CN106293223A - 阵列基板及其制作方法、触摸屏 - Google Patents

Abstract

本发明提供的阵列基板及其制作方法、触摸屏，包括由上而下依次设置的触摸电极层、第一保护层和填充层，所述触摸电极层、第一保护层和填充层，其中，在触摸电极层上设置有挖空部，该挖空部的位置与亚像素单元的位置相对应；并且，其中一部分挖空部与间隙构成异形挖空部。填充层的位置与异形挖空部的位置相对应，且填充层与异形挖空部部分重叠，以使异显挖空部未与填充层重叠的非重叠部分的形状与挖空部的形状一致。在第一保护层上设置有第一开孔，且在第一开孔内设置有第一连接部，用以连接触摸电极层与填充层。本发明提供的阵列基板，其可以避免在模组显示灰阶画面下，显示面板上出现黑色条纹等不良。

Description

阵列基板及其制作方法、触摸屏

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种阵列基板及其制作方法、触摸屏。

背景技术

在现有的TFT-LCD产品的制造工艺中，无论是HIC还是FIC的互容式触摸屏，在进行分时驱动时，作为公共电极的ITO层用于分别传递公共信号和触摸信号，以目前HIC产品(内嵌式触控面板)为例，如图1所示，由设置在触控面板内部的公共电极兼做发射电极(Tx)1，成盒后，在彩膜基板的背面制作接收电极(Rx)2，其中，发射电极1和接收电极2的图案均为若干条状，且彼此垂直。

如图1所示，上述发射电极1的ITO层在显示面板的长边方向(竖直方向)设置有多个条状间隙12，各个条状间隙12与各个相邻的两个接收电极2之间的间隙相对应，在模组显示灰阶画面下，如图2所示，显示面板3上往往存在多个黑色条纹4，该黑色条纹4的数量与条状间隙12的数量一致。产生这种显示不良的原因在于：

如图3所示，在上述发射电极1的ITO层上设置有挖空部11，该挖空部11的位置与亚像素单元的位置相对应，且挖空部11在显示面板的长边方向上的长度为H1。而在条状间隙12处，条状间隙12和挖空部11构成异形挖空部，该异形挖空部在显示面板的长边方向上的长度为H2。由于异形挖空部的形状和尺寸与挖空部11的形状和尺寸不同，导致在异形挖空部处形成的电场及透过率与挖空部11之间存在差异，从而造成在模组显示灰阶画面下，显示面板上出现黑色条纹等不良。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种阵列基板及其制作方法、触摸屏，其可以避免在模组显示灰阶画面下，显示面板上出现黑色条纹等不良。

为实现本发明的目的而提供一种阵列基板，包括触摸电极层，所述触摸电极层包括多个间隙，各个间隙与各个相邻的两条接收电极之间的间隙一一对应，还包括第一保护层和填充层，所述触摸电极层、第一保护层和填充层由上而下依次设置，其中，

在所述触摸电极层上设置有挖空部，所述挖空部的位置与亚像素单元的位置相对应；并且，其中一部分挖空部与所述间隙构成异形挖空部；

所述填充层的位置与所述异形挖空部的位置相对应，且所述填充层与所述异形挖空部部分重叠，以使所述异显挖空部未与所述填充层重叠的非重叠部分的形状与所述挖空部的形状一致；

在所述第一保护层上设置有第一开孔，且在所述第一开孔内设置有第一连接部，用以连接所述触摸电极层与所述填充层。

可选的，还包括平坦化层，所述填充层设置在所述平坦化层上；

在所述第一保护层上设置有第二开孔，且在所述第二开孔内设置有第二连接部，用以连接所述亚像素单元中的电极和S/D金属层。

可选的，还包括第二保护层，所述第二保护层设置在所述触摸电极层上。

可选的，所述触摸电极层用作公共电极层。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种阵列基板的制作方法，其包括以下步骤：

S1，在平坦化层上形成填充层；

S2，在所述填充层上形成第一保护层；

S3，在所述第一保护层上形成触摸电极层；

在步骤S3中，在所述触摸电极层上设置有挖空部，所述挖空部的位置与亚像素单元的位置相对应；并且，其中一部分挖空部与所述间隙构成异形挖空部；

在步骤S1中，所述填充层的位置与所述异形挖空部的位置相对应，且所述填充层与所述异形挖空部部分重叠，以使所述异显挖空部未与所述填充层重叠的非重叠部分的形状与所述挖空部的形状一致；

在步骤S2中，在所述第一保护层上设置有第一开孔，且在所述第一开孔内设置有第一连接部，用以连接所述触摸电极层与所述填充层。

可选的，在步骤S2中，在所述第一保护层上设置有第二开孔，且在所述第二开孔内设置有第二连接部，用以连接所述亚像素单元中的电极和S/D金属层。

可选的，在步骤S3之后，还包括步骤S4：

在所述触摸电极层上形成第二保护层。

可选的，所述触摸电极层用作公共电极层。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种触摸屏，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述彩膜基板包括接收电极层和亚像素单元，所述接收电极层包括间隔设置的多条接收电极；所述阵列基板包括触摸电极层，所述触摸电极层包括间隔设置的多条触摸电极，所述多条触摸电极与所述多条接收电极垂直交叉排布；并且，每条触摸电极具有多个间隙，各个间隙与各个相邻的两条接收电极之间的间隙一一对应，所述阵列基板采用了本发明提供的上述阵列基板。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供的阵列基板及其制作方法、触摸屏的技术方案中，通过增设填充层，该填充层的位置与第一保护层上的异形挖空部的位置相对应，且填充层与异形挖空部部分重叠，可以使异显挖空部未与填充层重叠的非重叠部分的形状与挖空部的形状一致，从而可以使在异形挖空部处形成的电场及透过率与挖空部处形成的电场及透过率一致，进而可以避免在模组显示灰阶画面下，显示面板上出现黑色条纹等不良，从而可以改善显示效果。

附图说明

图1为发射电极和接收电极的结构示意图；

图2为显示面板出现黑色条纹的示意图；

图3为发射电极的ITO层的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的阵列基板的触摸电极层的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的阵列基板的填充层的结构示意图；

图6为触摸电极层和填充层的位置关系图；

图7为本发明实施例提供的阵列基板的第一保护层的结构示意图；

图8为第一保护层与填充层和触摸电极层的位置关系图。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图来对本发明提供的阵列基板及其制作方法、触摸屏进行详细描述。

请一并参阅图4-8，本发明实施例提供的阵列基板，其包括由上而下依次设置的触摸电极层5、第一保护层9、填充层8和平坦化层7。其中，触摸电极层5由若干条状结构组成，且与同样由若干条状结构组成的接收电极相互垂直，如图1所示。而且，对于每个条状结构，在显示面板的长边方向(竖直方向)设置有多个间隙52，各个间隙52与各个相邻的两条接收电极之间的间隙一一对应，如图4所示。

在触摸电极层5上设置有挖空部51，该挖空部51的位置与亚像素单元的位置相对应；并且，其中一部分挖空部51与间隙52构成异形挖空部，如图4所示，挖空部51在显示面板的长边方向上的长度为H1，而成异形挖空部在显示面板的长边方向上的长度为H2，H2大于H1，从而异形挖空部的形状和尺寸与挖空部11的形状和尺寸之间存在差异。

填充层8的位置与上述异形挖空部的位置相对应，且填充层8与异形挖空部部分重叠，具体来说，包括第一重叠部81和第二重叠部82。其中，第一重叠部81与间隙52完全重叠，从而使异显挖空部未与填充层8重叠的非重叠部分53的形状与挖空部51的形状一致，如图5所示，第一重叠部81在显示面板的长边方向上的长度H3与挖空部51在显示面板的长边方向上的长度为H1相等。第二重叠部82与触摸电极层5部分重叠，以便于二者之间的连接，如图6所示。借助填充层8，可以使在异形挖空部处形成的电场及透过率与挖空部51处形成的电场及透过率一致，进而可以避免在模组显示灰阶画面下，显示面板上出现黑色条纹等不良，从而可以改善显示效果。

此外，如图7和图8所示，在第一保护层9上，且位于第二重叠部82与触摸电极层5部分重叠的位置处设置有第一开孔91，且在该第一开孔91内设置有第一连接部(图中未示出)，用以连接触摸电极层5与填充层8，以使二者电导通，从而使异形挖空部处的电场和其余挖空部51处的电场一致。而且，在第一保护层9上，且位于挖空部51的位置处设置有第二开孔92，且在第二开孔92内设置有第二连接部(图中未示出)，用以连接亚像素单元中的电极和S/D金属层(图中未示出)。

可选的，阵列基板还包括第二保护层，该第二保护层设置在触摸电极层5上，用以将触摸电极层5与上层金属层(例如亚像素单元中的电极)相隔离。

可选的，触摸电极层5用作公共电极层，用于分别传递公共信号和触摸信号。

需要说明的是，在本实施例中，挖空部51的形状为矩形，但是本发明并不局限于此，在实际应用中，挖空部可以根据具体情况设计为任意形状，而异形挖空部的形状也随挖空部的形状不同而不同，因此，填充部的形状也会作适应性的设计，以使异显挖空部未与填充层重叠的非重叠部分的形状与挖空部的形状一致。

还需要说明的是，在本实施例中，阵列基板包括平坦化层7，填充层8设置在该平坦化层7上，但是本发明并不局限于此，在实际应用中，阵列基板也可以根据具体情况不设置平坦化层，或者在填充层8与平坦化层7之间还设置有其他功能膜层。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种阵列基板的制作方法，其包括以下步骤：

S1，在平坦化层上形成填充层；

S2，在填充层上形成第一保护层；

S3，在第一保护层上形成触摸电极层。

在步骤S3中，在触摸电极层上设置有挖空部，该挖空部的位置与亚像素单元的位置相对应；并且，其中一部分挖空部与间隙构成异形挖空部。该间隙是每个条状结构在显示面板的长边方向(竖直方向)上形成的间隙。

在步骤S1中，填充层的位置与异形挖空部的位置相对应，且填充层与所述异形挖空部部分重叠，以使异显挖空部未与填充层重叠的非重叠部分的形状与挖空部的形状一致。借助该填充层，可以使在异形挖空部处形成的电场及透过率与挖空部处形成的电场及透过率一致，进而可以避免在模组显示灰阶画面下，显示面板上出现黑色条纹等不良，从而可以改善显示效果。

在步骤S2中，在第一保护层上设置有第一开孔，且在该第一开孔内设置有第一连接部，用以连接触摸电极层与填充层，以使二者电导通，从而使异形挖空部处的电场和其余挖空部处的电场一致。而且，在第一保护层上设置有第二开孔，且在该第二开孔内设置有第二连接部，用以连接亚像素单元中的电极和S/D金属层。

可选的，在步骤S3之后，还包括步骤S4：

在触摸电极层上形成第二保护层。

可选的，触摸电极层用作公共电极层。

由于上述触摸电极层、第一保护层、填充层和平坦化层的结构和功能在前述实施例中已有了详细描述，在此不再赘述。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种触摸屏，其包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，其中，彩膜基板包括接收电极层和亚像素单元，该接收电极层包括间隔设置的多条接收电极。阵列基板包括触摸电极层，该触摸电极层包括间隔设置的多条触摸电极。多条触摸电极与多条接收电极垂直交叉排布。并且，每条触摸电极在显示面板的长边方向上具有多个间隙，各个间隙与各个相邻的两条接收电极之间的间隙一一对应。而且，该阵列基板采用了本发明提供的上述阵列基板。

本发明提供的触摸屏，其通过采用本发明提供的上述阵列基板，可以避免在模组显示灰阶画面下，显示面板上出现黑色条纹等不良，从而可以改善显示效果。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种阵列基板，包括触摸电极层，所述触摸电极层包括多个间隙，各个间隙与各个相邻的两条接收电极之间的间隙一一对应，其特征在于，还包括第一保护层和填充层，所述触摸电极层、第一保护层和填充层由上而下依次设置，其中，

在所述触摸电极层上设置有挖空部，所述挖空部的位置与亚像素单元的位置相对应；并且，其中一部分挖空部与所述间隙构成异形挖空部；

所述填充层的位置与所述异形挖空部的位置相对应，且所述填充层与所述异形挖空部部分重叠，以使所述异显挖空部未与所述填充层重叠的非重叠部分的形状与所述挖空部的形状一致；

在所述第一保护层上设置有第一开孔，且在所述第一开孔内设置有第一连接部，用以连接所述触摸电极层与所述填充层。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括平坦化层，所述填充层设置在所述平坦化层上；

在所述第一保护层上设置有第二开孔，且在所述第二开孔内设置有第二连接部，用以连接所述亚像素单元中的电极和S/D金属层。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括第二保护层，所述第二保护层设置在所述触摸电极层上。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述触摸电极层用作公共电极层。

5.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1，在平坦化层上形成填充层；

S2，在所述填充层上形成第一保护层；

S3，在所述第一保护层上形成触摸电极层；

在步骤S3中，在所述触摸电极层上设置有挖空部，所述挖空部的位置与亚像素单元的位置相对应；并且，其中一部分挖空部与所述间隙构成异形挖空部；

在步骤S1中，所述填充层的位置与所述异形挖空部的位置相对应，且所述填充层与所述异形挖空部部分重叠，以使所述异显挖空部未与所述填充层重叠的非重叠部分的形状与所述挖空部的形状一致；

在步骤S2中，在所述第一保护层上设置有第一开孔，且在所述第一开孔内设置有第一连接部，用以连接所述触摸电极层与所述填充层。

6.根据权利要求5所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在步骤S2中，在所述第一保护层上设置有第二开孔，且在所述第二开孔内设置有第二连接部，用以连接所述亚像素单元中的电极和S/D金属层。

7.根据权利要求5所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在步骤S3之后，还包括步骤S4：

在所述触摸电极层上形成第二保护层。

8.根据权利要求5所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述触摸电极层用作公共电极层。

9.一种触摸屏，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述彩膜基板包括接收电极层和亚像素单元，所述接收电极层包括间隔设置的多条接收电极；所述阵列基板包括触摸电极层，所述触摸电极层包括间隔设置的多条触摸电极，所述多条触摸电极与所述多条接收电极垂直交叉排布；并且，每条触摸电极具有多个间隙，各个间隙与各个相邻的两条接收电极之间的间隙一一对应，其特征在于，

所述阵列基板采用权利要求1-5任意一项所述的阵列基板。