CN106531442B - 一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质及其制备方法 - Google Patents

一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106531442B
CN106531442B CN201610906142.3A CN201610906142A CN106531442B CN 106531442 B CN106531442 B CN 106531442B CN 201610906142 A CN201610906142 A CN 201610906142A CN 106531442 B CN106531442 B CN 106531442B
Authority
CN
China
Prior art keywords
para
antiferroelectric
plzt
colloidal sol
sto
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201610906142.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106531442A (zh
Inventor
曾敏
刘聪
陆旭兵
高兴森
刘俊明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
South China Normal University
Original Assignee
South China Normal University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by South China Normal University filed Critical South China Normal University
Priority to CN201610906142.3A priority Critical patent/CN106531442B/zh
Publication of CN106531442A publication Critical patent/CN106531442A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106531442B publication Critical patent/CN106531442B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/018Dielectrics
    • H01G4/06Solid dielectrics
    • H01G4/08Inorganic dielectrics
    • H01G4/12Ceramic dielectrics
    • H01G4/1209Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material
    • H01G4/1218Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on titanium oxides or titanates
    • H01G4/1227Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on titanium oxides or titanates based on alkaline earth titanates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/018Dielectrics
    • H01G4/06Solid dielectrics
    • H01G4/08Inorganic dielectrics
    • H01G4/12Ceramic dielectrics
    • H01G4/1209Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material
    • H01G4/1236Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on zirconium oxides or zirconates
    • H01G4/1245Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on zirconium oxides or zirconates containing also titanates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

本发明公开了一种反铁电‑顺电材料耦合的电容器电介质及其制备方法。该反铁电‑顺电材料耦合的电容器电介质由反铁电PLZT和顺电STO间隔排布而成。该制备方法包括以下步骤:制备PLZT溶胶和STO溶胶;使用匀胶机将所述PLZT溶胶或STO溶胶旋涂在Pt/Si衬底上,得到第一层涂膜,烘干并退火,得到第一层涂层;然后使用匀胶机将所述STO溶胶或PLZT溶胶旋涂在该第一层涂层上,得到第二层涂膜,烘干并退火,得到第二层涂层;交替进行所述PLZT溶胶和STO溶胶的旋涂和退火工艺,得到PLZT和STO间隔排布的反铁电‑顺电材料耦合的电容器电介质。本发明的反铁电PLZT‑顺电STO耦合结构有效地改善了纯反铁电PLZT耐压性差的缺点,提升了电容器电介质的能储密度和能储效率。

