CN106566415A - 一种蓝宝石研磨液 - Google Patents
一种蓝宝石研磨液 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106566415A CN106566415A CN201610963215.2A CN201610963215A CN106566415A CN 106566415 A CN106566415 A CN 106566415A CN 201610963215 A CN201610963215 A CN 201610963215A CN 106566415 A CN106566415 A CN 106566415A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- parts
- sic
- lapping liquid
- sapphire
- triethanolamine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
本发明公开了一种蓝宝石研磨液,所述的研磨液由以下组分制成:二氧化铈、β‑SiC、镁铝尖晶石、三乙醇胺、乙二醇和碲锌镉晶体,各组分的重量含量为:二氧化铈25~45份、β‑SiC 25~45份、镁铝尖晶石35~50份、三乙醇胺30~50份、乙二醇40~53份和碲锌镉晶体35~50份。通过上述方式,本发明去除率高,循环使用寿命强,可极大的提高研磨加工效率,降低成本。
Description
技术领域
本发明涉及宝石加工领域,特别是涉及一种蓝宝石研磨液。
背景技术
研磨液由磨粒分散于介质制备而成,是一种具有优良化学机械性能的研磨产品,可用于硅片、化合物晶体、精密光学器件、液晶面板、宝石、金属工件等的研磨抛光。磨粒是研磨液机械作用的关键因素,不同种类、不同粒度的磨粒磨削效果不同,适合于不同的加工要求。一般来讲磨料硬度越高、颗粒越大,其磨削效率越高、加工表面光洁度越低;相反磨料硬度越低、颗粒越小,其磨削效率越低、加工表面光洁度越高。介质是磨粒的载体,影响着磨粒的分散,在加工过程中起到冷却、排屑等作用,有时还会起到化学腐蚀的作用。
然而,目前使用的蓝宝石研磨液的去除率低,循环使用寿命弱,境地了提高研磨加工效率,提高了成本。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种蓝宝石研磨液,去除率高,循环使用寿命强,可极大的提高研磨加工效率,降低成本。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种蓝宝石研磨液,所述的研磨液由以下组分制成:二氧化铈、β-SiC、镁铝尖晶石、三乙醇胺、乙二醇和碲锌镉晶体,各组分的重量含量为:二氧化铈25~45份、β-SiC 25~45份、镁铝尖晶石35~50份、三乙醇胺30~50份、乙二醇40~53份和碲锌镉晶体35~50份。
在本发明一个较佳实施例中,所述的二氧化铈的重量含量为27~39份。
在本发明一个较佳实施例中,所述的β-SiC的重量含量为29~41份。
在本发明一个较佳实施例中,所述的三乙醇胺的重量含量为30~45份。
本发明的有益效果是:本发明去除率高,循环使用寿命强,可极大的提高研磨加工效率,降低成本。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种蓝宝石研磨液,所述的研磨液由以下组分制成:二氧化铈、β-SiC、镁铝尖晶石、三乙醇胺、乙二醇和碲锌镉晶体,各组分的重量含量为:二氧化铈27份、β-SiC 29份、镁铝尖晶石35份、三乙醇胺30份、乙二醇40份和碲锌镉晶体35份。
实施例2
一种蓝宝石研磨液,所述的研磨液由以下组分制成:二氧化铈、β-SiC、镁铝尖晶石、三乙醇胺、乙二醇和碲锌镉晶体,各组分的重量含量为:二氧化铈33份、β-SiC 35份、镁铝尖晶石43份、三乙醇胺43份、乙二醇47份和碲锌镉晶体42份。
实施例3
一种蓝宝石研磨液,所述的研磨液由以下组分制成:二氧化铈、β-SiC、镁铝尖晶石、三乙醇胺、乙二醇和碲锌镉晶体,各组分的重量含量为:二氧化铈39份、β-SiC 41份、镁铝尖晶石50份、三乙醇胺45份、乙二醇53份和碲锌镉晶体50份。
本发明蓝宝石研磨液的有益效果是:本发明去除率高,循环使用寿命强,可极大的提高研磨加工效率,降低成本。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (4)
1.一种蓝宝石研磨液,其特征在于,所述的研磨液由以下组分制成:二氧化铈、β-SiC、镁铝尖晶石、三乙醇胺、乙二醇和碲锌镉晶体,各组分的重量含量为:二氧化铈25~45份、β-SiC 25~45份、镁铝尖晶石35~50份、三乙醇胺30~50份、乙二醇40~53份和碲锌镉晶体35~50份。
2.根据权利要求1所述的蓝宝石研磨液,其特征在于,所述的二氧化铈的重量含量为27~39份。
3.根据权利要求1所述的蓝宝石研磨液,其特征在于,所述的β-SiC的重量含量为29~41份。
4.根据权利要求1所述的蓝宝石研磨液,其特征在于,所述的三乙醇胺的重量含量为30~45份。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610963215.2A CN106566415A (zh) | 2016-10-28 | 2016-10-28 | 一种蓝宝石研磨液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610963215.2A CN106566415A (zh) | 2016-10-28 | 2016-10-28 | 一种蓝宝石研磨液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106566415A true CN106566415A (zh) | 2017-04-19 |
Family
ID=58535998
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610963215.2A Pending CN106566415A (zh) | 2016-10-28 | 2016-10-28 | 一种蓝宝石研磨液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN106566415A (zh) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101469251A (zh) * | 2007-12-27 | 2009-07-01 | 深圳市方大国科光电技术有限公司 | 蓝宝石衬底抛光液及其制作方法 |
WO2011006347A1 (zh) * | 2009-07-13 | 2011-01-20 | 安集微电子(上海)有限公司 | 一种化学机械抛光液 |
CN102212412A (zh) * | 2011-05-10 | 2011-10-12 | 天津理工大学 | 一种磨料经过表面活性剂处理的水基切削液及其制备方法 |
-
2016
- 2016-10-28 CN CN201610963215.2A patent/CN106566415A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101469251A (zh) * | 2007-12-27 | 2009-07-01 | 深圳市方大国科光电技术有限公司 | 蓝宝石衬底抛光液及其制作方法 |
WO2011006347A1 (zh) * | 2009-07-13 | 2011-01-20 | 安集微电子(上海)有限公司 | 一种化学机械抛光液 |
CN102212412A (zh) * | 2011-05-10 | 2011-10-12 | 天津理工大学 | 一种磨料经过表面活性剂处理的水基切削液及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104592898B (zh) | 高效蓝宝石研磨液及其制备方法 | |
KR101268007B1 (ko) | 알루미늄 산화물 입자 및 이를 포함하는 연마용 조성물 | |
CN108949036B (zh) | 一种抛光液及对碳化硅晶体的抛光方法 | |
Pei et al. | Fine grinding of silicon wafers | |
TWI605112B (zh) | 研磨用組成物 | |
Uhlmann et al. | A new process design for manufacturing sapphire wafers | |
RU2006104117A (ru) | Абразивные частицы для механической полировки | |
CN105505316B (zh) | 蓝宝石粗磨用研磨助剂、研磨液及它们的制备方法 | |
CN106829954B (zh) | 一种窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法 | |
CN101378002A (zh) | 一种用于GaN外延的衬底的加工方法 | |
CN104449403B (zh) | 蓝宝石衬底材料的复合碱抛光液及其循环使用方法 | |
CN110774170B (zh) | 蓝宝石衬底减薄用砂轮齿 | |
US10066128B2 (en) | Method for preparing an aluminum oxide polishing solution | |
CN108587567A (zh) | 一种适用于碲锌镉软脆晶片研磨抛光的研磨料 | |
CN104385116A (zh) | 一种SiC半导体材料的抛光方法 | |
CN101469251A (zh) | 蓝宝石衬底抛光液及其制作方法 | |
CN106349945A (zh) | 一种抛光组合物 | |
CN106566415A (zh) | 一种蓝宝石研磨液 | |
CN109749631A (zh) | 一种氧化铝基化学机械抛光液 | |
CN105586005B (zh) | 一种纳米刚玉磨料的制备方法 | |
CN101367194A (zh) | 硅片研磨速率控制方法 | |
CN111070019B (zh) | 一种缩短玻璃盖板棱抛加工时间和稳定棱抛尺寸的方法 | |
CN106566417A (zh) | 一种水晶研磨液 | |
CN103009273A (zh) | 金字塔研磨盘 | |
Fletcher et al. | Diamond fixed abrasive lapping of brittle substrates |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20170419 |
|
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |