CN106383606B - 一种低损耗纳米触控膜 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种低损耗纳米触控膜，其步骤如下：骤1，将基材浸泡至醇溶液，超声清洗后，采用蒸馏水清洗晾干；步骤2，在基材表面涂覆透明氧化铟锡液，得到透明氧化铟锡膜，步骤3，在透明氧化铟锡膜上端设置有导线模具，然后将浇注混合银浆溶液，得到纳米结构的导电网络；步骤4，将步骤3中的导电网络加入微固化，形成导电丝网络；步骤5，去模后，将导电丝网络进行加热加压修复反应，形成精细导电丝网络；步骤6，将精细导电丝进行保护膜固化，经加热固化后即可得到所述产品纳米触控膜。本发明制备方法简单，解决了材料的平整度和均匀性低、缺陷大、粗糙度高等问题，具有前瞻性的应用，且具有现有行业技术无法超越的成本优。

Description

一种低损耗纳米触控膜
技术领域
本发明属纳米材料技术领域，具体涉及一种低损耗纳米触控膜。
背景技术
纳米触控膜是一种封装纳米导线为主的感应薄膜，集精准感应定位、柔性、高透明等多种功能于一体，用于10英寸以上触控屏的精准触控定位，还应用于精准互动投影及安防定位。目前，市场上还不存在能够独立完整规模性生产纳米触控膜的设备，其生产还处于小试规模阶段，其设备器械多为实验性精密设备，价格昂贵，生产成本高，其次，由于设备的局限性，操作工序更复杂，流水线生产不易，浪费人力物力，成品率不易控制。而且，国际上现有的ITO导电膜尺寸小、透明度低，产品上被国外行业垄断，严重影响我国触摸屏企业的国际竞争力，然而普通纳米触控膜的损耗相当严重，甚至低触控情况下造成信号太弱。
发明内容
本发明的目的是提供一种低损耗纳米触控膜，本发明制备方法简单，解决了材料的平整度和均匀性低、缺陷大、粗糙度高等问题，具有前瞻性的应用，且具有现有行业技术无法超越的成本优。
一种低损耗纳米触控膜，其制备方法如下：
步骤1，将基材浸泡至醇溶液，超声清洗后，采用蒸馏水清洗晾干；
步骤2，在基材表面涂覆透明氧化铟锡液，得到透明氧化铟锡膜，
步骤3，在透明氧化铟锡膜上端设置有导线模具，然后将浇注混合银浆溶液，得到纳米结构的导电网络；
步骤4，将步骤3中的导电网络加入微固化，形成导电丝网络；
步骤5，去模后，将导电丝网络进行加热加压修复反应，形成精细导电丝网络；
步骤6，将精细导电丝进行保护膜固化，经加热固化后即可得到所述产品纳米触控膜。
所述步骤1中的醇溶液采用乙醇、丙醇、异丙醇中的一种，所述超声频率为30-60kHz，超声时间为5-15min。
所述步骤2中的透明氧化铟锡液采用乙醇铟和乙酸锡的乙醇液，所述透明氧化铟锡液的配方为乙醇铟5-8份、乙酸锡3-7份、乙醇20-35份。
所述步骤2中的涂覆量为1.4-7.3mg/cm2，所述涂覆方法采用旋转涂抹法。
所述步骤3中混合银浆溶液采用钛酸正丁酯2-5份、硝酸银10-15份、碱性粉体8-12份、醇液30-40份。
所述步骤3中的碱性粉体采用氢氧化钠或者氢氧化钾，所述醇液采用丙醇或乙醇。
所述步骤4中的微固化温度为50-60℃，所述微固化时间为20-30min。
所述步骤5中的反应的加热温度为96-110℃，所述加压压力为2-7MPa，所述修复反应的气体为氮气与氧气的混合物，所述氧气含量为40-60%，所述修复反应的时间为2-6h。
所述步骤6中的固化温度为70-80℃，所述保护膜采用高分子透明薄膜。
与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：
1、本发明制备方法简单，解决了材料的平整度和均匀性低、缺陷大、粗糙度高等问题，具有前瞻性的应用，且具有现有行业技术无法超越的成本优。
2、本发明采用通过钛液对银浆溶液进行混合改性，大大提高了普通银导丝的损耗，大大提高了导电感应膜的传导性能。
3、本发明采用富氧气体进行加压加热反应，能够真正对二氧化钛进行改性，同时也提高了传导性能以及传导效率。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步描述：
实施例1
一种低损耗纳米触控膜，其制备方法如下：
步骤1，将基材浸泡至醇溶液，超声清洗后，采用蒸馏水清洗晾干；
步骤2，在基材表面涂覆透明氧化铟锡液，得到透明氧化铟锡膜，
步骤3，在透明氧化铟锡膜上端设置有导线模具，然后将浇注混合银浆溶液，得到纳米结构的导电网络；
步骤4，将步骤3中的导电网络加入微固化，形成导电丝网络；
步骤5，去模后，将导电丝网络进行加热加压修复反应，形成精细导电丝网络；
步骤6，将精细导电丝进行保护膜固化，经加热固化后即可得到所述产品纳米触控膜。
所述步骤1中的醇溶液采用乙醇，所述超声频率为30kHz，超声时间为5min。
所述步骤2中的透明氧化铟锡液采用乙醇铟和乙酸锡的乙醇液，所述透明氧化铟锡液的配方为乙醇铟5份、乙酸锡3份、乙醇20份。
所述步骤2中的涂覆量为1.4mg/cm2，所述涂覆方法采用旋转涂抹法。
所述步骤3中混合银浆溶液采用钛酸正丁酯2份、硝酸银10份、碱性粉体8份、醇液30份。
所述步骤3中的碱性粉体采用氢氧化钠，所述醇液采用丙醇。
所述步骤4中的微固化温度为50℃，所述微固化时间为20min。
所述步骤5中的反应的加热温度为96℃，所述加压压力为2MPa，所述修复反应的气体为氮气与氧气的混合物，所述氧气含量为40%，所述修复反应的时间为2h。
所述步骤6中的固化温度为70℃，所述保护膜采用高分子透明薄膜。
实施例2
一种低损耗纳米触控膜，其制备方法如下：
步骤1，将基材浸泡至醇溶液，超声清洗后，采用蒸馏水清洗晾干；
步骤2，在基材表面涂覆透明氧化铟锡液，得到透明氧化铟锡膜，
步骤3，在透明氧化铟锡膜上端设置有导线模具，然后将浇注混合银浆溶液，得到纳米结构的导电网络；
步骤4，将步骤3中的导电网络加入微固化，形成导电丝网络；
步骤5，去模后，将导电丝网络进行加热加压修复反应，形成精细导电丝网络；
步骤6，将精细导电丝进行保护膜固化，经加热固化后即可得到所述产品纳米触控膜。
所述步骤1中的醇溶液采用丙醇，所述超声频率为60kHz，超声时间为15min。
所述步骤2中的透明氧化铟锡液采用乙醇铟和乙酸醇或乙醇。
所述步骤4中的微固化温度为55℃，所述微固化时间为25min。
所述步骤5中的反应的加热温度为105℃，所述加压压力为5MPa，所述修复反应的气体为氮气与氧气的混合物，所述氧气含量为50%，所述修复反应的时间为5h。
所述步骤6中的固化温度为76℃，所述保护膜采用高分子透明薄膜。
实施例1-3的效果如下：
实施例1 实施例2 实施例3
可见光透过率 83% 95% 87%
电阻值 4.7×10<sup>-4</sup>Ω/cm 4.5×10<sup>-4</sup>Ω/cm 4.8×10<sup>-4</sup>Ω/cm
以上所述仅为本发明的一实施例，并不限制本发明，凡采用等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案，均落在本发明的保护范围内。

Claims (1)

1.一种低损耗纳米触控膜，其制备方法如下：
步骤1，将基材浸泡至醇溶液，超声清洗后，采用蒸馏水清洗晾干；
步骤2，在基材表面涂覆透明氧化铟锡液，得到透明氧化铟锡膜，
步骤3，在透明氧化铟锡膜上端设置有导线模具，然后将浇注混合银浆溶液，得到纳米结构的导电网络；
步骤4，将步骤3中的导电网络加入微固化，形成导电丝网络；
步骤5，去模后，将导电丝网络进行加热加压修复反应，形成精细导电丝网络；
步骤6，将精细导电丝进行保护膜固化，经加热固化后即可得到纳米触控膜；
所述步骤1中的醇溶液采用乙醇、丙醇、异丙醇中的一种，超声频率为30-60kHz，超声时间为5-15min；
所述步骤2中的透明氧化铟锡液采用乙醇铟和乙酸锡的乙醇液，透明氧化铟锡液的配方为乙醇铟5-8份、乙酸锡3-7份、乙醇20-35份；
所述步骤2中的涂覆量为1.4-7.3mg/cm2，所述涂覆方法采用旋转涂抹法；
所述步骤3中混合银浆溶液采用钛酸正丁酯2-5份、硝酸银10-15份、碱性粉体8-12份、醇液30-40份；
所述步骤3中的碱性粉体采用氢氧化钠或者氢氧化钾，所述醇液采用丙醇或乙醇；
所述步骤4中的微固化温度为50-60℃，微固化时间为20-30min；
所述步骤5中的反应的加热温度为96-110℃，所述加压压力为2-7MPa，所述修复反应的气体为氮气与氧气的混合物，所述氧气含量为40-60%，所述修复反应的时间为2-6h；
所述步骤6中的固化温度为70-80℃，保护膜采用高分子透明薄膜。
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