Description

一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质及其制备方法
技术领域
本发明涉及电容器领域,尤其涉及一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质及其制备方法。
背景技术
高能脉冲电容器能够提供远大于蓄电池的放电功率,但是受限于有限的能量储存密度,目前市场上销售的电容器多为陶瓷电容器,体积巨大,难以满足器件小型化的要求。新型电介质材料的研究,有利于提升电介质材料的储能密度,并耐受更高电压,从而实现电容器的小型化和便捷化,拓展其应用范围。
新型电容器材料的研究层出不穷,主要包括锆钛酸铅系元素掺杂的陶瓷及厚膜研究、有机铁电材料聚偏氟乙烯PVDF及其共聚物研究和多元弛豫铁电体电介质研究,但是各自有其局限性。其中,以锆钛酸铅系陶瓷应用最为广泛,此类材料目前报道的最高能储密度仅为61J/cm3,效率为30%,耐压性和能储效率是其发展的瓶颈。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中的缺点与不足,提供一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质及其制备方法。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质,由反铁电材料和顺电材料间隔排布而成,所述反铁电材料为掺镧锆钛酸铅Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3,所述顺电材料为钛酸锶SrTiO3
一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质的制备方法,包括如下步骤:
步骤1,制备反铁电材料掺镧锆钛酸铅Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶。以三水乙酸铅、乙酸镧、正丙醇锆和四异丙醇钛为原料,以冰乙酸和去离子水为溶剂,以正丙醇为螯合剂,制得Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶;
步骤2,制备顺电材料钛酸锶SrTiO3溶胶。以乙酸锶和钛酸四丁酯为原料,以冰乙酸和去离子水为溶剂,以正丙醇为螯合剂,制得SrTiO3溶胶;
步骤3,旋涂和退火。使用匀胶机将所述Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶或SrTiO3溶胶旋涂在Pt/Si衬底上,得到第一层涂膜,烘干并退火,得到第一层涂层,然后使用匀胶机将所述SrTiO3溶胶或Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶旋涂在该第一层涂层上,得到第二层涂膜,烘干并退火,得到第二层涂层,交替进行所述Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶和SrTiO3溶胶的旋涂和退火工艺,得到Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3和SrTiO3间隔排布的反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质。
进一步,所述步骤3的旋涂过程中,匀胶机对Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶以3000rpm的转速旋涂20s,对SrTiO3溶胶以7000rpm的转速旋涂1min。
进一步,所述步骤3的烘干过程中,将旋涂后得到的涂膜靠近105℃加热台烘干,待表面均匀变色后,置于加热台边缘,1min后移至加热台中央,继续烘干3~5min。
进一步,所述步骤3的退火过程中,将烘干后的涂膜置于退火炉中,设置升温速率为5~20℃/s,降温速率为5~10℃/s,目标温度依次为200℃、300℃、450℃、700℃和100℃,相应的保温时间依次为10s、300s、300s、300s和100s。
相对于现有技术,本发明将反铁电材料与顺电材料耦合,由于顺电材料具有耐高压的性能,从而顺电层起到隔离电荷的作用,使得反铁电层更难击穿,且反铁电层与顺电层间隔排布的结构可使电介质耐受更大的电压,从而获得更大的能储密度。锆钛酸铅系材料目前报道的最高能储密度仅为61J/cm3,能储效率为30%,而通过本发明的制备方法获得的反铁电Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3-顺电SrTiO3耦合的电容器电介质的最大能储密度可以达到122J/cm3,能储效率维持在70%以上,优于目前报道水平。
附图说明
图1是反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜样品和纯PLZT薄膜样品的XRD衍射对比图。
图2是反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜样品的SEM截面表征图。
图3是图2的局部放大图。
图4是反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜样品的电滞回线。
图5是纯PLZT薄膜样品的电滞回线。
图6是反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜样品的能储密度和能储效率随电场强度的变化关系。
具体实施方式
为了更好地理解和实施,下面结合附图详细说明本发明。
实施例1
本发明的反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质的制备方法,其步骤如下:
步骤1:制备反铁电材料掺镧锆钛酸铅Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3(PLZT)溶胶。
本实施例中,PLZT溶胶的摩尔浓度为0.5mol/L,体积为100mL。PLZT溶胶的制备原料如表1所示:
表1 PLZT溶胶的制备原料
药品名称 分子量 药品纯度 实验配比 化学计量数 称量质量
三水乙酸铅 379.33 0.995 1.2 0.97 22.18795g
乙酸镧 316.04 0.999 1 0.02 0.31636g
正丙醇锆 327.57 0.7 1 0.95 22.2796g
四异丙醇钛 284.22 0.95 1 0.05 0.74795g
具体制备步骤如下:
1)按照表1中的称量质量称取所需原料;
2)将三水乙酸铅加入到40mL冰乙酸中搅拌,完全溶解后加入乙酸镧,80℃蒸发至剩余20mL,降至室温得到A溶液;
3)将正丙醇锆和四异丙醇钛混合搅拌5min,加入10mL冰乙酸和15mL正丙醇得到B溶液;
4)将B溶液倒入A溶液中,搅拌10min,加入15mL去离子水,继续搅拌,溶液先变黄后变澄清,搅拌5min,加入20mL正丙醇和10mL冰乙酸,继续搅拌12h,得到PLZT溶胶,最后转移至锥形瓶中,密封保存。
步骤2:制备顺电材料SrTiO3(STO)溶胶。
本实施例中,STO溶胶的摩尔浓度为0.3mol/L,体积为100mL。STO溶胶的制备原料如表2所示:
表2 STO溶胶的制备原料
药品名称 分子量 药品纯度 实验配比 化学计量数 称量质量
半水乙酸锶 214.71 0.999 1 1 6.4413g
钛酸四丁酯 340.32 0.97 1 1 10.5253g
具体制备步骤如下:
1)按照表2中的称量质量称取所需原料;
2)将乙酸锶加入到40mL冰乙酸中搅拌至完全溶解,80℃蒸发至剩余20mL,降至室温得到D溶液;
3)在钛酸四丁酯中加入10mL冰乙酸和15mL正丙醇,搅拌5min得到E溶液;
4)将E溶液倒入D溶液中,搅拌10min,加入15mL去离子水,继续搅拌,溶液先变黄后变澄清,搅拌5min,加入20mL正丙醇和10mL冰乙酸,继续搅拌12h,得到STO溶胶,最后转移至锥形瓶中,密封保存。
步骤3:旋涂和退火。
具体工艺如下:
1)设定匀胶机转速为3000rpm,旋涂时间为20s;清洁Pt/Si衬底,置于匀胶机橡胶圈上;抽真空,用洗耳球清洁Pt/Si衬底表面;盖上匀胶机盖,将PLZT溶胶静态滴加到Pt/Si衬底上;按程序启动键,将PLZT溶胶慢速滴加到Pt/Si衬底上;待匀胶自动停止后,得到第一层涂膜,解除真空,取下涂膜,清洁橡胶圈;将该涂膜靠近105℃加热台烘干,待表面均匀变色后,置于加热台边缘,1min后移至加热台中央,继续烘干3~5min;将烘干后的涂膜置于退火炉中进行快速退火,得到第一层PLZT涂层,退火参数如表3所示:
表3退火工艺参数
升温/降温时间(s) 目标温度(℃) 保温时间(s)
10 200 10
10 300 300
30 450 300
30 700 300
100 100 100
2)设定匀胶机转速为7000rpm,旋涂时间为1min;将第一层PLZT涂层置于匀胶机橡胶圈上;抽真空,用洗耳球清洁第一层PLZT涂层表面;盖上匀胶机盖,将STO溶胶静态滴加到第一层PLZT涂层上;按程序启动键,将STO溶胶慢速滴加到第一层PLZT涂层上;待匀胶自动停止后,得到第二层涂膜,解除真空,取下涂膜,清洁橡胶圈;将该涂膜靠近105℃加热台烘干,待表面均匀变色后,置于加热台边缘,1min后移至加热台中央,继续烘干3~5min;将烘干后的涂膜置于退火炉中进行快速退火,得到第二层STO涂层,退火参数如上述表3所示。
3)交替进行PLZT溶胶和STO溶胶的旋涂和退火工艺,PLZT涂层和STO涂层间隔排布,得到反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜,即反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质。
实施例2
按照实施例1所述步骤1和步骤2制得PLZT溶胶和STO溶胶,本实施例与实施例1的区别在于步骤3的旋涂顺序,在本实施例中,先旋涂STO溶胶,第一层为STO涂层,再旋涂PLZT溶胶,第二层为PLZT涂层,然后交替进行STO溶胶和PLZT溶胶的旋涂和退火工艺,STO涂层和PLZT涂层间隔排布,得到反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜,即反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质。
实施例3
下面对实施例1和实施例2制得的反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜的性能进行表征:
(1)XRD衍射对比图
请参阅图1,其为反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜和纯PLZT薄膜的XRD衍射对比图,其中,曲线1为反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜的XRD衍射图,曲线2为纯反铁电PLZT薄膜的XRD衍射图。该测试结果通过X射线衍射仪(X’Pert PRO,PANalytical)测试得到。从图中可以看出,耦合后的PLZT和STO都能独立成相,无其它杂相产生。
(2)SEM截面表征图
请同时参阅图2和图3,图2为反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜的SEM截面表征图,图3为图2的局部放大图。该测试结果通过扫描电子显微镜(Magellan400)测试得到。从图中可以看出,反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜结构紧密,PLZT与STO间隔排布,层次分明,无缺陷及杂质产生。
(3)电滞回线
在反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜上表面使用高能脉冲激光溅射一层顶电极,Pt/Si衬底作为底电极,用于电学测试。
请同时参阅图4和图5,图4为反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜的电滞回线,图5为纯PLZT薄膜的电滞回线。该测试结果通过铁电测试仪(Radiant Technology FerroelectricTester)测试得到。从图中可以看出,耦合后的薄膜耐压值大大提升,从1243kV/cm增加为2968kV/cm,电滞回线的形状由反铁电材料典型的双回线变为倾斜程度更大的非线性的单回线,说明与顺电材料STO的耦合,明显调制了PLZT的电学性能。
(4)能储密度和能储效率随电场强度的变化关系
请参阅图6,图6为反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜的能储密度和能储效率随电场强度的变化关系。该测试结果通过铁电测试仪(Radiant Technology FerroelectricTester)测试得到。从图中可以看出,反铁电PLZT-顺电STO耦合薄膜的最大能储密度可以达到122J/cm3,能储效率维持在70%以上,优于目前报道的61J/cm3的最高能储密度和30%的能储效率。
相对于现有技术,本发明将反铁电材料与顺电材料耦合,由于顺电材料具有耐高压的性能,从而顺电层起到隔离电荷的作用,使得反铁电层更难击穿,且间隔排布的结构可使电介质耐受更大的电压,从而获得更大的能储密度。以上实验结果说明本发明的反铁电PLZT-顺电STO耦合结构有效地改善了纯反铁电PLZT耐压性差的缺点,提升了电容器电介质的能储密度和能储效率。
本发明并不局限于上述实施方式,如果对本发明的各种改动或变形不脱离本发明的精神和范围,倘若这些改动和变形属于本发明的权利要求和等同技术范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变形。

