CN106353966A - 具彩色光阻图案的装置及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种具彩色光阻图案的装置及其制作方法，该具彩色光阻图案的装置包含：一基材、至少两层彩色光阻层。其中，至少两层彩色光阻层形成于基材上，此至少两层彩色光阻层共同构成一图案，且图案可视。本发明的具彩色光阻图案的装置及其制作方法，可解决传统技术的加工速度慢、材料成本高、无法兼具线路分辨率高的状况，达到加工成本低、加速速度快、材料成本低、线路分辨率高等综合技术功效。
Description
技术领域
本发明关于一种彩色光阻，特别关于一种具彩色光阻图案的装置及其制作方法。
背景技术
目前，智能型装置如智能型手机、智能型手表、智能型医疗器材等，都搭配有大荧幕让使用者观看荧幕上的信息。这些具有大荧幕的装置，除了功能强大外，逐渐都走向个性化、美观的造型设计，包括外观、形状、色彩等。这些都必须通过令人激赏的外壳设计与制造来实现。而目前，曲面化的外壳造型，特别吸引人，也逐渐成为智能型装置的未来潮流。
目前，对于智能型装置的曲面化外壳的图案制作，有以下几种工法：第一种公法：转印技术。通过预先制作的平面图样，再转印到目标的曲面。此种工法的加工成本低，但加工速度慢、材料成本高，且线路分辨率差。第二种工法：喷墨+激光雕刻。通过喷墨方法将颜料喷至目标的曲面，再通过激光雕刻的方式将图案刻出。此种工法加工成本高且加工速度慢，设备成本也很高，材料成本也高，优点是，线路分辨率高，可达20μm(微米)。
当然，可以制作曲面化外壳的技术，也可以用在平面化外壳。不过，平面化外壳的图案制作技术又更多了，例如网印，其线路分辨率也很低。
因此，如何能开发出同时具备加工成本低、加工速度快、材料成本低、线路分辨率高的多重优点，并且，可同时在平面外壳、曲面外壳、立体外壳上制作出彩色图案的方法，成为智能型装置厂商所希求的发展方向。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明提供一种具彩色光阻图案的装置，包含：
一基材；及
至少两层彩色光阻层，形成于该基材上；
其中，该至少两层彩色光阻层共同构成一图案，该图案可视。
作为优选技术方案，于该图案的边界处，该至少两层彩色光阻层构成一斜坡且每层彩色光阻层均与该基材相连接。
作为优选技术方案，该基材为一平面型基材或一立体型基材。
作为优选技术方案，该彩色光阻层的厚度介于0.5-30微米之间。
作为优选技术方案，该图案的线宽大于10微米。
作为优选技术方案，该至少两层彩色光阻层的最上层为一透明层。
作为优选技术方案，硬化后的该至少两层彩色光阻层的硬度介于2H-4H。
作为优选技术方案，该基材为一玻璃基材、一塑料基材或一陶瓷基材。
本发明还提供一种形成彩色光阻图案的方法，包含：
依序形成包含至少两层彩色光阻层的一彩色光阻复合层于一基材上；
以一光罩对该彩色光阻复合层进行一次曝光程序，该光罩具有预定的一图案；
移除非该图案的彩色光阻复合层的部分，以构成一彩色光阻图案；及
硬化该彩色光阻复合层。
作为优选技术方案，形成该彩色光阻复合层的方法为喷涂法、喷墨法、转印法或网印法。
作为优选技术方案，该彩色光阻复合层于的最上层为一透明层。
作为优选技术方案，该硬化步骤采用低温烘烤法，温度介于摄氏100至180度。
作为优选技术方案，该基材为一平面型基材或一立体型基材。
作为优选技术方案，上述形成彩色光阻图案的方法，更包含：于曝光程序前进行一预热程序，以降低该彩色光阻复合层的流动性。
作为优选技术方案，该预热程序的温度介于摄氏70至120度。
作为优选技术方案，该预热程序于每层彩色光阻层形成后进行。
作为优选技术方案，该预热程序于该彩色光阻复合层形成后进行。
本发明提供的具彩色光阻图案之装置及其制作方法，可解决传统技术的加工速度慢、材料成本高、无法兼具线路分辨率高的状况，达到加工成本低、加速速度快、材料成本低、线路分辨率高等综合技术功效。
附图说明
图1A是本发明的彩色光阻图案的制作方法流程图的一实施例。
图1B是本发明的彩色光阻图案的制作方法流程图的又一实施例。
图2为运用本发明的形成彩色光阻图案的方法所制作的手机基材上视图。
图3A-3G是本发明的彩色光阻图案的制作流程的实体制作流程的一具体实施例示意图。
图4A-4G，是本发明的彩色光阻图案的制作流程的实体制作流程的另一具体实施例示意图。
图5是本发明的彩色光阻图案的电子显微摄影剖面图。
附图标记说明：
10、10-1 基材；
21、22、23 彩色光阻层；
211、221、231 未曝光彩色光阻层；
212、222、232 已曝光彩色光阻层；
30、30-1 光罩；
31 图案部；
32 非图案部；
40 紫外光；
步骤101：依序形成至少两层彩色光阻层之一彩色光阻复合层于一基材上。
步骤102：依序形成至少两层彩色光阻层之一彩色光阻复合层于一基材上，每次形成一层彩色光阻层后进行预热，再形成下一层彩色光阻层。
步骤103：预热该彩色光阻复合层。
步骤105：以一光罩进行曝光程序，该光罩具有预定之一图案。
步骤107：移除非该图案之彩色光阻复合层的部分，以构成一彩色光阻图案。
步骤109：硬化该彩色光阻复合层。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好的理解本发明并能予以实施，但所举实施例不作为对本发明的限定。
根据本发明的实施例，本发明提供了一个具彩色光阻图案的装置及其制作方法，运用形成多层彩色光阻，再进行一次曝光的方式，来制作出高分辨率、低成本、高产能、能制作于平面或曲面的壳体图案。
请参考图1A与图3A-3G，本发明的彩色光阻图案的制作方法流程图的一实施例，其可制作出图2的手机基材，其包含了以下几个主要的步骤：
步骤101：依序形成包含至少两层彩色光阻层的一彩色光阻复合层于一基材上。形成彩色光阻复合层的步骤可运用喷涂法，喷涂法可让每一层彩色光阻层有较佳的均匀性，当然，本发明并不局限于喷涂法，其他的方法如，喷墨、转印、网印等方法，也可运用之。基材可为一平面型基材、一曲面型基材、一立体型基材；在材料的选择上，基材可为一玻璃基材或一塑料基材或一陶瓷基材。
图3A-3G的实施例(沿图2的A-A剖面图)，是以制作出图2的图案的手机的基材10来逐步制作的实施说明例。其以一曲面型基材为实施例，来说明本发明的彩色光阻图案的制作方法，其说明了本发明运用多层光阻层构成的复合光阻层，再运用一次曝光的方式的特殊技艺。彩色光阻的颜色，可以任意搭配。例如，想要图案以白色呈现，可采用第一层为白色、第二层为灰色或黑色，第三层(最上层)为透明色的彩色光阻，最简单的黑色，可以采用第一层黑色，第二层透明色。其中，最上层彩色光阻层可采用透明色，以防止刮伤且提高保护性。
换言之，本发明所指的彩色光阻，是指各种色彩的彩色光阻，包括白色、红、橙、黄、绿、蓝、靛、紫、黑、透明(无色)，可由彩色光阻可形成的色系来选定。而通过多层的颜色配置，可搭配出各种色调的颜色。此外，光阻材料可采用正光阻或负光阻，均可达到本发明所要求的技术功效。此外，每个彩色光阻层的厚度介于0.5-30微米之间。
请同步参考图3A-3C，本发明的彩色光阻图案的制作方法流程中的形成彩色光阻复合层的步骤。此实施例是形成三层的彩色光阻复合层，分别于基材10上形成彩色光阻层21、22、23；彩色光阻层23为最上层，可采用透明颜色的彩色光阻。
步骤103：预热该彩色光阻复合层。预热程序可以去除光阻中的溶剂，降低彩色光阻复合层的流动性，提高均匀性，使其不易产生形变。预热程序的温度介于摄氏70至120度，可视材料特性调整预热的温度与时间。
步骤105：以一光罩进行曝光程序，该光罩具有预定的一图案。此图案即为预定要制作的图案，例如，以智能型装置所需的荧幕边框图案，为一个环状长方形。若为一个曲面，则为环状长方形曲面。此图案的线宽可大于10微米，换言之，分辨率可到10微米。
请同步参考图3D-3E，此实施例采用了负光阻材料作为彩色光阻层的光阻材料，因此，曝光的部分是彩色光阻要留存在基材上的部分。通过有预定图案的光罩30照射紫外光40，由于光罩30当中的图案部31为透明，而非图案部32则不透光，即可让预定形成图案的部分被曝光而形成已曝光彩色光阻层212、222、232以及未曝光彩色光阻层211、221、231；由于本实施例采用负光阻，所以，未曝光彩色光阻层211、221、231会被显影剂溶解而被移除。如果采用正光阻材料，则光罩30的预定图案就会倒反过来，已曝光彩色光阻层反过来会被显影剂溶解而被移除，此为熟习该项技艺者所熟知，于此不多加赘述。
步骤107：移除非该图案的彩色光阻复合层的部分，以构成一彩色光阻图案。此步骤即为前述的显影，也就是针对彩色光阻的光阻材料所调配的显影剂。通过显影剂的处理，未曝光彩色光阻层211、221、231即可被移除。曝光程序与移除程序即为黄光程序的部分，此技术为半导体制程所熟知，于此不多加赘述。这两个程序完成后，即可获得本发明所要的预定图案。经过此步骤，即可将未曝光彩色光阻层211、221、231移除，只剩下已曝光彩色光阻层212、222、232，如图3F所示。
步骤109：硬化该彩色光阻复合层。运用低温烘烤法，温度介于摄氏100至180度，可让预定图案硬化。烘烤时间可视实际状况调整，依据彩色光阻层的特性、厚度与硬化后所需的硬度等等进行调整。硬化后之彩色光阻层的硬度介于2H-4H之间。
在步骤109的烘烤过程中，由于本发明所采用的多层彩色光阻层的结构，彩色光阻会于烘烤过程中形成流动性，而构成一个特殊的斜坡结构，使得最上层的彩色光阻接触到基材。如图3G所示，图案彩色光阻层212、222、232都因为烘烤过程所产生的流动性而共同形成了一个斜坡结构，并且，三者都与基材10接触。此种特殊的结构，就是因为本发明所采用的多层彩色光阻层，一次曝光、一次烘烤技术所产生，实为本发明的第二大特色。
本发明的第一大特色在于，形成多层的一彩色光阻复合层后，再进行一次的曝光程序、移除程序而产生所需要的图案，可大幅降低生产时间与成本。同时，因为采用微影制程而可提高分辨率。
接着，请参考图1B，本发明的彩色光阻图案的制作方法流程图的又一实施例，其可制作出图2的手机基材，与图1A比较可发现，本实施例与图1A的实施例差异在于步骤102：依序形成包含至少两层彩色光阻层的一彩色光阻复合层于一基材上，每次形成一层彩色光阻层后进行预热，再形成下一层彩色光阻层，形成后再进行预热，依此类推。此步骤可让每层彩色光阻层形成之后，降低彩色光阻复合层的流动性，提高均匀性，使其不易产生形变。并可让每层彩色光阻层的界面明显区隔。
图1A是单一次预热的实施例， 图1B则为多次预热的实施例，两种实施例本发明皆采用，因其具有不同的效果，可符合不同客户的需求。
接下来，请参考图4A-4G的实施例(沿图2的A-A剖面图)，以制作出图2的图案的手机的基材10来逐步制作的实施说明例。其以一平面型基材为实施例，来说明本发明的彩色光阻图案的制作方法，其说明了本发明运用多层光阻层构成的复合光阻层，再运用一次曝光的方式的特殊技艺。此外，此实施例是以接触型的光罩30-1来制作出本发明所想得到的图2的图案，并且，采用正光阻来作为彩色光阻复合层的材料。
请参考图4D-4G，由于采用正光阻材料，所以，接触型的光罩30-1的图案与图3D的完全相反，并且，造成已曝光彩色光阻层212、222、232位于中间，未曝光彩色光阻层211、221、231位于边缘的相反情形。而经过显影剂的处理后，中央的已曝光彩色光阻层212、222、232将会经过显影过程而被移除掉，留下未曝光彩色光阻层211、221、231。同样地，经过烘烤后，会形成图4G的未曝光彩色光阻层211、221、231的斜坡结构。
接下来，请参考图5，其为本发明的彩色光阻图案的电子显微摄影剖面图，可以发现，已曝光彩色光阻层212、222于边缘的部分形成明显的斜坡，并且，此实施例的已曝光彩色光阻层212、222厚度分别为3.63、1.79微米，可大幅降低使用的光阻材料，降低材料成本。此为本发明的第三大特色。
因此，运用本发明的形成彩色光阻图案的方法，可制作一种具彩色光阻图案的装置，包含：一基材；至少两层彩色光阻层，形成于基材上；及其中，至少两层彩色光阻层共同构成一图案，且图案可视，也就是，此处的图案是让以视觉上为诉求的图案。运用微影制程，本发明的图案分辨率高、材料使用少。此外，在图案边界处，至少两层彩色光阻层(彩色光阻复合层)构成一斜坡且每层彩色光阻层均与基材相连接。
以上所述实施例仅是为充分说明本发明而所举的较佳的实施例，本发明的保护范围不限于此。本技术领域的技术人员在本发明基础上所作的等同替代或变换，均在本发明的保护范围之内。本发明的保护范围以权利要求书为准。
Claims (17)
1.一种具彩色光阻图案的装置，其特征在于，包含：
一基材；及
至少两层彩色光阻层，形成于该基材上；
其中，该至少两层彩色光阻层共同构成一图案，该图案可视。
2.如权利要求1的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，于该图案的边界处，该至少两层彩色光阻层构成一斜坡且每层彩色光阻层均与该基材相连接。
3.如权利要求1或2的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，该基材为一平面型基材或一立体型基材。
4.如权利要求1或2的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，该彩色光阻层的厚度介于0.5-30微米之间。
5.如权利要求1或2的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，该图案的线宽大于10微米。
6.如权利要求1或2的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，该至少两层彩色光阻层的最上层为一透明层。
7.如权利要求1或2的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，硬化后的该至少两层彩色光阻层的硬度介于2H-4H。
8.如权利要求1或2的具彩色光阻图案的装置，其特征在于，该基材为一玻璃基材、一塑料基材或一陶瓷基材。
9.一种形成彩色光阻图案的方法，其特征在于，包含：
依序形成包含至少两层彩色光阻层的一彩色光阻复合层于一基材上；
以一光罩对该彩色光阻复合层进行一次曝光程序，该光罩具有预定的一图案；
移除非该图案的彩色光阻复合层的部分，以构成一彩色光阻图案；及
硬化该彩色光阻复合层。
10.如权利要求9的形成彩色光阻图案的方法，其特征在于，形成该彩色光阻复合层的方法为喷涂法、喷墨法、转印法或网印法。
11.如权利要求9或10的形成彩色光阻图案的方法，其特征在于，该彩色光阻复合层于的最上层为一透明层。
12.如权利要求9或10的形成彩色光阻图案的方法，其特征在于，该硬化步骤采用低温烘烤法，温度介于摄氏100至180度。
13.如权利要求9或10的形成彩色光阻图案的方法，其特征在于，该基材为一平面型基材或一立体型基材。
14.如权利要求9或10的形成彩色光阻图案的方法，其特征在于，更包含：
于曝光程序前进行一预热程序，以降低该彩色光阻复合层的流动性。
15.如权利要求14的形成彩色光阻图案的方法，其特征在于，该预热程序的温度介于摄氏70至120度。
16.如权利要求14的形成彩色光阻图案的方法，其特征在于，该预热程序于每层彩色光阻层形成后进行。
17.如权利要求14的形成彩色光阻图案的方法，其特征在于，该预热程序于该彩色光阻复合层形成后进行。
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080227507A1 (en) * | 2007-03-16 | 2008-09-18 | Won Seok Joo | Cover for a mobile device and mobile device having same |
| CN102645783A (zh) * | 2011-05-18 | 2012-08-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板的制造方法 |
| TW201314517A (zh) * | 2011-09-30 | 2013-04-01 | Wintek Corp | 觸控裝置及觸控顯示裝置 |
| CN206133182U (zh) * | 2015-07-16 | 2017-04-26 | 许铭案 | 具彩色光阻图案的装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100472330C (zh) * | 2002-01-25 | 2009-03-25 | 捷时雅株式会社 | 双层层叠物及使用它的构图方法 |
| TWI471773B (zh) * | 2011-08-12 | 2015-02-01 | Wintek Corp | 觸控面板及觸控顯示裝置 |
| TWI546205B (zh) * | 2012-11-23 | 2016-08-21 | 宏達國際電子股份有限公司 | 裝飾性金屬圖案的製造方法及電子裝置 |
-
2015
- 2015-07-16 TW TW104123105A patent/TWI584967B/zh active
-
2016
- 2016-01-20 CN CN201610037182.9A patent/CN106353966A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080227507A1 (en) * | 2007-03-16 | 2008-09-18 | Won Seok Joo | Cover for a mobile device and mobile device having same |
| CN102645783A (zh) * | 2011-05-18 | 2012-08-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板的制造方法 |
| TW201314517A (zh) * | 2011-09-30 | 2013-04-01 | Wintek Corp | 觸控裝置及觸控顯示裝置 |
| CN206133182U (zh) * | 2015-07-16 | 2017-04-26 | 许铭案 | 具彩色光阻图案的装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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