仅为示例性的,而非限制性的。在阅读完本说明书后,技术人员应认识到,在不脱离本发明范围的情况下,其他方面和实施例也是可能的。
如本文所用,共沸组合物是两种或更多种物质的恒沸液体混合物,其中混合物蒸馏而没有显著的组成变化并且表现为恒沸组合物。以共沸作为特征的恒沸组合物,与相同物质的非共沸混合物相比,其显示具有最高或最低的沸点。共沸组合物包括均相共沸物,均相共沸物是表现为单一物质的两种或更多种物质的液体混合物,即由液体的部分蒸发或蒸馏而产生的蒸气具有与所述液体相同的组成。如本文所用,共沸组合物还包括非均相共沸物,其中所述液相分流成两种或更多种液相。在这些实施例中,在共沸点时蒸气相与两种液相是平衡的,而且所有三相具有不同的组成。如果将非均相共沸物的两种平衡液相合并在一起,然后计算总液相的组成,那么其组成与蒸气相的组成是完全相同的。
如本文所用,术语“类共沸组合物”有时也被称为“近共沸组合物”,是指行为如同单一物质的两种或更多种物质的恒沸或基本上恒沸的液体混合物。表征类共沸组合物的一种方法是,由液体部分地蒸发或蒸馏产生的蒸气与由其蒸发或蒸馏产生蒸气的液体具有基本上相同的组成。即,所述混合物蒸馏或回流,而基本组成不变。或者,类共沸组合物可表征为沸点温度低于各个纯组分的沸点的组合物。
此外,表征类共沸组合物的另一种方法是,在具体温度下所述组合物的泡点压力和所述组合物的露点蒸气压基本上相同。近共沸组合物表现出几乎无压差的露点压力和泡点压力。因此,在给定温度下,露点压力和泡点压力之差是很小的值。可以说,露点压力和泡点压力之差小于或等于3% (基于泡点压力)的组合物被认为是近共沸的。
MPHE包含不饱和氟醚的异构混合物,其是全氟庚烯例如全氟-3-庚烯与甲醇在强碱存在下反应的产物。在一个实施例中,混合物包含以下化合物中一个或多个的混合物:CF3CF2CF=CFCF(OR)CF2CF3、 CF3CF2C(OR)=CFCF2CF2CF3、CF3CF=CFCF(OR)CF2CF2CF3和CF3CF2CF=C(OR)CF2CF2CF3;其中R=CH3。
含有13.5重量%的MPHE的包含MPHE和反式二氯乙烯的组合物可用于清洁应用。但是,在根据ASTM测试方法进行多次闪点测试时间断观察到的闪点促使本发明人寻找其他不可燃组合物。
本发明人发现,向MPHE和反式二氯乙烯的二元组合物中加入少量 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-十氟庚烷(HFC-43-10mee)会得到表现出恒定的沸腾性质和降低的可燃性的组合物。加入0.6重量%或更多(HFC-43-10mee)会得到在闭杯闪点测试中不显示可测量闪点的组合物。
在本发明的一个实施例中,组合物包含约90至99重量%的反-1,2-二氯乙烯、0.1至8重量%的MPHE以及0.1至2重量%的HFC-4310mee。在本发明的另一个实施例中,组合物包含约93至97重量%的反-1,2-二氯乙烯、 3至6重量%的MPHE以及0.1至2重量%的HFC-4310mee。在本发明的又一个实施例中,组合物包含95重量%的反-1,2-二氯乙烯、4.0至4.4重量%的MPHE以及0.6至1.0重量%的HFC-4310mee。
在本发明的一个实施例中,组合物基本上由约90至99重量%的反-1,2- 二氯乙烯、0.1至8重量%的MPHE以及0.1至2重量%的HFC-4310mee组成。在本发明的另一个实施例中,组合物基本上由约93至97重量%的反- 1,2-二氯乙烯、3至6重量%的MPHE以及0.1至2重量%的HFC-4310mee 组成。在本发明的又一个实施例中,组合物基本上由95重量%的反-1,2-二氯乙烯、4.0至4.4重量%的MPHE以及0.6至1.0重量%的HFC-4310mee 组成。
在一个实施例中,本发明的组合物可进一步包含抛射剂。气溶胶抛射剂可有助于将本发明的组合物以气溶胶形式从存储容器递送到表面上。气溶胶抛射剂任选地包含于本发明组合物中,其量占所述总组合物的至多约 25重量%。代表性气溶胶抛射剂包括空气、氮气、二氧化碳、2,3,3,3-四氟丙烯(HFO-1234yf)、反-1,3,3,3-四氟丙烯(HFO-1234ze)、1,2,3,3,3-五氟丙烯 (HFO-1225ye)、二氟甲烷(CF2H2,HFC-32)、三氟甲烷(CF-3H,HFC- 23)、二氟乙烷(CHF2CH3,HFC-152a)、三氟乙烷(CH3CF3,HFC- 143a;或CHF2CH2F,HFC-143)、四氟乙烷(CF3CH2F,HFC-134a;或 CF2HCF2H,HFC-134)、五氟乙烷(CF3CF2H,HFC-125)、1,1,1,2,3,3,3- 七氟丙烷(HFC-227ea)和烃类,例如丙烷、丁烷或戊烷、二甲基醚或其组合。
在另一个实施例中,本发明的组合物还可包含至少一种表面活性剂。本公开的表面活性剂包括本领域已知用于将基板脱水或干燥的所有表面活性剂。代表性的表面活性剂包括磷酸烷基酯胺盐(如2-乙基己胺和磷酸异辛酯的1∶1盐);乙氧基化醇、硫醇或烷基酚;磷酸烷基酯的季铵盐(铵或磷酸酯基团上具有氟代烷基);和氟化胺的磷酸-烷基酯或二烷基酯。其他氟化表面活性剂化合物描述于美国专利No.5,908,822中,所述文献以引用方式并入本文。
包含于本发明脱水组合物中的表面活性剂量可根据其中将使用所述组合物的具体干燥应用而广泛变化,但这对于本领域的技术人员而言是显而易见的。在一个实施例中,溶解于不饱和氟化醚溶剂中的表面活性剂量按所述表面活性剂/溶剂组合物的总重量计不大于约1重量%。在另一个实施例中,如果用所述组合物处理后可使用更大量的表面活性剂,则随后用不包含或包含极少表面活性剂的溶剂处理所干燥的基板。在一个实施例中,表面活性剂的量为至少约50份每一百万份(ppm,按重量计)。在另一个实施例中,表面活性剂的量为约100至约5000ppm。在另一个实施例中,表面活性剂的用量按所述脱水组合物的总重量计为约200至约2000ppm。
可任选地将其他添加剂包含于本发明组合物中,所述组合物包含用于脱水的溶剂和表面活性剂。此类添加剂包括具有抗静电特性的化合物;所述抗静电特性为使静电从非导电基板如玻璃和二氧化硅上消散的能力。在本发明的脱水组合物中需要使用抗静电添加剂,以防止将水或含水溶液从非导电性部件如玻璃镜头和镜片上干燥除去时产生斑点和污痕。本发明的大多数不饱和氟代醚溶剂还具有作为介电流体的用途,即它们是电流的不良导体,并且不易消散静电荷。
使脱水组合物在常规干燥和清洁设备中沸腾和一般性循环可产生静电荷,尤其是在其中大部分水已从基板上去除的干燥过程后期阶段。此类静电荷汇集在所述基板的非导电表面上,并且防止水从所述表面上逸出。残余的水在特定位置上干燥,造成基板上不期望的斑点和污痕。残留在基板上的静电荷可将来自清洁过程的杂质带出,或能够吸引杂质如空气中的棉绒,这造成不可接受的清洁性能。
在一个实施例中,所期望的抗静电添加剂是极性化合物,其可溶于本发明的不饱和氟化醚溶剂中,并且致使不饱和氟化醚溶剂电导率提高,使得静电荷从基板上消散。在另一个实施例中,抗静电添加剂具有接近不饱和氟化醚溶剂沸点的正常沸点,并且具有极小的水中溶解度,甚至无水中溶解度。在另一个实施例中,抗静电添加剂具有小于约0.5重量%的水中溶解度。在一个实施例中,抗静电剂在不饱和氟化醚溶剂中的溶解度为至少0.5重量%。在一个实施例中,抗静电添加剂为硝基甲烷(CH3NO2)。
在一个实施例中,包含抗静电添加剂的所述脱水组合物在方法的脱水和干燥以及漂洗步骤中有效地将基板脱水或干燥,如下所述。
另一个实施例涉及将基板脱水或干燥的方法,所述方法包括:
a)使基板与包含90至99重量%的反-1,2-二氯乙烯、0.1至8重量%的甲基全氟庚烯醚和0.1至2.0重量%的1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟戊烷、还包含表面活性剂的组合物接触,从而将该基板脱水;以及
b)从所述组合物中回收脱水的基板。
在一个实施例中,用于脱水和干燥的表面活性剂按溶剂/表面活性剂组合物的总重量计可被溶解至少1重量%。在另一个实施例中,本公开的脱水或干燥方法非常有效地从广泛范围内的基板上置换水,所述基板包括金属如钨、铜、金、铍、不锈钢、铝合金、黄铜等;玻璃和陶瓷表面,如玻璃、兰宝石、硼硅酸盐玻璃、氧化铝如用于电子电路的硅片、焙烧氧化铝等;以及塑料,如聚烯烃(“Alathon”,“Tenite”)、聚氯乙烯、聚苯乙烯(Styron)、聚四氟乙烯四氟乙烯-乙烯共聚物聚偏二氟乙烯(“Kynar”)、离聚物丙烯腈-丁二烯-苯乙烯聚合物苯酚-甲醛共聚物、纤维素(“Ethocel”)、环氧树脂、聚缩醛聚(对苯氧化物)聚醚酮 (“Ultrapek”)、聚醚醚酮(“Victrex”)、聚(对苯二甲酸丁二醇酯)(“Valox”)、聚芳酯液晶聚合物、聚酰亚胺聚醚酰亚胺(“Ultem”)、聚酰胺酰亚胺(“Torlon”)、聚(对苯硫化物) (“Rython”)、聚砜(“Udel”)和聚芳基砜(“Rydel”)。在另一个实施例中,用于本发明脱水或干燥方法中的组合物与弹性体相容。
在一个实施例中,本公开涉及从润湿基板表面上去除至少一部分水的方法(脱水),所述方法包括使所述基板接触上述脱水组合物,然后从与所述脱水组合物接触中取出所述基板。在另一个实施例中,原本附着于基板表面上的水被溶剂和/或表面活性剂置换,并且随着所述脱水组合物而离开。如本文所用,术语“至少一部分水”是指每个浸没循环去除基板表面上至少约75重量%的水。如本文所用,术语“浸没循环”是指涉及至少一个步骤的一个循环,其中基板浸没于本发明的脱水组合物中。
任选地,通过使所述基板接触不含表面活性剂的卤烃溶剂,可进一步去除仍附着在基板上的极少量表面活性剂。将制品保持于溶剂蒸气或回流溶剂中,将进一步减少残留在基板上的表面活性剂存留。通过蒸发,去除附着在基板表面上的溶剂。可采用大气压或负压下蒸发溶剂,并且可采用高于和低于卤烃溶剂沸点的温度。
使基板接触脱水组合物的方法不是关键性的,并且可广泛变化。例如,可将基板浸没在组合物中,或可采用常规设备,用所述组合物喷涂所述基板。优选完全浸没所述基板,因为这一般确保所述组合物与基板所有暴露表面之间的接触。然而,可使用易于提供此类完全接触的任何其他方法。
基板与脱水组合物的接触时间可广泛变化。通常,接触时间至多为约 5分钟,然而如果需要,可采用更长的时间。在脱水方法的一个实施例中,接触时间为约1秒至约5分钟。在另一个实施例中,脱水方法的接触时间为约15秒至约4分钟。
接触温度也可根据所述组合物的沸点广泛变化。一般来讲,接触温度等于或小于所述组合物的正常沸点。
在一个实施例中,本公开的组合物可进一步包含共溶剂。使用本发明的组合物从基板上清洁常规方法的残余物时,此类共溶剂是所期望的,例如去除焊接用焊剂并且使包含本发明基板的机械组件脱脂。此类共溶剂包括醇(如甲醇、乙醇、异丙醇)、醚(如乙醚、甲基叔丁基醚)、酮(如丙酮)、酯(如乙酸乙酯、十二酸甲酯、肉豆蔻酸异丙酯以及琥珀酸、戊二酸或己二酸的二甲基酯或二异丁基酯或它们的混合物)、醚醇(如丙二醇一丙基醚、双丙二醇一丁基醚和三丙二醇一甲基醚)以及烃(如戊烷、环戊烷、己烷、环己烷、庚烷、辛烷)和氯烃(如反式-1,2-二氯乙烯)。当此类共溶剂用于本发明组合物中以将基板脱水或清洁时,其含量按所述总组合物重量计为约1重量%至约50重量%。
本公开的另一个实施例涉及清洁表面的方法,所述方法包括:
a.使该表面与包含90至99重量%的反-1,2-二氯乙烯、0.1至8重量%的甲基全氟庚烯醚和0.1至2.0重量%的1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟戊烷的组合物接触,以及
b.从所述组合物中回收所述表面。
在一个实施例中,本发明的组合物可用作清洁组合物、清洁剂、沉积溶剂以及用作脱水或干燥溶剂。在另一个实施例中,本发明涉及从表面或基板上去除残留物的方法,所述方法包括使所述表面或基板接触本公开的清洁组合物或清洁剂,并且任选地从所述清洁组合物或清洁剂中回收基本上不含残留物的表面或基板。
在另一个实施例中,本公开涉及通过从表面上去除污染物来清洁表面的方法。从表面上去除污染物的方法包括使具有污染物的表面接触本发明的清洁组合物以溶解污染物,并且任选地从所述清洁组合物中回收所述表面。而后所述表面基本上不含污染物。如前所述,可由本发明方法去除的污染物或残留物包括但不限于油和油脂、焊剂残余物、和颗粒污染物。
在本公开的一个实施例中,可通过喷雾、冲洗、用其内或其上含有清洁组合物的基材例如擦拭布或纸材擦拭,来实现接触方法。在本公开的另一个实施例中,可通过将制品浸渍或浸没于清洁组合物浴液中,来实现接触方法。
在本公开的一个实施例中,回收工序是通过从清洁组合物浴液中移出已经被接触的表面来实现的。在本发明的另一个实施例中,通过使磁碟上已经喷雾、冲洗或擦拭过的清洁组合物排出来实现回收工序。此外,可以与沉积方法相类似的方式,蒸发先前步骤完成后可能留下的任何残留清洁组合物。
清洁表面的方法可应用于与下述沉积方法相同类型的表面上。由二氧化硅、玻璃、金属或金属氧化物或者碳构成的半导体表面或磁介质磁碟可具有经由本发明的工艺去除的污染物。在上述方法中,可通过使磁碟接触所述清洁组合物,并且从所述清洁组合物中回收所述磁碟,从磁碟上去除污染物。
在另一个实施例中,本发明方法还提供了通过使制品接触本公开的清洁组合物,从产品、部件、组件、基板或者任何其他制品或其部分上去除污染物的方法。如本文所指,术语“制品”是指所有此类产品、部件、组件、基板等,并且还旨在涉及它们的任何表面或部分。
如本文所用,术语“污染物”旨在涉及存在于制品上的任何多余材料或物质,即使此类物质是有意放置在所述制品上的。例如,在半导体装置的制造中,通常将光致抗蚀剂材料沉积在基板上以形成用于蚀刻操作的掩模,并且随后从所述基板上去除所述光致抗蚀剂材料。如本文所用,术语“污染物”旨在包括和涵盖此类光阻材料。烃基油和油脂以及邻苯二甲酸二辛酯是可能存在于碳涂覆磁碟上的污染物实例。
在一个实施例中,本发明的方法包括在蒸气脱脂和溶剂清洁方法中,使所述制品接触本发明的清洁组合物。在一个此类实施例中,蒸气脱脂和溶剂清洁方法包括优选在室温下,使制品暴露于沸腾清洁组合物的蒸气下。蒸气冷凝在物件上,具有提供相对洁净的蒸馏过的清洁组合物以洗去油脂或其他污染的优点。因此,此类方法具有的额外优点在于,与将物件简单地在液体清洁组合物中洗涤的情形相比,从物件上最终蒸发本发明清洁组合物留有较少的残余物。
在另一个实施例中,就其中制品包含难以去除的污染物的应用而言,本发明的方法涉及将清洁组合物的温度提高到环境温度以上或至对此类应用有效的任何其他温度,以显著改善清洁组合物的清洁作用。在一个此类实施例中,此类方法一般还用于大体积组装生产线操作上,其中制品尤其是金属部件和组合件的清洁必须有效和快速地完成。
在一个实施例中,本公开的清洁方法包括在高温下将待清洁制品浸没于液体清洁组合物中。在另一个实施例中,本公开的清洁方法包括在清洁组合物的沸点附近,将待清洁制品浸没于液体清洁组合物中。在一个此类实施例中,该步骤从制品上去除显著量的目标污染物。在另一个实施例中,该步骤从制品上去除大部分目标污染物。在一个实施例中,在该步骤之后接着将所述制品浸没于刚蒸馏过的清洁组合物中,这在比先前浸没步骤中的液体清洁组合物温度低的温度下进行。在一个此类实施例中,刚蒸馏过的清洁组合物处于环境温度或室温附近。在另一个实施例中,所述方法还包括随后使所述制品接触较热的清洁组合物蒸气的步骤,这通过使所述制品暴露于由与首先提及的浸没步骤相关的热/沸腾清洁组合物产生的蒸气中来进行。在一个此类实施例中,这致使清洁组合物蒸气在制品上冷凝。在某些优选的实施例中,在最终清洗之前可用蒸馏过的清洁组合物喷涂所述制品。
预期有多个种类和类型的蒸气脱脂设备适于和本发明方法结合使用。此类设备及其操作的一个实例公开于美国专利No.3,085,918中,所述文献以引用方式并入本文。其中公开的设备包括包含清洁组合物的沸腾贮槽、包含蒸馏过的清洁组合物的清洁槽、水分离器和其他辅助设备。
本发明的清洁方法还包括冷清洁,其中在环境温度或室温条件下将被污染的制品浸没于本公开的流体清洁组合物中,或者在该条件下用浸润有所述清洁组合物的抹布或类似物件擦拭。
本文所述的概念将在以下实例中进一步描述,所述实例不限制权利要求中描述的本发明的范围。应注意到,上文一般性描述或实例中所描述的行为不是所有都是必需的,一部分具体行为不是必需的,而且除了所描述的那些以外,还可实施一种或更多种其他行为。此外,所列行为的顺序不一定是实施它们的顺序。
在上述说明书中,已参考具体的实施例描述了所述概念。然而,本领域的普通技术人员认识到,在不脱离所附权利要求中所述的本发明的范围的情况下,可进行各种修改和变化。因此,说明书应被认为是例证性的而非限制性的,并且所有此类修改形式旨在包括于本发明的范围内。
以上已针对具体的实施例描述了有益效果、其他优点及问题的解决方案。然而,有益效果、优点、问题的解决方案、以及可致使任何有益效果、优点或解决方案产生或变得更显著的任何特征不可解释为是任何或所有权利要求的关键的、必需的或基本的特征。
应当认识到,为清楚起见,本文不同实施例的上下文中所描述的某些特点也可在单个实施例中以组合方式提供。反之,为简明起见,在单个实施例的上下文中所描述的多个特征也可单独或以任何子组合的方式提供。此外,在所述范围内提出的数值包括该范围内的每个值。
实例
实例1:MPHE、HFC-4310mee和T-DCE的组合物的可燃性
MPHE、HFC-4310mee和t-DCE的组合物的闪点根据ASTM D56- 05(2010)闪点标准测试方法使用Tag闭杯测试仪测定。结果示于表1中。
表1
t-DCE | MPHE | HFC-4310mee | Tag闭杯闪点 |
98 | 2.0 | 0 | -10 |
97 | 3.0 | 0 | -10 |
96 | 4.0 | 0 | -10 |
95.5 | 4 | 0.5 | -5 |
95.4 | 4 | 0.6 | 无 |
95.3 | 4 | 0.7 | 无 |
95.2 | 4 | 0.8 | 无 |
95.1 | 4 | 0.9 | 无 |
95.0 | 4 | 1.0 | 无 |
上述数据显示,令人惊奇的是,含0.6重量%或更多HFC-43-10mee的混合物在Tag闭杯测试中不可燃。
实例2:共混物的KB值
4.0%MPHE、0.6%HFC-4310mee和95.4%t-DCE的混合物的贝壳杉脂丁醇值根据ASTM D1133-烃溶剂的贝壳杉脂丁醇值标准测试方法确定。 KB值测定为100,证明混合物具有高溶解能力。
实例3:MPHE2、HFC-4310mee、t-DCE共混物的类共沸物性能。
制备表2中所示的三元混合物,并在沸点计中测量所述混合物的沸点。如表2中所示,包含95重量%t-DCE以及分别在0至1.8%和5.0%至 3.2%范围内的HFC-4310mee和MPHE的混合物表现出类共沸物性能,即在此组成范围内,沸点基本恒定,在整个组成范围内相差仅1℃(从47.1至 48.1℃)。
表2.MPHE/HFC-4310mee/t-DCE混合物
实例4:MPHE、HFC-4310mee和T-DCE的组合物的清洁性能
如实例2中所示,KB值是共混物溶解能力的度量。下表3中展示了5 重量%MPHE、94重量%反式二氯乙烯和1重量%MFC-43-10mee的组合物在蒸气脱脂机中对不同工业中使用的各种污垢的清洁性能的实例。
表3
组合物 | 污垢 | 清洁性能 |
MPHE/HFC-4310/T-DCE | MIL-PRF-83282合成HC液压油 | 99(污垢移除%) |
MPHE/HFC-4310/T-DCE | MIL-PRF-81322通用油 | 99(污垢移除%) |
MPHE/HFC-4310/T-DCE | 矿物油 | 97(污垢移除%) |
MPHE/HFC-4310/T-DCE | 合成油 | 95(污垢移除%) |
实例5:MPHE、HFC-4310mee和T-DCE的组合物的蒸馏
下表4展示了蒸馏包含95.16%t-DCE、3.98%MPHE和0.86%HFC- 4310mee的混合物后,蒸馏组合物与原混合物组分相同。
表4
Claims (14)
1.一种包含95重量%的反-1,2-二氯乙烯、4.0至4.4重量%的甲基全氟庚烯醚和0.6至1.0重量%的1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟戊烷的组合物。
2.一种从制品表面上去除残留物的方法,包括:
a.使所述表面与包含95重量%的反-1,2-二氯乙烯、4.0至4.4重量%的甲基全氟庚烯醚和0.6至1.0重量%的1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟戊烷的组合物接触;以及
b.从所述组合物中回收所述表面。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述组合物还包含抛射剂。
4.根据权利要求3所述的方法,其中所述抛射剂包括空气、氮气、二氧化碳、2,3,3,3-四氟丙烯、反-1,3,3,3-四氟丙烯、1,2,3,3,3-五氟丙烯、二氟甲烷、三氟甲烷、二氟乙烷、三氟乙烷、四氟乙烷、五氟乙烷、烃类或二甲基醚或者其组合。
5.根据权利要求2所述的方法,其中所述组合物还包含至少一种表面活性剂。
6.根据权利要求2所述的方法,其中所述接触通过蒸气脱脂实现。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述蒸气脱脂通过如下进行:
a.使所述组合物沸腾;以及
b.将所述制品暴露于所述组合物的蒸气。
8.根据权利要求2所述的方法,其中所述接触通过将所述制品浸没于所述组合物中的第一步骤来实现,其中所述组合物处于大于环境温度或室温的温度下。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述组合物处于约为所述组合物的沸点的温度下。
10.根据权利要求8所述的方法,还包括将所述制品浸没于所述组合物中的第二步骤,其中所述组合物处于低于所述第一浸没步骤温度的温度下。
11.根据权利要求10所述的方法,其中所述第二浸没步骤中的组合物处于环境温度或室温下。
12.根据权利要求10所述的方法,还包括使所述组合物沸腾并且将所述制品暴露于所述沸腾组合物的蒸气的步骤。
13.根据权利要求2所述的方法,其中所述组合物处于环境温度或室温下。
14.根据权利要求2所述的方法,其中所述接触通过用浸透有所述组合物的物件擦拭所述表面来实现。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201461992267P | 2014-05-13 | 2014-05-13 | |
US61/992267 | 2014-05-13 | ||
PCT/US2015/029824 WO2015175330A1 (en) | 2014-05-13 | 2015-05-08 | Compositions of methyl perfluoroheptene ethers, 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoropentane and trans-1,2-dichloroethylene and uses thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106574215A CN106574215A (zh) | 2017-04-19 |
CN106574215B true CN106574215B (zh) | 2018-05-25 |
Family
ID=53181369
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201580037657.8A Active CN106574215B (zh) | 2014-05-13 | 2015-05-08 | 甲基全氟庚烯醚、1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟戊烷和反-1,2-二氯乙烯的组合物及其用途 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9428717B2 (zh) |
EP (1) | EP3143118B1 (zh) |
JP (1) | JP6588470B2 (zh) |
KR (1) | KR102320527B1 (zh) |
CN (1) | CN106574215B (zh) |
ES (1) | ES2704481T3 (zh) |
MX (1) | MX2016014676A (zh) |
SG (1) | SG11201609312PA (zh) |
TW (1) | TWI702287B (zh) |
WO (1) | WO2015175330A1 (zh) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6674186B2 (ja) * | 2014-06-11 | 2020-04-01 | 三井・ケマーズ フロロプロダクツ株式会社 | 半導体パターン乾燥用置換液および半導体パターン乾燥方法 |
US9840685B2 (en) * | 2015-05-08 | 2017-12-12 | The Chemours Company Fc, Llc | Ternary compositions of methyl perfluoroheptene ethers and trans-1,2-dichloroethylene, and uses thereof |