Claims (3)

1.一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:
步骤1,制备反铁电材料掺镧锆钛酸铅Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶,以三水乙酸铅、乙酸镧、正丙醇锆和四异丙醇钛为原料,以冰乙酸和去离子水为溶剂,以正丙醇为螯合剂,制得Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶;
步骤2,制备顺电材料钛酸锶SrTiO3溶胶,以乙酸锶和钛酸四丁酯为原料,以冰乙酸和去离子水为溶剂,以正丙醇为螯合剂,制得SrTiO3溶胶;
步骤3,旋涂和退火,使用匀胶机将所述Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶或SrTiO3溶胶旋涂在Pt/Si衬底上,得到第一层涂膜,烘干并退火,得到第一层涂层,然后使用匀胶机将所述SrTiO3溶胶或Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶旋涂在该第一层涂层上,得到第二层涂膜,烘干并退火,得到第二层涂层,交替进行所述Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶和SrTiO3溶胶的旋涂和退火工艺,得到Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3和SrTiO3间隔排布的反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质;
所述步骤3的旋涂过程中,匀胶机对Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3溶胶以3000rpm的转速旋涂20s,对SrTiO3溶胶以7000rpm的转速旋涂1min;
所述步骤3的退火过程中,将烘干后的涂膜置于退火炉中,设置升温速率为5~20℃/s,降温速率为5~10℃/s,目标温度依次为200℃、300℃、450℃、700℃和100℃,相应的保温时间依次为10s、300s、300s、300s和100s。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述步骤3的烘干过程中,将旋涂后得到的涂膜靠近105℃加热台烘干,待表面均匀变色后,置于加热台边缘,1min后移至加热台中央,继续烘干3~5min。
3.一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质,其特征在于:由反铁电材料和顺电材料间隔排布而成,所述反铁电材料为掺镧锆钛酸铅Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3,所述顺电材料为钛酸锶SrTiO3;且通过权利要求1或2所述的制备方法制得。
CN201610906142.3A 2016-10-18 2016-10-18 一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质及其制备方法 Expired - Fee Related CN106531442B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610906142.3A CN106531442B (zh) 2016-10-18 2016-10-18 一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610906142.3A CN106531442B (zh) 2016-10-18 2016-10-18 一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106531442A CN106531442A (zh) 2017-03-22
CN106531442B true CN106531442B (zh) 2018-08-14

Family

ID=58332447

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610906142.3A Expired - Fee Related CN106531442B (zh) 2016-10-18 2016-10-18 一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106531442B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112447413B (zh) * 2020-11-09 2022-10-21 中国科学院深圳先进技术研究院 高储能密度、高储能效率的afe电容器的制备、反铁电薄膜层及制备、柔性afe电容器

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4142127B2 (ja) * 1997-04-07 2008-08-27 Tdk株式会社 積層薄膜およびその製造方法
CN100510391C (zh) * 2004-06-15 2009-07-08 罗伯特·博世有限公司 具有由缝隙控制的入口阀的活塞泵
CN101542657A (zh) * 2006-11-16 2009-09-23 美光科技公司 形成具有高介电常数的结构的方法和具有高介电常数的结构
CN104045340A (zh) * 2014-06-04 2014-09-17 同济大学 钛酸铋钠基和钛酸钡基多层复合压电薄膜及其制备方法
CN104538539A (zh) * 2014-12-25 2015-04-22 内蒙古科技大学 一种电卡效应致冷复合厚膜材料

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3138128B2 (ja) * 1993-12-21 2001-02-26 松下電器産業株式会社 誘電体薄膜構造物
KR100292819B1 (ko) * 1998-07-07 2001-09-17 윤종용 커패시터및그의제조방법
US6830983B2 (en) * 2002-08-29 2004-12-14 Micron Technology, Inc. Method of making an oxygen diffusion barrier for semiconductor devices using platinum, rhodium, or iridium stuffed with silicon oxide

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4142127B2 (ja) * 1997-04-07 2008-08-27 Tdk株式会社 積層薄膜およびその製造方法
CN100510391C (zh) * 2004-06-15 2009-07-08 罗伯特·博世有限公司 具有由缝隙控制的入口阀的活塞泵
CN101542657A (zh) * 2006-11-16 2009-09-23 美光科技公司 形成具有高介电常数的结构的方法和具有高介电常数的结构
CN104045340A (zh) * 2014-06-04 2014-09-17 同济大学 钛酸铋钠基和钛酸钡基多层复合压电薄膜及其制备方法
CN104538539A (zh) * 2014-12-25 2015-04-22 内蒙古科技大学 一种电卡效应致冷复合厚膜材料

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Dielectric breakdown characteristics of sol–gel derived SrTiO3 films;Yong Peng 等;《Journal of Materials Science Materials in Electronics》;20160415;第27卷;第8100-8104页 *
Enhanced polarization switching and energy storage properties of Pb0.97La0.02(Zr0.95Ti0.05)O3 antiferroelectric thin films with LaNiO3 oxide top electrodes;Jun Ge 等;《APPLIED PHYSICS LETTERS》;20130409;第102卷;文章号142905 *
Phase transition current of antiferroelectric (Pb 0.97 La 0.02 )(Zr 0.95 Ti 0.05 )O 3 thick films under thermo-electric coupled field;Kun An 等;《Solid StateCommunications》;20131121;第180卷;第64-67页 *
Preparation and dielectric properties of highly preferred-(100) orientation (Pb, La)(Zr, Ti)O3 antiferroelectric thick films by sol–gel processing;Xiujian Chou 等;《Journal of Sol-Gel Science and Technology》;20110922;第61卷;第62-68页论文摘要及实验部分 *
多步退火对(Pb,La)(Zr,Ti)O3反铁电厚膜的影响;杜妙璇;《微纳电子技术》;20120430;第49卷(第4期);第263-268页 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN106531442A (zh) 2017-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5116643A (en) Method for preparing PLZT, PZT and PLT sol-gels and fabricating ferroelectric thin films
KR100269025B1 (ko) 층진 초격자 물질의 제조를 위한공정
CN100587910C (zh) 石英/镍酸镧/铁酸铋-钛酸铅三层结构铁电材料的制备方法
CN107732008B (zh) 一种油酸钝化有机无机杂化钙钛矿阻变存储器及制备方法
CN108892503B (zh) 一种高电卡效应薄膜材料及其制备方法
CN104072129A (zh) 一种b位等价锆离子掺杂的钛酸铋钠薄膜
CN106531442B (zh) 一种反铁电-顺电材料耦合的电容器电介质及其制备方法
CN101717272A (zh) 具有(100)晶粒择优取向的锆钛酸铅厚膜的制备方法
CN109036878B (zh) 一种铁电薄膜材料器件及其制备方法
CN111029244A (zh) 一种铈掺杂的氧化铪基铁电薄膜及电容结构制备方法
CN106783810A (zh) 一种金‑锆钛酸铅纳米复合铁电薄膜材料及其制备方法
CN108929111A (zh) 一种超高放电储能密度的介质薄膜及其制备方法
CN102515763B (zh) 一种钙钛矿结构陶瓷溶胶的制备方法
CN110283346B (zh) 聚合物薄膜及其制备方法和电容器
CN101654779A (zh) 一种Bi3.2La0.8Ti3O12铁电薄膜的制备方法
CN105932088B (zh) 一种具有钙钛矿结构的异质结薄膜光电器件及其制备方法
CN109553415B (zh) 具有高电热效应的硅掺杂锆钛酸铅非取向薄膜的制备方法
JP2000154008A (ja) ゾル―ゲル法を用いて強誘電性薄膜を製造する方法
CN101388434B (zh) 一种硅/钴酸镧锶/锆钛酸铅三层结构铁电材料的制备方法
CN107275475B (zh) 一种TiO2@PZT纳米线阵列/聚合物的复合介电材料及其制备方法
CN114883480A (zh) 一种钛酸铋系列铁电薄膜的制备方法
CN112466665B (zh) 一种柔性固态电介质薄膜电容器及其制备方法
CN109279652A (zh) 一种铂-锆钛酸铅纳米复合铁电薄膜材料及制备方法
CN114914087A (zh) 一种高储能特性的钛酸铋钠-锆钛酸钡电介质薄膜及其制备方法与应用
CN102208527B (zh) 钛酸锶钡基功能薄膜低温制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20180814

Termination date: 20211018

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee