CN106444250A - 3led微显示投影模块 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种3LED微显示投影模块,其特征是:包括蓝光LED微显示模块、绿光LED微显示模块和红光LED微显示模块,蓝光LED微显示模块、绿光LED微显示模块和红光LED微显示模块分别设置于分光棱镜模块的三侧,分别由蓝光LED微显示模块、绿光LED微显示模块和红光LED微显示模块发出的蓝光、绿光、红光经分光棱镜模块后由同一侧透射出来。所述分光棱镜模块的红光反射棱镜的相对一侧设置蓝光LED微显示模块,分光棱镜模块的蓝光反射棱镜的相对一侧设置红光LED微显示模块,分光棱镜模块的出光侧的相对一侧设置绿光LED微显示模块。本发明结构简单、尺寸小,避免了现有技术中需要采用外置光源的缺陷,光损失小、利用效率高。
Description
技术领域
本发明涉及一种3LED微显示投影模块,属于半导体技术领域。
背景技术
现有技术中,主流的投影仪技术主要有:LCD、LCOS和DLP三种技术方案,这三种技术方案的显示屏均不发光,需采用外置光源来实现高亮度的投影显示,其外置光源利用效率低、较难实现高亮度、微型化的投影显示。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种3LED微显示投影模块,结构简单、尺寸小,避免了现有技术中需要采用外置光源的缺陷,光损失小、利用效率高。
按照本发明提供的技术方案,所述3LED微显示投影模块,其特征是:包括蓝光LED微显示模块、绿光LED微显示模块和红光LED微显示模块,蓝光LED微显示模块、绿光LED微显示模块和红光LED微显示模块分别设置于分光棱镜模块的三侧,分别由蓝光LED微显示模块、绿光LED微显示模块和红光LED微显示模块发出的蓝光、绿光、红光经分光棱镜模块后由同一侧透射出来。
进一步的,所述分光棱镜模块的红光反射棱镜的相对一侧设置蓝光LED微显示模块,分光棱镜模块的蓝光反射棱镜的相对一侧设置红光LED微显示模块,分光棱镜模块的出光侧的相对一侧设置绿光LED微显示模块。
进一步的,所述蓝光LED微显示模块包括发出蓝光的LED微显示芯片和微显示驱动芯片,微显示驱动芯片的背面通过导热膏连接蓝光LED微显示模块散热器。
进一步的,所述绿光LED微显示模块包括发出绿光的LED微显示芯片和微显示驱动芯片,微显示驱动芯片的背面通过导热膏连接绿光LED微显示模块散热器。
进一步的,所述红光LED微显示模块包括发出红光的LED微显示芯片和微显示驱动芯片,微显示驱动芯片的背面通过导热膏连接红光LED微显示模块散热器。
进一步的,所述LED微显示芯片包括透明的衬底,在衬底上沉积N-GaN层,在N-GaN层表面设置若干呈阵列分布的像素显示单元;每一像素单元包括依次设置在N-GaN层表面的量子阱、P-GaN层,在P-GaN层表面设置ITO透明导电层和反射层,在像素单元的反射层上设置共晶焊阳极;所述每个像素单元的周侧由凹槽相隔离,在每个像素单元的周侧包覆绝缘隔离层;在所述像素单元的阵列外围设置共晶焊阴极,共晶焊阴极与N-GaN层接触。
进一步的,所述衬底采用蓝宝石衬底。
进一步的,所述凹槽延伸至N-GaN层中,凹槽的深度为1~1.5μm,凹槽的宽度为2~10μm。
进一步的,所述共晶焊阴极设置于像素单元阵列外围的凸台上,凸台的结构在剖面上与像素单元的结构相同。
本发明采用LED微显示芯片作为像素显示面板,利用LED自发光、高亮度、高可靠性的特点,分别将红色微显示芯片、绿色微显示芯片和蓝色微显示芯片安装在分光棱镜模块的不同位置,通过反射棱镜将红、绿、蓝三原色混光后形成彩色图像。本发明具有:结构简单、尺寸小、无外置光源、光损失小、利用效率高等特点。
附图说明
图1为本发明所述3LED微显示投影模块的示意图。
图2为LED微显示模块的示意图。
图3为所述LED微显示芯片的俯视图。
图4为所述LED微显示芯片的剖视图。
具体实施方式
下面结合具体附图对本发明作进一步说明。
如图1~图2所示:所述3LED微显示投影模块包括蓝光LED微显示模块1、绿光LED微显示模块2、红光LED微显示模块3、蓝光LED微显示模块散热器4、绿光LED微显示模块散热器5、红光LED微显示模块散热器6、蓝光反射棱镜7、红光反射棱镜8、分光棱镜模块10、LED微显示芯片11、微显示驱动芯片12、导热膏13。
如图1所示,本发明所述3LED微显示投影模块,包括蓝光LED微显示模块1、绿光LED微显示模块2和红光LED微显示模块3,蓝光LED微显示模块1、绿光LED微显示模块2和红光LED微显示模块3分别设置于分光棱镜模块10的三侧;所述分光棱镜模块10的红光反射棱镜8的相对一侧设置蓝光LED微显示模块1,分光棱镜模块10的蓝光反射棱镜7的相对一侧设置红光LED微显示模块3,分光棱镜模块10的出光侧的相对一侧设置绿光LED微显示模块2,从而将蓝光和红光分别经蓝光反射棱镜7和红光反射棱镜8反射后由出光侧透射出来,与一同由透射光出光侧透射出来的绿混光后形成彩色图像。
如图2所示,所述蓝光LED微显示模块1包括发出蓝光的LED微显示芯片11和微显示驱动芯片12,微显示驱动芯片12的背面通过导热膏13连接蓝光LED微显示模块散热器4。
所述绿光LED微显示模块2包括发出绿光的LED微显示芯片和微显示驱动芯片12,微显示驱动芯片12的背面通过导热膏13连接绿光LED微显示模块散热器5。
所述红光LED微显示模块3包括发出红光的LED微显示芯片和微显示驱动芯片12,微显示驱动芯片12的背面通过导热膏13连接红光LED微显示模块散热器6。
如图3~图4所示,所述LED微显示芯片包括共晶焊阴极111-1、共晶焊阳极111-2、绝缘隔离层11-3、反射层11-4、ITO透明导电层11-5、P-GaN层11-6、量子阱11-7、N-GaN层11-8、蓝宝石衬底11-9和像素显示单元11-10。具体地,所述LED微显示芯片包括蓝宝石衬底11-9,在蓝宝石衬底11-9上沉积N-GaN层11-8,在N-GaN层11-8表面设置若干呈阵列分布的像素显示单元11-10,在本实施方式中,像素显示单元11-10的采用8×8阵列。
每一像素单元11-10包括依次设置在N-GaN层11-8表面的量子阱11-7、P-GaN层11-6,在P-GaN层11-6表面设置ITO透明导电层11-5和反射层11-4,在像素单元11-10的反射层11-4上设置共晶焊阳极11-2;所述每个像素单元的周侧由凹槽相隔离,在每个像素单元的周侧包覆绝缘隔离层11-3,凹槽延伸至N-GaN层11-8中,凹槽的深度为1~1.5μm,凹槽的宽度为2~10μm;在所述像素单元11-10的阵列外围的凸台上设置共晶焊阴极11-1,共晶焊阴极11-1与N-GaN层11-8接触。
如图4所示,所述像素单元11-10阵列外围的凸台结构在剖面上与像素单元11-10的结构相同,保证晶圆的高度一致,以便于制作工艺的施行。
本发明所述3LED微显示投影模块的制备方法,包括以下步骤:
1、利用LED生产技术制造红、绿、蓝三色LED微显示芯片;
2、利用IC生产技术制造微显示芯片驱动芯片;
3、利用对位共晶焊接技术,将LED微显示芯片与驱动芯片连接,组成单色微显示模组;
4、通过导热膏将微显示模组与散热器连接;
5、在分光棱镜模块的两侧安装蓝光反射棱镜和红光反射棱镜;
6、依次将红、绿、蓝三色微显示模组安装在分光棱镜预定位置,组成3LED微显示投影模块。
上述步骤(1)中制作LED微显示芯片的具体步骤如下:
(1)利用MOCVD设备在蓝宝石衬底11-9上依次生长N-GaN层11-8、量子阱11-7和P-GaN层11-6,完整LED外延结构;采用现有常规工艺,通过改变量子阱11-6生长过程中温度和In、Al组分可以改变发光波长,以得到相应颜色的芯片;
(2)利用正性光刻胶和SiO2双层掩膜技术,制作掩膜图形,通过ICP刻蚀技术,在步骤(1)生长的外延层上刻蚀凹槽,形成阵列分布的台阶,凹槽延伸至N-GaN层11-8内,凹槽的刻蚀深度为1~1.5μm,凹槽的宽度为2~10μm;
(3)利用电子束蒸发或磁控溅射技术,在步骤(2)得到的台阶表面制作ITO透明导电层11-5;再通过正性光刻胶掩膜技术,并通过湿法腐蚀,完成ITO透明导电层11-5的图形制作;
(4)利用负性光刻胶掩膜技术,制作反射层11-4的开口图形,并通过电子束蒸镀或磁控溅射技术,制作反射层11-4,一般反射层材料为:Al、Ag、Pt等高反射率金属材料,反射层厚度:100~500nm;
(5)利用PECVD或者磁控溅射技术制备绝缘隔离层11-3,绝缘隔离层11-3的材料一般为SiO2或Si3N4,绝缘隔离层11-3的厚度为100~2000nm;再利用正性光刻胶掩膜技术,完成电流通孔区域的腐蚀,暴露共晶焊阴极11-1和共晶焊阳极11-2处的反射层11-4;
(6)利用负性光刻胶掩膜技术,制作共晶焊阴极11-1和共晶焊阳极11-2的开口图形,在开口图形处通过电子束蒸发设备和热阻蒸发设备制作共晶焊阴极11-1和共晶焊阳极11-2,共晶焊阴极11-1和共晶焊阳极11-2的金属层依次为Al/Pt/Au/Sn或者Al/Pt/Au/ In,其中Sn或In层的厚度不低于2μm,共晶焊盘电极用于与驱动IC电极连接;
(7)利用减薄、研磨设备将晶圆减薄到100~200μm;
(8)利用激光技术将晶圆上的器件进行切割,并利用裂片技术将芯片分离,形成独立的器件单元。
本发明采用LED微显示芯片作为像素显示面板,利用LED自发光、高亮度、高可靠性的特点,分别将红色微显示芯片、绿色微显示芯片和蓝色微显示芯片安装在分光棱镜模块的不同位置,通过反射棱镜将红、绿、蓝三原色混光后形成彩色图像。本发明具有:结构简单、尺寸小、无外置光源、光损失小、利用效率高等特点。
Claims (9)
1.一种3LED微显示投影模块,其特征是:包括蓝光LED微显示模块(1)、绿光LED微显示模块(2)和红光LED微显示模块(3),蓝光LED微显示模块(1)、绿光LED微显示模块(2)和红光LED微显示模块(3)分别设置于分光棱镜模块(10)的三侧,分别由蓝光LED微显示模块(1)、绿光LED微显示模块(2)和红光LED微显示模块(3)发出的蓝光、绿光、红光经分光棱镜模块(10)后由同一侧透射出来。
2.如权利要求1所述的3LED微显示投影模块,其特征是:所述分光棱镜模块(10)的红光反射棱镜(8)的相对一侧设置蓝光LED微显示模块(1),分光棱镜模块(10)的蓝光反射棱镜(7)的相对一侧设置红光LED微显示模块(3),分光棱镜模块(10)的出光侧的相对一侧设置绿光LED微显示模块(2)。
3.如权利要求1所述的3LED微显示投影模块,其特征是:所述蓝光LED微显示模块(1)包括发出蓝光的LED微显示芯片(11)和微显示驱动芯片(12),微显示驱动芯片(12)的背面通过导热膏(13)连接蓝光LED微显示模块散热器(4)。
4.如权利要求1所述的3LED微显示投影模块,其特征是:所述绿光LED微显示模块(2)包括发出绿光的LED微显示芯片和微显示驱动芯片(12),微显示驱动芯片(12)的背面通过导热膏(13)连接绿光LED微显示模块散热器(5)。
5.如权利要求1所述的3LED微显示投影模块,其特征是:所述红光LED微显示模块(3)包括发出红光的LED微显示芯片和微显示驱动芯片(12),微显示驱动芯片(12)的背面通过导热膏(13)连接红光LED微显示模块散热器(6)。
6.如权利要求3、4或5所述的3LED微显示投影模块,其特征是:所述LED微显示芯片包括透明的衬底,在衬底上沉积N-GaN层(11-8),在N-GaN层(11-8)表面设置若干呈阵列分布的像素显示单元(11-10);每一像素单元(11-10)包括依次设置在N-GaN层(11-8)表面的量子阱(11-7)、P-GaN层(11-6),在P-GaN层(11-6)表面设置ITO透明导电层(11-5)和反射层(11-4),在像素单元(11-10)的反射层(11-4)上设置共晶焊阳极(11-2);所述每个像素单元的周侧由凹槽相隔离,在每个像素单元的周侧包覆绝缘隔离层(11-3);在所述像素单元(11-10)的阵列外围设置共晶焊阴极(11-1),共晶焊阴极(11-1)与N-GaN层(11-8)接触。
7.如权利要求6所述的3LED微显示投影模块,其特征是:所述衬底采用蓝宝石衬底。
8.如权利要求6所述的3LED微显示投影模块,其特征是:所述凹槽延伸至N-GaN层(11-8)中,凹槽的深度为1~1.5μm,凹槽的宽度为2~10μm。
9.如权利要求6所述的3LED微显示投影模块,其特征是:所述共晶焊阴极(11-1)设置于像素单元(11-10)阵列外围的凸台上,凸台的结构在剖面上与像素单元(11-10)的结构相同。
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CN (1) | CN106444250A (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109827147A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-05-31 | 华域视觉科技(上海)有限公司 | 异形花纹单元 |
CN109994585A (zh) * | 2017-12-14 | 2019-07-09 | 乐金显示有限公司 | 发光二极管芯片和微显示设备 |
US10998383B2 (en) | 2018-01-31 | 2021-05-04 | Kunshan New Flat Panel Display Technology Center Co., Ltd. | Display panels and devices thereof |
US11152436B2 (en) | 2017-07-25 | 2021-10-19 | Beijing Boe Display Technology Co., Ltd. | Display panel, fabrication method thereof, and display device |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20110079796A1 (en) * | 2009-10-05 | 2011-04-07 | Zena Technologies, Inc. | Nano structured leds |
CN202003131U (zh) * | 2010-11-19 | 2011-10-05 | 封燕鸣 | 固体光源单系统分时彩色投影机 |
CN104465692A (zh) * | 2014-12-04 | 2015-03-25 | 中国科学院半导体研究所 | 一种led全彩显示阵列及其制作方法 |
WO2016079505A1 (en) * | 2014-11-18 | 2016-05-26 | Mled Limited | Integrated colour led micro-display |
CN105742307A (zh) * | 2016-04-26 | 2016-07-06 | 张希娟 | 一种彩色微显示器件及制备方法 |
-
2016
- 2016-10-28 CN CN201610969914.8A patent/CN106444250A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20110079796A1 (en) * | 2009-10-05 | 2011-04-07 | Zena Technologies, Inc. | Nano structured leds |
CN202003131U (zh) * | 2010-11-19 | 2011-10-05 | 封燕鸣 | 固体光源单系统分时彩色投影机 |
WO2016079505A1 (en) * | 2014-11-18 | 2016-05-26 | Mled Limited | Integrated colour led micro-display |
CN104465692A (zh) * | 2014-12-04 | 2015-03-25 | 中国科学院半导体研究所 | 一种led全彩显示阵列及其制作方法 |
CN105742307A (zh) * | 2016-04-26 | 2016-07-06 | 张希娟 | 一种彩色微显示器件及制备方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11152436B2 (en) | 2017-07-25 | 2021-10-19 | Beijing Boe Display Technology Co., Ltd. | Display panel, fabrication method thereof, and display device |
CN109994585A (zh) * | 2017-12-14 | 2019-07-09 | 乐金显示有限公司 | 发光二极管芯片和微显示设备 |
CN109994585B (zh) * | 2017-12-14 | 2022-05-31 | 乐金显示有限公司 | 发光二极管芯片和微显示设备 |
US10998383B2 (en) | 2018-01-31 | 2021-05-04 | Kunshan New Flat Panel Display Technology Center Co., Ltd. | Display panels and devices thereof |
CN109827147A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-05-31 | 华域视觉科技(上海)有限公司 | 异形花纹单元 |
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
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