US10883071B2 (en) | 2015-05-29 | 2021-01-05 | Zynon Technologies, Llc | Cleaning solvent compositions and their use |
CN110088260B (zh) | 2016-11-30 | 2020-12-04 | 齐农科技有限责任公司 | 具有共沸物状特性的清洁溶剂成分及其用途 |
WO2018101324A1 (ja) * | 2016-11-30 | 2018-06-07 | 旭硝子株式会社 | 溶剤組成物およびポリウレタン樹脂の除去方法 |
US10920181B2 (en) | 2017-05-03 | 2021-02-16 | Illinois Tool Works Inc. | Aerosol cleaning composition |
CN107022431B (zh) * | 2017-05-03 | 2020-04-21 | 广东莱雅新化工科技有限公司 | 工业清洗剂及其制备方法 |
EP3697883A1 (en) | 2017-10-20 | 2020-08-26 | Dov Shellef | Compositions containing trans-1,2-dichloroethylene and a hydrofluoroether, and methods of using the same |
WO2019093396A1 (ja) * | 2017-11-07 | 2019-05-16 | 神戸合成株式会社 | 洗浄剤組成物及びそのエアゾール組成物 |
JP7098170B2 (ja) * | 2017-11-07 | 2022-07-11 | 神戸合成株式会社 | 洗浄剤組成物及びそのエアゾール組成物 |
US10934507B2 (en) * | 2018-02-02 | 2021-03-02 | Shellef Holdings Inc. | Compositions comprising trans-1,2-dichloroethylene and an organic compound, and methods of using the same |
EP3788126A1 (en) * | 2018-05-03 | 2021-03-10 | The Chemours Company FC, LLC | Binary azeotrope and azeotrope-like compositions comprising perfluoroheptene |
JP7292307B2 (ja) * | 2018-05-03 | 2023-06-16 | ザ ケマーズ カンパニー エフシー リミテッド ライアビリティ カンパニー | ペルフルオロヘプテンを含む三成分及び四成分共沸混合物及び共沸様組成物 |
WO2020142650A1 (en) * | 2019-01-04 | 2020-07-09 | The Chemours Company Fc, Llc | Quaternary azeotrope and azeotrope-like compositions for solvent and cleaning applications |
CN112300692A (zh) * | 2019-07-29 | 2021-02-02 | 广东三和化工科技有限公司 | 一种书写板气雾剂及制备方法 |
CN111004686A (zh) * | 2019-10-21 | 2020-04-14 | 广东莱雅新化工科技有限公司 | 一种清洗剂 |
WO2021086804A1 (en) * | 2019-10-28 | 2021-05-06 | The Chemours Company Fc, Llc | Heat transfer fluids for use in low temperature chiller applications |
US11713434B2 (en) | 2020-08-18 | 2023-08-01 | Zynon Technologies, Llc | Cleaning solvent compositions exhibiting azeotrope-like behavior and their use |
WO2024049866A2 (en) | 2022-08-31 | 2024-03-07 | The Chemours Company Fc, Llc | Liquid reclamation and solid foam recycling/reclamation: compositions and methods |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008073408A1 (en) * | 2006-12-12 | 2008-06-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Azeotrope-like mixtures comprising heptafluorocyclopentane |
CN101213287A (zh) * | 2005-07-07 | 2008-07-02 | 阿科玛股份有限公司 | 具有升高的闪点的反-1,2-二氯乙烯与氢氟烃或烷氧基全氟烷烃组合物 |
CN103415652A (zh) * | 2011-03-10 | 2013-11-27 | 纳幕尔杜邦公司 | 甲基全氟庚烯醚和反式二氯乙烯的共沸和类共沸组合物及其用途 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL121693C (zh) | 1959-05-22 | |||
US5064560A (en) * | 1990-10-11 | 1991-11-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ternary azeotropic compositions of 43-10mee (CF3 CHFCHFCH2 CF.sub. |
US5196137A (en) | 1991-10-01 | 1993-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Azeotropic composition of 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-decafluoropentane and trans-1,2-dichloroethylene, cis-1,2-dichloroethylene or 1,1-dichlorethane |
US5759986A (en) * | 1997-03-03 | 1998-06-02 | Merchant; Abid Nazarali | Decafluoropentane compositions |
US5908822A (en) * | 1997-10-28 | 1999-06-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Compositions and processes for drying substrates |
US6852684B1 (en) * | 1998-09-21 | 2005-02-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Non-flammable, high-solvency compositions comprising trans-1,2-dichloroethylene, solvent, and inerting agent |
US8399713B2 (en) | 2009-02-16 | 2013-03-19 | E I Du Pont De Nemours And Company | Alkyl perfluoroalkene ethers |
-
2015
- 2015-05-08 CN CN201580037657.8A patent/CN106574215B/zh active Active
- 2015-05-08 EP EP15723105.1A patent/EP3143118B1/en active Active
- 2015-05-08 SG SG11201609312PA patent/SG11201609312PA/en unknown
- 2015-05-08 WO PCT/US2015/029824 patent/WO2015175330A1/en active Application Filing
- 2015-05-08 JP JP2016567721A patent/JP6588470B2/ja active Active
- 2015-05-08 ES ES15723105T patent/ES2704481T3/es active Active
- 2015-05-08 MX MX2016014676A patent/MX2016014676A/es active IP Right Grant
- 2015-05-08 US US14/707,116 patent/US9428717B2/en active Active
- 2015-05-08 KR KR1020167034457A patent/KR102320527B1/ko active IP Right Grant
- 2015-05-13 TW TW104115177A patent/TWI702287B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101213287A (zh) * | 2005-07-07 | 2008-07-02 | 阿科玛股份有限公司 | 具有升高的闪点的反-1,2-二氯乙烯与氢氟烃或烷氧基全氟烷烃组合物 |
WO2008073408A1 (en) * | 2006-12-12 | 2008-06-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Azeotrope-like mixtures comprising heptafluorocyclopentane |
CN103415652A (zh) * | 2011-03-10 | 2013-11-27 | 纳幕尔杜邦公司 | 甲基全氟庚烯醚和反式二氯乙烯的共沸和类共沸组合物及其用途 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201602340A (zh) | 2016-01-16 |
US9428717B2 (en) | 2016-08-30 |
SG11201609312PA (en) | 2016-12-29 |
TWI702287B (zh) | 2020-08-21 |
EP3143118A1 (en) | 2017-03-22 |
CN106574215A (zh) | 2017-04-19 |
WO2015175330A1 (en) | 2015-11-19 |
JP2017533281A (ja) | 2017-11-09 |
JP6588470B2 (ja) | 2019-10-09 |
KR20170010788A (ko) | 2017-02-01 |
MX2016014676A (es) | 2017-02-13 |
KR102320527B1 (ko) | 2021-11-02 |
ES2704481T3 (es) | 2019-03-18 |
EP3143118B1 (en) | 2018-10-10 |
US20150329806A1 (en) | 2015-11-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106574215B (zh) | 甲基全氟庚烯醚、1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟戊烷和反-1,2-二氯乙烯的组合物及其用途 | |
CN107580624B (zh) | 甲基全氟庚烯醚和反式-1,2-二氯乙烯的三元组合物及其用途 | |
US8410039B2 (en) | Azeotropic and azeotrope-like compositions of methyl perfluoroheptene ethers and trans-1,2-dichloroethylene and uses thereof | |
WO2017176646A1 (en) | Method for cleaning articles using nonflammable, azeotropic or azeotrope-like composition | |
US11447725B2 (en) | Compositions comprising trans-1,2-dichloroethylene and an organic compound, and methods of using the same | |
US5288422A (en) | Azeotrope-like compositions of 1,1,1,3,3,5,5,5-octafluoropentane, chlorinated ethylenes, and optionally nitromethane | |
JP2006516296A (ja) | フッ素化炭化水素と酸素化溶媒とを含む組成物 | |
WO2012082184A1 (en) | Azeotropic and azeotrope-like compositions of methyl perfluoroheptene ethers and heptane and uses thereof | |
US5683974A (en) | Azeotrope-like compositions of 1,1,1,3,3-pentafluoropropane and C1 -C3 alcohols for cleaning | |
KR20000065084A (ko) | 데카플루오로펜탄조성물 | |
RU2113921C1 (ru) | Жидкая очищающая композиция, ее вариант и способ удаления загрязнений с подложкой с использованием очищающей композиции | |
Eugene et al. | Azeotrope-like compositions of 1, 1, 1, 3, 3-pentafluoropropane and C 1-C 3 alcohols for cleaning |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |