CN106391263A - 循环式胶体研磨均质机 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种胶体研磨均质设备主要用于日用化工、食品加工、医药工业、建筑工业、塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、稀土、纳米材料及军工等新材料领域;本发明主要部件有电机、机座、机体、旋转叶片、三级研磨、均质盘、循环体、机械密封水冷却接头、机械密封装置等组成;机座上安装有机体和电机,机体顶盖上方设置封闭式料斗,料斗为圆锥体形状的不锈钢制品;本发明由于转速较高、产热量较大采用机械密封组密封并且采用液体循环水冷却;循环式胶体研磨均质机为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达到纳米级别,本发明的胶体研磨均质机使得生成的粒子非常均匀。
Description
技术领域
本发明主要涉及医药、生物、化工、饮料乳化液技术领域,特别是涉及一种循环式胶体研磨均质机。
背景技术
在当前,生物、制药、化工、饮料等企业急需一种循环式胶体研磨均质设备的机器,而现有设备研磨、均质不充分达不到用户需求;现有循环式胶体研磨均质机均为三级磨粉,磨制的粉体颗粒仍较大,分散颗粒不均匀,现有设备散热条件差使化学溶液由于温度升高产生化学反应不能满足要求且磨制一段时间后,转子磨损较大,需更换转子,维修成本高。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种降低能耗, 提高粉碎细度, 获得较窄的粒度分布, 开发新型高效粉碎机, 并大力优化粉碎设备的结构参数, 开发新型高效均化、分散设备及高效分级设备, 与粉碎设备优化组合, 提高机电一体化, 提荡设备的自动化水平, 降低劳动强度, 减少劳动费用,减少工作过程对环境的污染、 降低噪音,研制开发耐磨、防腐性能优良的金属和非金属材料, 提高粉碎设备的使用寿命、结构简单、磨制的粉体颗粒小、分散均匀、维修成本低更换方便的循环式胶体研磨均质机。
为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:
一种循环式胶体研磨均质机,其特征在于:包括电机、机座、机体、旋转叶片、三级研磨、循环体、均质盘、机械密封水冷却接头、机械密封装置等组成;机座上安装有机体和电机,顶盖上方设置封闭式料斗,料斗为圆锥体形状的不锈钢制品;顶盖与调节装置充分接触,循环式胶体研磨均质机具有旋转叶片、研磨体和均质体组成,研磨体组成由粗到细递升的三级据齿突起和凹槽,定子通过调节装置可以调整到所需要的与转子之间的距离。通过调剂装置的调节精细度递升研磨体,最终得到微纳米级的物料颗粒;主轴与转子和机体之间设置机械密封组,均质体后端的机体处设置出料口。
本发明循环式胶体研磨均质机的调节装置是由壳体上方设有调节盘,调节盘上安装手柄,手柄对调节盘进行调节使腔体的物料加工精度提高;调节盘上设置压盖,压盖上安装冷却液管进口接头和冷却液管出口接头,冷却液管进口接头连接冷却液环形通道,随时添加冷却液,保护调节盘、物料、磨盘避免温度过高影响使用性能。
本发明循环式胶体研磨均质机,机械密封装置包括冷却座、壳体、上动环、下动环、冷却腔、弹簧、内衬套、进冷却流道、出冷却流道,所述冷却座分为内壁、外壁两个壁通过,冷却腔是由冷却座内壁与内衬套形成冷却腔体,冷却座左右分别连通进冷却流道与出冷却流道,冷却座外壁与壳体配合并设有密封装置;冷却座上部与上动环接触,上动环设有凹槽与内衬套设有凸槽配合后保证上动环、内衬套、轴同步转动;冷却座下部与下动环接触,下动环同样设有凹槽与轴套设有凸槽配合;轴套、内衬套、轴有紧定螺钉连接并保持同步转速,轴套下端有弹性挡圈固定;壳体与冷却座、下动环与轴套之间设有弹簧孔,弹簧的作用是保持冷却座与上动环以及轴套与下动环具有初步预紧力使该两处始终保持接触,避免冷却液外溢。
本发明采用封闭循环式研磨均质是物质充分研磨均质,由于本发明主要对胶体、化学物品及药品等易挥发液体,对物质精细度及均质程度要求较高所以采用封闭循环式。
本发明循环式胶体研磨均质机的均质体是由转子、定子组成;本发明转子与定子的配合即达到均质作用又能形成向下的负压是物料快速完成循环。
本发明循环式胶体研磨均质机,其特征在于:所述机械密封的后端与机体之间设置调整垫圈密封。
循环式胶体研磨均质机,其特征在于:所述旋转叶片采用一定螺旋角式叶片,旋转叶片在腔体内对物质进行初步粉碎与均质。
循环式胶体研磨均质机,其特征在于:所述定环和动环采用四氮化三硅和氮化钦复合材料制成,动环与主轴之间安装O形密封圈密封。
根据权利要求本发明由于转速较高静动磨盘产热量较大采用液体循环式冷却。
本发明有益效果:设备保养维护方便,适用于较高粘度物料以及较大颗粒的物料,具有研磨精细、高效、粒子均匀、出料多、操作简便、安全等优点。
下面结合附图对本发明的循环式胶体研磨均质机作进一步说明。
附图说明
图1为本发明循环式胶体研磨均质机的结构示意图。
图2为本发明循环式胶体研磨均质机的动均质盘示意图。
图3为本发明循环式胶体研磨均质机的静均质盘示意图。
图中标号分别为:1.机座,2.电机,3.机体,4.轴间盘套,5.定均质盘,6.机壳,7.定磨盘下,8.手柄,9.调节盘,10.顶盖,11.冷却液管进口接头,12.料斗,13.进料口,14.冷却液管出口接头,15.旋转叶片,16.动磨盘上,17.动磨盘中,18.动磨盘下,19.动均质盘,20.出料口,
21.机械密封装置,22.主轴,23.循环装置。
具体实施方式:
如附图1所示,循环式胶体研磨均质机包括电机2、机座1、机体3、旋转叶片16、三级研磨、循环体23、均质盘、机械密封水冷却接头、机械密封装置21等组成;机座1上安装有机体3和电机2,机体顶盖10上方设置封闭式料斗12,料斗12为圆锥体形状的不锈钢制品;顶盖与调节装置充分接触,循环式胶体研磨均质机具有旋转叶片15、研磨体和均质体组成,研磨体组成由粗到细递升的三级据齿突起和凹槽,定子通过调节装置可以调整到所需要的与转子之间的距离.通过调剂装置的调节精细度递升研磨体,最终得到微纳米级的物料颗粒;主轴与转子和机体之间设置机械密封组,均质体后端的机体处设置出料口。
本发明调节装置是由壳体6上方设有调节盘9,调节盘9上安装手柄8,手柄9对调节盘8进行调节使腔体的物料加工精度提高;调节盘8上设置顶盖10,顶盖10盖上安装冷却液管进口接头11和冷却液管出口接头14,冷却液管进口接头11连接冷却液环形通道,随时添加冷却液,保护调节盘9、物料、磨盘避免温度过高影响使用性能。
本发明循环式胶体研磨均质机,机械密封装置21包括冷却座、壳体6、上动环、下动环、冷却腔、弹簧、内衬套、进冷却流道、出冷却流道,所述冷却座分为内壁、外壁两个壁通过,冷却腔是由冷却座内壁与内衬套形成冷却腔体,冷却座左右分别连通进冷却流道与出冷却流道,冷却座外壁与轴间盘套4配合并设有密封装置;冷却座上部与上动环接触,上动环设有凹槽与内衬套设有凸槽配合后保证上动环、内衬套、轴同步转动;冷却座下部与下动环接触,下动环同样设有凹槽与轴套设有凸槽配合;轴套、内衬套、轴有紧定螺钉连接并保持同步转速,轴套下端有弹性挡圈固定;轴间盘套4与冷却座、下动环与轴套之间设有弹簧孔,弹簧的作用是保持冷却座与上动环以及轴套与下动环具有初步预紧力使该两处始终保持接触,避免冷却液外溢。由于本发明主要对胶体、化学物品及药品等易挥发液体,对物质精细度及均质程度要求较高所以采用封闭循环式;循环式胶体研磨均质机,其特征在于:所述旋转叶片15采用一定螺旋角式叶片,旋转叶片15在腔体内对物质进行初步粉碎与均质。
Claims (9)
1.一种循环式胶体研磨均质机,其特征在于包括电机、机座、机体、旋转叶片、三级研磨、均质盘、循环体、机械密封水冷却接头、机械密封装置等组成;机座上安装有机体和电机,机体顶盖上方设置封闭式料斗,料斗为圆锥体形状的不锈钢制品;顶盖与调节装置充分接触,循环式胶体研磨均质机具有旋转叶片、研磨体和均质体组成,研磨体组成由粗到细递升的三级据齿突起和凹槽,定子通过调节装置可以调整到所需要的与转子之间的距离;通过调剂装置的调节精细度递升研磨体,最终得到微纳米级的物料颗粒;主轴与转子和机体之间设置机械密封组,均质体后端的机体处设置出料口。
2.根据权利要求1所述的循环式胶体研磨均质机,本发明的调节装置是由壳体上方设有调节盘,调节盘上安装手柄,手柄对调节盘进行调节使腔体的物料加工精度提高;调节盘上设置压盖,压盖上安装冷却液管进口接头和冷却液管出口接头,冷却液管进口接头连接冷却液环形通道,随时添加冷却液,保护调节盘、物料、磨盘避免温度过高影响使用性能。
3.根据权利要求2所述的循环式胶体研磨均质机,机械密封装置其特征在于:该装置包括冷却座、壳体、上动环、下动环、冷却腔、弹簧、内衬套、进冷却流道、出冷却流道,所述冷却座分为内壁、外壁两个壁通过,冷却腔是由冷却座内壁与内衬套形成冷却腔体,冷却座左右分别连通进冷却流道与出冷却流道,冷却座外壁与壳体配合并设有密封装置;冷却座上部与上动环接触,上动环设有凹槽与内衬套设有凸槽配合后保证上动环、内衬套、轴同步转动;冷却座下部与下动环接触,下动环同样设有凹槽与轴套设有凸槽配合;轴套、内衬套、轴有紧定螺钉连接并保持同步转速,轴套下端有弹性挡圈固定;壳体与冷却座、下动环与轴套之间设有弹簧孔,弹簧的作用是保持冷却座与上动环以及轴套与下动环具有初步预紧力使该两处始终保持接触,避免冷却液外溢。
4.根据权利要求3所述的循环式胶体研磨均质机,本发明采用封闭循环式研磨均质是物质充分研磨均质,由于本发明主要对胶体、化学物品及药品等易挥发液体,对物质精细度及均质程度要求较高所以采用封闭循环式。
5.根据权利要求3所述的循环式胶体研磨均质机,均质体是由转子、定子组成;本发明转子与定子的配合即达到均质作用又能形成向下的负压是物料快速完成循环。
6.根据权利要求4所述的循环式胶体研磨均质机,其特征在于:所述机械密封的后端与机体之间设置调整垫圈密封。
7.根据权利要求3所述的循环式胶体研磨均质机,其特征在于:所述旋转叶片采用一定螺旋角式叶片,旋转叶片在腔体内对物质进行初步粉碎与均质。
8.根据权利要求6所述的循环式胶体研磨均质机,其特征在于:所述定环和动环采用四氮化三硅和氮化钦复合材料制成,动环与主轴之间安装O形密封圈密封。
9.根据权利要求本发明由于转速较高静动磨盘产热量较大采用液体循环式冷却。
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