CN106249485A - 液晶显示装置以及其制造方法 - Google Patents
液晶显示装置以及其制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106249485A CN106249485A CN201610330755.7A CN201610330755A CN106249485A CN 106249485 A CN106249485 A CN 106249485A CN 201610330755 A CN201610330755 A CN 201610330755A CN 106249485 A CN106249485 A CN 106249485A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- limit
- alignment films
- encapsulant
- substrate
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/133753—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134363—Electrodes characterised by their geometrical arrangement for applying an electric field parallel to the substrate, i.e. in-plane switching [IPS]
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133388—Constructional arrangements; Manufacturing methods with constructional differences between the display region and the peripheral region
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Geometry (AREA)
Abstract
本发明实现一种液晶显示装置,其具有实施了光取向处理的取向膜并能够确保密封部的可靠性且使边框区域变窄。在显示区域(10),进行基于紫外光对取向膜(20)的取向处理。在相对的第1边和第2边形成没有形成取向膜的区域(25),在相对的第3边和第4边形成对取向膜(20)的紫外光照射量为显示区域的1/4的区域(21)。在第1边和第2边,密封材料(30)与没有形成取向膜(20)的区域重叠,在第3边和第4边,密封材料(30)与紫外光照射量为显示区域的1/4以下的区域重叠。
Description
技术领域
本发明涉及显示装置,涉及使用光取向处理尤其针对规定的外形而扩大显示区域的能够形成所谓的窄边框的液晶显示装置。
背景技术
在液晶显示装置中配置有:TFT基板,其呈矩阵状地形成有具有像素电极以及薄膜晶体管(TFT)等的像素;和对置基板,其与TFT基板相对,且在与TFT基板的像素电极对应的位置形成有彩色滤光片等,在TFT基板与对置基板之间夹持有液晶。并且,通过针对每个像素控制基于液晶分子的光的透射率,来形成图像。
液晶显示装置平坦且轻量,因此在各个领域的用途广泛。在便携式电话和DSC(Digital Still Camera:数码相机)等中广泛使用小型的液晶显示装置。在小型的液晶显示装置中,强烈要求在保持小的外形的状态下扩大显示区域。于是,需要使从显示区域的端部到液晶显示装置的端部为止的宽度变小,形成为所谓的窄边框。
在边框区域形成有将TFT基板和对置基板粘接的密封材料。另外,在液晶显示装置的显示区域形成有用于使液晶初步取向的取向膜。由于取向膜需要可靠地覆盖显示区域,所以取向膜的涂敷面积必须比显示区域大规定宽度。取向膜的取向处理有摩擦取向(Rubbing)法和光取向处理(后面也称为光取向)。在“专利文献1”中记载有以下内容:通过使用光取向,(1)减少因像素部的复杂的层差结构引起的取向错乱,(2)防止来自因摩擦取向时产生的静电和摩擦布的毛端的杂乱以及因摩擦产生的异物等的影响。
液晶显示装置存在所谓的视角问题,但是IPS(In Plane Switching:广视角)方式通过使液晶分子在与基板平行的方向上旋转,来对从液晶层透射的光的量进行控制,因此具有视角良好的特性。另一方面,IPS方式的液晶显示装置不需要所谓的预倾角,因此适用于光取向。
尤其是在实施了光取向处理的取向膜中,在以往例子的结构中,若取向膜处于密封材料与TFT基板之间,或者处于密封材料与对置基板之间,则会破坏密封材料的粘接可靠性。因此,必须严格控制以免取向膜的涂敷端与密封材料重叠。
取向膜是通过印刷或喷涂等来涂敷的。由于取向膜材料是液体,所以会浸湿扩散,从而难以控制涂敷端。“专利文献2”中记载有如下的结构:在形成于显示区域的取向膜的外侧呈框状地形成第2取向膜,将该第2取向膜作为形成于显示区域的取向膜的止挡部,来控制显示区域的取向膜的涂敷范围。
现有技术文献
专利文献1:JP特开2004-206091号公报
专利文献2:JP特开2011-145535号公报
IPS方式的液晶显示装置具有良好的视角特性,用途广泛。另外,IPS方式不需要预倾角,因此适于光取向处理。取向膜的光取向处理是向取向膜照射300nm以下的偏振紫外光,使取向膜具有单轴各向异性(Uniaxial anisotropy)。当向取向膜照射紫外光时,紫外光使形成有取向膜的聚合物断开,因此实施了光取向处理的取向膜的机械强度降低。另外,密封材料与取向膜的粘接强度也降低。
因此,以往,进行控制以避免实施了光取向的取向膜与密封材料重叠,或者即使在实施了光取向的取向膜与密封材料不得不重叠的情况下,也不是全部重叠,而使一部分的取向膜与密封材料不重叠。
图14是示出了取向膜20与密封材料30不重叠的情况的结构的俯视图和剖视图。图14的(a)是俯视透视图。TFT基板100和对置基板200通过周边的密封材料30而粘接,在内部密封有液晶250。形成有覆盖显示区域10并到达显示区域10的外侧的取向膜20,在取向膜20的外侧形成有密封材料30。此外,对取向膜20进行光取向处理。
图14的(b)是图14的(a)的A-A线剖视图。在图14的(b)中,取向膜20与密封材料30不重叠。图14的(c)是图14的(a)的B-B线剖视图。在图14的(c)中,取向膜20与密封材料30不重叠。因此,能够充分确保密封部的粘接强度。
但是,还存在因形成窄边框而难以将取向膜20的外端部形成于密封材料30的内侧的类型。图15是示出通过使密封材料30的宽度方向上的一部分即靠显示区域10一侧与取向膜20重叠来减小边框的宽度的结构的图,图15的(a)是俯视图。在图15的(a)中,显示区域10形成在密封材料30的内侧,密封材料的宽度方向内侧与取向膜20重叠。
图15的(b)是图15的(a)的A-A线剖视图。在图15的(b)中,取向膜20与密封材料30的局部重叠,而不是与密封材料30的整个面都重叠,在取向膜20与密封材料30不重叠的部分确保密封材料30的粘接强度。图15的(c)是图15的(a)的B-B线剖视图。在图15的(c)中,取向膜20与密封材料30的局部重叠,而不是与密封材料30的整个面都重叠,在取向膜20与密封材料30不重叠的部分确保密封材料30的粘接强度。
但是,为了形成图14或图15那样的结构,需要准确控制取向膜20的四边的端部的位置。取向膜20是通过柔性版印刷或喷涂等涂敷的,因此外形的控制并不简单。
发明内容
本发明要解决的问题是实现一种取向膜的外形控制容易且确保了密封部的可靠性的液晶显示装置。
本发明为了克服上述问题,具体的手段如下。
(1)一种液晶显示装置,其使具有第1取向膜的第1基板和具有第2取向膜的第2基板通过密封材料而粘接,在所述第1基板与所述第2基板之间夹持有液晶,所述液晶显示装置的特征在于,所述第1取向膜和所述第2取向膜在显示区域接受基于紫外光的光取向处理,所述第1基板具有第1边、与第1边相对的第2边、第3边和与第3边相对的第4边,在所述第1边存在与所述第1边平行且具有第1宽度的不存在所述第1取向膜的第1区域,所述密封材料的至少一部分与所述第1区域重叠,在所述第2边存在与所述第2边平行且具有第2宽度的不存在所述第1取向膜的第2区域,所述密封材料的至少一部分与所述第2区域重叠,在所述第3边存在与所述第3边平行且紫外光的照射量为所述显示区域的1/4以下的第3区域,所述第3区域与所述密封材料重合重叠的宽度为所述第3边上的所述密封材料的宽度的1/4以上,在所述第4边存在与所述第4边平行且取向膜的双折射相位差(retardation、延迟量)为所述显示区域的1/4以下的第4区域,所述第4区域与所述密封材料重合重叠的宽度为所述第4边上的所述密封材料的宽度的1/4以上。
(2)一种液晶显示装置,其使具有第1取向膜的第1基板和具有第2取向膜的第2基板通过密封材料而粘接,并在所述第1基板与所述第2基板之间夹持有液晶,所述液晶显示装置的特征在于,所述第1取向膜和所述第2取向膜在显示区域接受基于紫外光的光取向处理,所述第1基板具有第1边、与第1边相对的第2边、第3边和与第3边相对的第4边,所述第1取向膜与所述密封材料重叠,在所述第1边存在与所述第1边平行且紫外光的照射量为所述显示区域的1/4以下的第1区域,所述第1区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第1边上的所述密封材料的宽度的1/4以上,在所述第2边存在与所述第2边平行且取向膜的双折射相位差(retardation)为所述显示区域的1/4以下的第2区域,所述第2区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第2边上的所述密封材料的宽度的1/4以上。
(3)一种液晶显示装置的制造方法,将形成有多个第1基板且具有第1取向膜的第1母板和形成有多个第2基板且具有第2取向膜的第2母板通过密封材料而粘接,此后进行分离来形成液晶显示装置,所述液晶显示装置的制造方法的特征在于,包括:以在所述第1母板的所述第1基板的第1方向上的边界部形成具有规定宽度且不存在取向膜的区域的方式涂敷第1取向膜的工序;以及对所述第1母板的所述第1取向膜进行基于紫外光的光取向处理的光取向处理工序,在所述光取向处理工序中,在所述第1母板的所述第1基板的与所述第1方向成直角方向的第2方向上的边界部被设为取向膜的双折射相位差(retardation)为显示区域的1/4以下,所述密封材料以至少一部分与不存在所述第1取向膜的区域重叠的方式形成,并且所述密封材料以与在所述第1取向膜中的所述取向膜的双折射相位差(retardation)为显示区域的1/4以下的区域重叠的方式形成。
(4)上述(3)所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于,所述取向膜由柔性版印刷形成,所述柔性版印刷的基于印刷辊的印刷方向是所述第1方向。
(5)一种液晶显示装置的制造方法,将形成有多个第1基板且具有第1取向膜的第1母板和形成有多个第2基板且具有第2取向膜的第2母板通过密封材料粘接,此后进行分离来形成液晶显示装置,所述液晶显示装置的制造方法的特征在于,包括:涂敷所述第1母板的所述第1取向膜的工序;以及对所述第1母板的所述第1取向膜进行基于紫外光的光取向处理的光取向处理工序,在所述光取向处理工序中,所述第1母板的所述第1基板的第1方向上的边界部被设为紫外光的照射量为显示区域的1/4以下,所述密封材料以与在所述第1取向膜中的所述紫外光的照射量为显示区域的1/4以下的区域重叠的方式形成。
发明效果
根据本发明,在具有实施了光取向处理的取向膜的液晶显示装置中,能够维持密封部的可靠性并且减小显示区域与液晶显示装置的外形之间的间隔即减小边框区域。
附图说明
图1是本发明的实施例1的液晶显示装置的图。
图2是表示取向膜的紫外光照射量与取向膜和密封材料之间的粘接力的关系的曲线图。
图3是评价对取向膜照射偏振紫外光的照射量的系统。
图4是表示实施例1的另一方式的液晶显示装置的图。
图5是本发明的取向膜涂敷方法的示意图。
图6是表示本发明的紫外光照射图案的俯视图。
图7表示本发明的紫外光照射方法的剖视图。
图8是表示本发明的紫外光照射方法的俯视图。
图9是在本发明中使用的紫外光照射掩膜的例子。
图10是在本发明中使用的紫外光照射掩膜的另一例子。
图11是在本发明中使用的紫外光照射掩膜的又一例子。
图12是本发明的实施例2的液晶显示装置的图。
图13是表示实施例2的另一方式的液晶显示装置的图。
图14是以往例子的液晶显示装置的图。
图15是表示以往例子的液晶显示装置的另一例子的图。
图16是表示延迟量(Retardation)与紫外光照射量之间的关系的曲线图。
附图标记说明如下:
10显示区域,20取向膜,21照射量小区域,25无取向膜区域,26取向膜的偏振轴,30密封材料,50掩膜,51掩膜框,55线,60石英掩膜,70第1偏振片,71第1偏振片的偏振轴,80第2偏振片,81第2偏振片的偏振轴,100TFT基板,110母TFT基板,150端子部,200对置基板,250液晶,300印刷辊,310印刷方向,320基板前进方向,400曝光机,410固定台,420光源,430光取向用曝光用光
具体实施方式
以下使用实施例详细说明本发明。
实施例1
图1是表示本发明的实施例1的液晶显示装置的图,图1的(a)是俯视图。在图1的(a)中,TFT基板100与对置基板200通过密封材料30而粘接。在图1的(a)中,取向膜20接受光取向处理。在图1的(a)的TFT基板100或对置基板200的短边侧的两边存在未形成有取向膜20的区域25。在该情况下,如之后说明的那样,能够比较准确地控制图1的(a)中的取向膜20的长边的宽度L。在图1的(a)的长边侧两边分别形成有区域21,在该区域21中,用于对取向膜20进行光取向的紫外光的照射量为显示区域10中的用于对取向膜进行光取向的紫外光的照射量的1/4以下。
图1(b)是图1(a)的A-A剖视图。在图1的(b)中,TFT基板100和对置基板200通过密封材料30而粘接,在TFT基板100与对置基板200之间夹持有液晶250。在图1的(b)中,密封材料30的一部分与取向膜20重叠。取向膜20接受基于偏振紫外光(以后也仅称为紫外光)的光取向处理,与密封材料30之间的粘接力小,但在密封材料30不与取向膜20重叠的部分,该密封材料30的粘接力得以保持。
图1的(c)是图1的(a)的B-B线剖视图。在图1的(c)中,密封材料30到外侧端部为止都与取向膜20重叠。取向膜20的与密封材料30重叠的部分中的宽度为w2的区域21的紫外光的照射量为显示区域10的照射量的1/4以下。另外,在密封材料30的宽度为w1的情况下,w2≥w1/4。在宽度为w2的区域,紫外光的照射量小,因此将取向膜20与密封材料30之间的粘接力的降低抑制得少,从而确保了密封部的可靠性。
图2是取向膜20与密封材料30的粘接强度和用于对取向膜进行光取向的紫外光照射量(以后仅称为紫外光照射量)之间的关系的曲线图。在图2中,横轴表示对密封部的取向膜的紫外光照射量,将显示区域的紫外光照射量设为1。纵轴表示密封材料与取向膜之间的粘接强度,将照射光取向性最高的紫外光量的取向膜与密封材料间的粘接力设为1。如图2中的(a)所示,可知用于光取向的紫外光照射量越少,取向膜与之后形成的密封部的紧贴性越高。例如在图2中的(a),在没有照射紫外光的情况下,密封材料与取向膜的耐负荷增加到光取向性最高的紫外光量时的2倍。另外,即使不这样完全遮光,若能够减少密封部的紫外光照射量,则根据遮光率增加紧贴性,从而提高液晶显示装置的可靠性。
对密封部的紫外光照射量减少的面积即使是局部,也能够增加紧贴性。图2中的(b)是在密封部的取向膜正上方的1/4面积配置了厚度为60μm的遮光掩膜来进行遮光时的结果。在(b)中,对遮光掩膜正下方的形成有密封部的取向膜部的照射量为没有遮光掩膜时的照射量的1/4。如图2中的(b)所示,通过使密封部的1/4区域的紫外光照射量为显示区域的1/4,密封材料与取向膜的粘接强度与不实施密封部遮光而照射与显示区域同等量的紫外光的情况相比,能够将粘接强度改善为提高1.2倍。因此,在本发明中,在密封部的取向膜中,将紫外光照射量为显示区域的1/4以下的区域与密封材料重叠的宽度w2设为密封材料的宽度w1的1/4以上,由此确保了密封材料与取向膜的长边上的粘接强度。
图3是紫外光的照射量的评价方法。形成有密封部的取向膜部的宽度非常窄,难以使用通常的积分光度计进行测定。因此,照射量根据取向膜的延迟量测定值来进行换算。在图3中,偏振轴71为45度的第1偏振片70、用于对偏振紫外光的照射量进行评价的取向膜20和偏振轴81为135度的第2偏振片80沿着光的前进方向排列。入射至第1偏振片70的光IN被偏振成45度方向。如果不对取向膜20进行取向处理,则从第1偏振片70通过的光的偏振方向不变,因此该光被第2偏振片80遮挡,图3中的出射光OUT为零。
当通过对取向膜20照射偏振紫外光而以具有箭头那样的取向轴26的方式对取向膜20进行取向处理时,从第1偏振片70通过的光的偏振状态因从取向膜20通过而变化。于是,能够使入射光IN的一部分从第2偏振片80通过。并且,通过使对取向膜20照射的紫外光的照射量变大,从第1偏振片70通过的光的偏振状态的变化变大,从第2偏振片80通过的光的量变多。由于取向膜20的取向强度与偏振紫外光的照射量成正比地变大,所以通过对从第2偏振片80通过的光的量进行测定,能够评价对取向膜20照射的紫外光的照射量。图16示出了对取向膜照射的紫外光照射量与延迟量之间的关系。根据该图可知,对取向膜的延迟量进行测定,例如在其值从1.33下降到0.50的情况下,对应位置处的照射量从1.0下降到0.33。此外,因为延迟量的绝对值根据所使用的取向膜的种类、膜厚而变化,所以需要预先评价关系,但在大多情况下延迟量相对于照射量的相对变化率大体相同,在像本发明这样形成有使照射量降低得多的位置的情况下,若延迟量测定值为1/4,则能够判断出照射量也变为1/4以下。
图4是实施例1的另一方式。图4的(a)是俯视图。图4的(a)与图1的(a)不同之处在于,不存在取向膜20的区域为TFT基板100或对置基板200的长边侧,对取向膜20照射的紫外光照射量少的区域位于TFT基板100或对置基板200的短边侧。在图4的(a)中,取向膜20接受光取向处理。在图4的(a)的TFT基板100或对置基板200的长边侧两边存在未形成有取向膜20的区域。此时,如后面说明的那样,能够比较准确地控制图4的(a)中的取向膜20的短边S的宽度。在图4的(a)的短边侧两边存在区域21,区域21中的用于对取向膜20进行光取向的紫外光的照射量为显示区域10中的用于对取向膜进行光取向的紫外光的照射量的1/4以下。
图4的(b)是图4的(a)的A-A线剖视图。在图4的(b)中,密封材料30到外侧端部为止都与取向膜20重叠。与密封材料30重叠的取向膜20中宽度为w2的区域21的紫外光的照射量为显示区域10的照射量的1/4以下。另外,在密封材料30的宽度为w1的情况下,w2≥w1/4。在宽度为w2的区域中,由于紫外光的照射量小,所以能够将取向膜20与密封材料30间的粘接力的降低抑制得小,确保了密封部的可靠性。
图4的(c)是图4的(a)的B-B线剖视图。在图4的(c)中,密封材料30的一部分与取向膜20重叠。取向膜20接受基于偏振紫外光的光取向处理,与密封材料30之间的粘接力小,但在密封材料30不与取向膜20重叠的部分,密封材料30的粘接力得以确保。
图5是通过柔性版印刷形成本发明的取向膜20的情况的示意图。液晶显示面板通过如下方式形成,即,在母板上形成多个液晶显示面板,并通过划线(scribe)等将其分离。母板是使形成有多个TFT基板的母TFT基板和形成有多个对置基板的母对置基板贴合而形成的。在图5中,示出了在母TFT基板110上形成有18张TFT基板100的状态。虚线与1个TFT基板100对应,TFT基板100由显示区域10和端子部150形成。在柔性版印刷中,取向膜20是通过将涂敷形成于印刷辊300上的取向膜材料转印至母TFT基板而形成的。
箭头310表示印刷辊一边旋转一边前进的方向。取向膜20并不是涂敷在母TFT基板的整个面上,而如图5那样地印刷为条带状。在图5中不存在取向膜20的部分21相当于图1中的TFT基板100的短边侧的不存在取向膜的部分21。本发明的优点在于,能够如以往那样通过使印刷辊300旋转来形成不存在取向膜的区域21。
另外,需要准确地确定不存在取向膜的区域21的尺寸。就利用印刷辊300形成的印刷图案而言,印刷辊300的前进方向受到印刷版的伸长等的影响,从而难以准确地控制所涂敷的取向膜的尺寸。另一方面,能够准确地控制与印刷辊300成直角的方向即印刷辊的轴向上的尺寸。本发明中,在TFT基板100或对置基板200中,通过将图1中的L尺寸的方向设定为印刷辊的轴向,来准确地控制L尺寸。
另一方面,在图5中的取向膜20的条带延伸的方向,即图1中的TFT基板100或对置基板200的长边,在取向膜2形成在整个面上,因此若与显示区域10同样地利用偏振紫外光对该部分进行光取向,则取向膜20与密封材料30间的粘接力变弱。因此,在本发明中,通过使对图1中的TFT基板100或对置基板200的长边端部所形成的取向膜20照射的紫外光的量为对显示区域10照射的紫外光的1/4以下,确保了TFT基板100或对置基板200的长边的粘接强度。
如图6所示,将紫外光的照射量减小的区域,是通过在照射紫外光时在与各TFT基板100的长边边界部对应的部分配置掩膜来形成的。在图6中,照射紫外光少的区域21是标注了剖面线的条带状的区域。
图7是表示一边形成紫外光照射量少的区域一边对母TFT基板110照射用于光取向的紫外光的工序的剖视图。在图7中,在具有光源420的曝光机400的下方配置有用于形成紫外光照射少的区域的掩膜50。曝光机400通过固定台410而固定。当母TFT基板110在掩膜50的下方移动时,母TFT基板110被曝光用光430曝光。在本发明中,由于能够一边扫描母TFT基板110一边曝光,所以能够缩短工序时间。
另外,所使用的掩膜50可以具有遮光部的宽度为大约几mm左右的粗略的尺寸,所以掩膜50与基板110的间隔d能够为1mm左右,这一点也使得扫描基板110变容易。
图8是表示本发明的用于光取向的紫外光照射的工序的俯视图。在图8中,在曝光机400的下方配置有用于形成紫外光照射少的区域的掩膜50。图8中的掩膜50的桥接部是用于在取向膜上形成紫外光照射少的区域的掩膜区域,宽度wb为mm(毫米)等级。在图8中,印刷有取向膜20的母TFT基板100在掩膜的下方沿着箭头320的方向扫描,在此期间内进行基于照射紫外光的光取向。
紫外光照射少的区域是在图8的母TFT基板100上示出的TFT基板100的边界部。该部分与掩膜50的桥接部对应。即,在对TFT基板100的显示区域10进行光取向处理的同时,形成紫外光照射量少的区域。在图8的母TFT基板110中,在与基板110的扫描方向成直角的方向上不存在取向膜的部分形成为条带状。该部分相当于图1中的TFT基板100的短边侧的不存在取向膜的部分21。
图9是表示掩膜50的例子的俯视图。在图9中,桥接部用于形成紫外光照射少的区域。这样的掩膜50例如能够通过对薄的金属板进行冲压或蚀刻等来形成。由于桥的宽度wb为mm等级,所以不需要进行高度(高级)的尺寸控制。
图10是表示掩膜50的另一例子的俯视图。本发明中的掩膜50不需要完全遮挡紫外光,只要为显示区域的强度的1/4以下即可。因此,允许紫外光迂回。由此,能够以成本优先地制作掩膜50。图10中的用于形成紫外光照射量少的区域的掩膜是使用金属线(wire)55来形成的。该金属线55例如是吉他的弦那样的线。图10的优点在于,对于母TFT基板110中的TFT基板100的大小不同的品种,仅通过移动金属线55的位置就能够应对各品种,不需要针对各个品种制作掩膜。
图11是在本发明中所使用的掩膜50的又一例子的俯视图。一般的光掩膜为了抑制热膨胀等而使用石英玻璃。但是,石英玻璃不适于制造大的掩膜。在图11中,在掩膜框51内将小的石英玻璃60组合成平面状来制作掩膜50。即,在本发明中,也能够根据需要而使用石英玻璃60作为掩膜。
以上的取向膜涂敷工序以及紫外光照射工序主要与母TFT基板对应地进行了说明,但在母对置基板的情况下也同样。另外,在以上的说明中,结合图1说明了取向膜的印刷图案以及紫外光的照射图案等,在图4的情况下也同样。即,在适用于图4的情况下,只要假设将母TFT基板的TFT基板或母对置基板的对置基板的图案相对于图1旋转90度的情况即可。
实施例2
图12是表示本发明的实施例2的液晶显示装置,图12的(a)是俯视图。在图12的(a)中,TFT基板100和对置基板200经由密封材料30而粘接。在对置基板200的整个面上形成有取向膜20,在TFT基板100的除了端子部150以外的整个面上形成有取向膜20。取向膜20接受基于紫外光的光取向处理。在图12的(a)中,在TFT基板100或对置基板200的长边侧的标注有剖面线的部分21,紫外光照射量为显示区域的紫外光照射量的1/4以下。因此,该部分的密封材料30与取向膜20的粘接强度比其他部分强。
图12的(b)是图12的(a)的A-A线剖视图。在图12的(b)中,TFT基板100和对置基板200通过密封材料30而粘接,在TFT基板100与对置基板200之间夹持有液晶层250。TFT基板100侧和对置基板200侧都在整个面上形成有取向膜20,取向膜20接受基于紫外光的光取向处理。
图12的(c)是图12的(a)的B-B线剖视图。在图12的(b)中,TFT基板100和对置基板200通过密封材料30而粘接,在TFT基板100与对置基板200之间夹持有液晶层250。密封材料30的宽度为w1。在图12的(c)中,在TFT基板100以及对置基板200的整个面形成有取向膜20。取向膜20为了光取向而接受偏振紫外光的照射,但是用剖面线示出的取向膜的端部区域21的紫外光的照射量为显示区域的照射量的1/4以下。并且,该部分在宽度w2的区域与密封材料30重叠,所以在该部分,能够确保密封部的粘接强度,从而能够确保可靠性。在该情况下,w2≥w1/4。在本实施例中,形成将紫外光曝光量设为显示区域的曝光量的1/4以下的区域21的方法与实施例1中说明的方法相同。
在图12的(b)中,密封材料30和接受与显示区域10同样的紫外光照射的取向膜20粘接,所以粘接力与不照射紫外光的情况相比较弱,但是在本实施例中,在图12的(c)所示的截面即图12的(a)的长边侧,形成将紫外光曝光量设为显示区域的曝光量的1/4以下的区域21,由此,来增大密封材料30与取向膜20的粘接力,从而确保了可靠性。
图13是表示本发明的实施例2的另一方式的液晶显示装置,图13的(a)是俯视图。在图13的(a)中,TFT基板100和对置基板200通过密封材料30而粘接。在对置基板200的整个面上形成有取向膜20,在TFT基板100的除了端子部150以往的整个面上形成有取向膜20。取向膜20接受基于紫外光的光取向处理。在图13的(a)中,在TFT基板100或对置基板200的短边侧的标注剖面线的区域21的紫外光照射量为显示区域10的紫外光照射量的1/4以下。因此,该部分的密封材料30与取向膜20的粘接强度比其他部分强。
图13的(b)是图13的(a)的A-A线剖视图。在图13的(b)中,TFT基板100和对置基板200通过密封材料30而粘接,在TFT基板100与对置基板200之间夹持有液晶层250。密封材料30的宽度为w1。在图13的(b)中,在TFT基板100以及对置基板200的整个面形成有取向膜20。取向膜20为了进行光取向而接受偏振紫外光的照射,但是用剖面线示出的取向膜的端部区域21的紫外光的照射量为显示区域的照射量的1/4以下。并且,由于该部分在宽度w2的区域与密封材料30重叠,所以在该部分能够确保密封部的粘接强度,从而能够确保可靠性。在该情况下,w2≥w1/4。在本实施例中,形成紫外光曝光量为显示区域的曝光量的1/4以下的区域的方法与实施例1中说明的方法相同。
图13的(c)是图13的(a)的B-B线剖视图。在图13的(c)中,在TFT基板100和对置基板200的整个面形成有取向膜,取向膜20接受基于紫外光的光取向处理。因此,在图13的(c)中,密封材料30和接受与显示区域10同样的紫外光照射的取向膜20粘接,因此粘接力与不照射紫外光的情况相比较弱,在本实施例中,在图13的(b)所示的截面即图13的(a)的短边侧,形成紫外光曝光量为显示区域10的曝光量的1/4以下的区域21,由此,增大密封材料30与取向膜20的粘接力,确保了可靠性。
像这样,根据实施例2,能够在对置基板200的整个面以及TFT基板100的除了端子部150以外的整个面涂敷取向膜20,所以不需要高度地控制取向膜20的涂敷尺寸,所以生产性良好。另外,通过在TFT基板100或对置基板200的短边侧的端部或长边侧的端部形成紫外光照射量为显示区域的1/4的区域21,来确保密封材料30与取向膜20的粘接强度,因此还能够维持密封部的可靠性。
在以上的说明中,说明了通过柔性版印刷来涂敷取向膜的情况,但是也能够应用于利用其他涂敷方法、例如喷涂方式的取向膜涂敷的情况。另外,即使因工艺等的制约而仅将本发明应用于TFT基板和对置基板中的某一方的情况,也能够获得规定的效果。
Claims (15)
1.一种液晶显示装置,其使具有第1取向膜的第1基板和具有第2取向膜的第2基板通过密封材料而粘接,并在所述第1基板与所述第2基板之间夹持有液晶,所述液晶显示装置的特征在于,
所述第1取向膜和所述第2取向膜在显示区域接受基于紫外光的光取向处理,
所述第1基板具有第1边、与第1边相对的第2边、第3边和与第3边相对的第4边,
在所述第1边存在与所述第1边平行且具有第1宽度的不存在所述第1取向膜的第1区域,所述密封材料的至少一部分与所述第1区域重叠,
在所述第2边存在与所述第2边平行且具有第2宽度的不存在所述第1取向膜的第2区域,所述密封材料的至少一部分与所述第2区域重叠,
在所述第3边存在与所述第3边平行且取向膜的双折射相位差为所述显示区域的1/4以下的第3区域,所述第3区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第3边上的所述密封材料的宽度的1/4以上,
在所述第4边存在与所述第4边平行且取向膜的双折射相位差为所述显示区域的1/4以下的第4区域,所述第4区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第4边上的所述密封材料的宽度的1/4以上。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置,其特征在于,
所述第2基板具有第1边、与第1边相对的第2边、第3边和与第3边相对的第4边,
所述第1基板的所述第1边、所述第2边、所述第3边、所述第4边分别与所述第2基板的所述第1边、所述第2边、所述第3边、所述第4边对应,
在所述第2基板的所述第1边存在与所述第1边平行且具有第1宽度的不存在所述第1取向膜的第1区域,所述密封材料的至少一部分与所述第1区域重叠,
在所述第2基板的所述第2边存在与所述第2边平行且具有第2宽度的不存在所述第1取向膜的第2区域,所述密封材料的至少一部分与所述第2区域重叠,
在所述第2基板的所述第3边存在与所述第3边平行且取向膜的双折射相位差为所述显示区域的1/4以下的第3区域,所述第3区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第3边上的所述密封材料的宽度的1/4以上,
在所述第2基板的所述第4边存在与所述第4边平行且取向膜的双折射相位差为所述显示区域的1/4以下的第4区域,所述第4区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第4边上的所述密封材料的宽度的1/4以上。
3.一种液晶显示装置,其使具有第1取向膜的第1基板和具有第2取向膜的第2基板通过密封材料而粘接,并在所述第1基板与所述第2基板之间夹持有液晶,所述液晶显示装置的特征在于,
所述第1取向膜和所述第2取向膜在显示区域接受基于紫外光的光取向处理,
所述第1基板具有第1边、与第1边相对的第2边、第3边和与第3边相对的第4边,
所述第1取向膜与所述密封材料重叠,
在所述第1边存在与所述第1边平行且取向膜的双折射相位差为所述显示区域的1/4以下的第1区域,所述第1区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第1边上的所述密封材料的宽度的1/4以上,
在所述第2边存在与所述第2边平行且取向膜的双折射相位差为所述显示区域的1/4以下的第2区域,所述第2区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第2边上的所述密封材料的宽度的1/4以上。
4.如权利要求3所述的液晶显示装置,其特征在于,
所述第2基板具有第1边、与第1边相对的第2边、第3边和与第3边相对的第4边,
所述第1基板的所述第1边、所述第2边、所述第3边、所述第4边分别与所述第2基板的所述第1边、所述第2边、所述第3边、所述第4边对应,
所述第2取向膜与所述密封材料重叠,
在所述第2基板的所述第1边存在与所述第1边平行且取向膜的双折射相位差为所述显示区域的1/4以下的第1区域,所述第1区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第1边上的所述密封材料的宽度的1/4以上,
在所述第2基板的所述第2边存在与所述第2边平行且取向膜的双折射相位差为所述显示区域的1/4以下的第2区域,所述第2区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第2边上的所述密封材料的宽度的1/4以上。
5.一种液晶显示装置的制造方法,将形成有多个第1基板且具有第1取向膜的第1母板和形成有多个第2基板且具有第2取向膜的第2母板通过密封材料而粘接,此后进行分离来形成液晶显示装置,所述液晶显示装置的制造方法的特征在于,
包括:
以在所述第1母板的所述第1基板的第1方向上的边界部形成具有规定宽度且不存在取向膜的区域的方式涂敷第1取向膜的工序;以及
对所述第1母板的所述第1取向膜进行基于紫外光的光取向处理的光取向处理工序,
在所述光取向处理工序中,在所述第1母板的所述第1基板的与所述第1方向成直角方向的第2方向上的边界部被设为取向膜的双折射相位差为显示区域的1/4以下,
所述密封材料以至少一部分与不存在所述第1取向膜的区域重叠的方式形成,并且所述密封材料以与在所述第1取向膜中的所述取向膜的双折射相位差为显示区域的1/4以下的区域重叠的方式形成。
6.权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于,
包括:
以在所述第2母板的所述第2基板的第1方向上的边界部形成具有规定宽度且不存在取向膜的区域的方式涂敷第2取向膜的工序;以及
对所述第2母板的所述第2取向膜进行基于紫外光的光取向处理的光取向处理工序,
在所述光取向处理工序中,在所述第2母板的所述第2基板的与所述第1方向成直角方向的第2方向上的边界部被设为取向膜的双折射相位差为所述显示区域的1/4以下,
所述密封材料以至少一部分与不存在所述第2取向膜的区域重叠的方式形成,并且,所述密封材料以与所述第2取向膜中的所述取向膜的双折射相位差为显示区域的1/4以下的区域重叠的方式形成。
7.如权利要求5或6所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于,
所述取向膜由柔性版印刷形成,所述柔性版印刷的基于印刷辊的印刷方向是所述第1方向。
8.一种液晶显示装置的制造方法,将形成有多个第1基板且具有第1取向膜的第1母板和形成有多个第2基板且具有第2取向膜的第2母板通过密封材料而粘接,此后进行分离来形成液晶显示装置,所述液晶显示装置的制造方法的特征在于,
包括:
涂敷所述第1母板的所述第1取向膜的工序;以及
对所述第1母板的所述第1取向膜进行基于紫外光的光取向处理的光取向处理工序,
在所述光取向处理工序中,所述第1母板的所述第1基板的第1方向上的边界部被设为紫外光的照射量为显示区域的1/4以下,
所述密封材料以与在所述第1取向膜中的所述紫外光的照射量为显示区域的1/4以下的区域重叠的方式形成。
9.如权利要求8所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于,
包括:
涂敷所述第2母板的所述第2取向膜的工序;以及
对所述第2母板的所述第2取向膜进行基于紫外光的光取向处理的光取向处理工序,
在所述光取向处理工序中,所述第2母板的所述第2基板的所述第1方向上的边界部被设为紫外光的照射量为显示区域的1/4以下,
所述密封材料以与在所述第2取向膜中的所述紫外光的照射量为显示区域的1/4以下的区域重叠的方式形成。
10.一种液晶显示装置,其使具有第1取向膜的第1基板与具有第2取向膜的第2基板通过密封材料而粘接,并在所述第1基板与所述第2基板之间夹持有液晶,所述液晶显示装置的特征在于,
所述第1取向膜和所述第2取向膜在显示区域接受基于紫外光的光取向处理,
所述第1基板具有第1边、与第1边相对的第2边、第3边和与第3边相对的第4边,
在所述第1边存在与所述第1边平行且具有第1宽度的不存在所述第1取向膜的第1区域,所述密封材料的至少一部分与所述第1区域重叠,
在所述第2边存在与所述第2边平行且具有第2宽度的不存在所述第1取向膜的第2区域,所述密封材料的至少一部分与所述第2区域重叠,
在所述第3边存在与所述第3边平行且紫外光的照射量为所述显示区域的1/4以下的第3区域,所述第3区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第3边上的所述密封材料的宽度的1/4以上,
在所述第4边存在与所述第4边平行且紫外光的照射量为所述显示区域的1/4以下的第4区域,所述第4区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第4边上的所述密封材料的宽度的1/4以上。
11.如权利要求10所述的液晶显示装置,其特征在于,
所述第2基板具有第1边、与第1边相对的第2边、第3边和与第3边相对的第4边,
所述第1基板的所述第1边、所述第2边、所述第3边、所述第4边分别与所述第2基板的所述第1边、所述第2边、所述第3边、所述第4边对应,
在所述第2基板的所述第1边存在与所述第1边平行且具有第1宽度的不存在所述第1取向膜的第1区域,所述密封材料的至少一部分与所述第1区域重叠,
在所述第2基板的所述第2边存在与所述第2边平行且具有第2宽度的不存在所述第1取向膜的第2区域,所述密封材料的至少一部分与所述第2区域重叠,
在所述第2基板的所述第3边存在与所述第3边平行且紫外光的照射量为所述显示区域的1/4以下的第3区域,所述第3区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第3边上的所述密封材料的宽度的1/4以上,
在所述第2基板的所述第4边存在与所述第4边平行且紫外光的照射量为所述显示区域的1/4以下的第4区域,所述第4区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第4边上的所述密封材料的宽度的1/4以上。
12.一种液晶显示装置,其使具有第1取向膜的第1基板和具有第2取向膜的第2基板通过密封材料而粘接,并在所述第1基板与所述第2基板之间夹持有液晶,所述液晶显示装置的特征在于,
所述第1取向膜和所述第2取向膜在显示区域接受基于紫外光的光取向处理,
所述第1基板具有第1边、与第1边相对的第2边、第3边和与第3边相对的第4边,
所述第1取向膜与所述密封材料重叠,
在所述第1边存在与所述第1边平行且紫外光的照射量为所述显示区域的1/4以下的第1区域,所述第1区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第1边上的所述密封材料的宽度的1/4以上,
在所述第2边存在与所述第2边平行且紫外光的照射量为所述显示区域的1/4以下的第2区域,所述第2区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第2边上的所述密封材料的宽度的1/4以上。
13.如权利要求12所述的液晶显示装置,其特征在于,
所述第2基板具有第1边、与第1边相对的第2边、第3边和与第3边相对的第4边,
所述第1基板的所述第1边、所述第2边、所述第3边、所述第4边分别与所述第2基板的所述第1边、所述第2边、所述第3边、所述第4边对应,
所述第2取向膜与所述密封材料重叠,
在所述第2基板的所述第1边存在与所述第1边平行且紫外光的照射量为所述显示区域的1/4以下的第1区域,所述第1区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第1边上的所述密封材料的宽度的1/4以上,
在所述第2基板的所述第2边存在与所述第2边平行且紫外光的照射量为所述显示区域的1/4以下的第2区域,所述第2区域与所述密封材料重叠的宽度为所述第2边上的所述密封材料的宽度的1/4以上。
14.一种液晶显示装置的制造方法,将形成有多个第1基板且具有第1取向膜的第1母板和形成有多个第2基板且具有第2取向膜的第2母板通过密封材料而粘接,此后进行分离来形成液晶显示装置,所述液晶显示装置的制造方法的特征在于,
包括:
以在所述第1母板的所述第1基板的第1方向上的边界部形成有具有规定宽度且不存在取向膜的区域的方式涂敷第1取向膜的工序;以及
对所述第1母板的所述第1取向膜进行基于紫外光的光取向处理的光取向处理工序,
在所述光取向处理工序中,在所述第1母板的所述第1基板的与所述第1方向成直角方向的第2方向上的边界部被设为紫外光的照射量为显示区域的1/4以下,
所述密封材料以至少一部分与不存在所述第1取向膜的区域重叠的方式形成,并且,所述密封材料以与在所述第1取向膜中的所述紫外光的照射量为显示区域的1/4以下的区域重叠的方式形成。
15.如权利要求14所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于,
包括:
以在所述第2母板的所述第2基板的第1方向上的边界部形成具有规定宽度且不存在取向膜的区域的方式涂敷第2取向膜的工序;以及
对所述第2母板的所述第2取向膜进行基于紫外光的光取向处理的光取向处理工序,
在所述光取向处理工序中,在所述第2母板的所述第2基板的与所述第1方向成直角方向的第2方向上的边界部被设为紫外光的照射量为所述显示区域的1/4以下,
所述密封材料以至少一部分与不存在所述第2取向膜的区域重叠的方式形成,并且,所述密封材料以与在所述第2取向膜中的所述紫外光的照射量为显示区域的1/4以下的区域重叠的方式形成。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015112898A JP6490497B2 (ja) | 2015-06-03 | 2015-06-03 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2015-112898 | 2015-06-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106249485A true CN106249485A (zh) | 2016-12-21 |
CN106249485B CN106249485B (zh) | 2020-01-14 |
Family
ID=57452556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610330755.7A Active CN106249485B (zh) | 2015-06-03 | 2016-05-18 | 液晶显示装置以及其制造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10281771B2 (zh) |
JP (1) | JP6490497B2 (zh) |
CN (1) | CN106249485B (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109407411A (zh) * | 2018-11-20 | 2019-03-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 配向膜涂布方法及液晶面板 |
CN110361879A (zh) * | 2018-04-10 | 2019-10-22 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置及其制造方法 |
CN114144723A (zh) * | 2019-08-08 | 2022-03-04 | 株式会社日本显示器 | 液晶显示装置的制造方法以及液晶显示装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7078921B2 (ja) * | 2017-10-04 | 2022-06-01 | Jnc株式会社 | 液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子の製造装置 |
JP7391686B2 (ja) | 2019-08-08 | 2023-12-05 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007033672A (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-08 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
US20080231786A1 (en) * | 2007-03-21 | 2008-09-25 | Dong-Cheon Shin | Method of fabricating alignment layer for liquid crystal display device |
US20080309861A1 (en) * | 2007-06-14 | 2008-12-18 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device and electronic apparatus |
WO2009037889A1 (ja) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
US20100014033A1 (en) * | 2007-02-21 | 2010-01-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd | Base material for display panel, method for manufacturing the base material, and display panel |
CN102736159A (zh) * | 2011-04-11 | 2012-10-17 | 东友精细化工有限公司 | 复合相位差板、复合偏振片及它们的制造方法 |
CN103857761A (zh) * | 2011-10-08 | 2014-06-11 | 三菱树脂株式会社 | 无基材两面粘接片 |
JP2015036712A (ja) * | 2013-08-12 | 2015-02-23 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示パネルの製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7718234B2 (en) | 2002-12-09 | 2010-05-18 | Hitachi Displays, Ltd. | Liquid crystal display and method for manufacturing same |
WO2008102640A1 (ja) * | 2007-02-21 | 2008-08-28 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 表示パネル用基材とその作製方法および表示パネル |
JP2010096795A (ja) * | 2008-10-14 | 2010-04-30 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置の製造装置 |
JP5520614B2 (ja) | 2010-01-15 | 2014-06-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP6097656B2 (ja) * | 2013-08-20 | 2017-03-15 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
-
2015
- 2015-06-03 JP JP2015112898A patent/JP6490497B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-05-03 US US15/144,973 patent/US10281771B2/en active Active
- 2016-05-18 CN CN201610330755.7A patent/CN106249485B/zh active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007033672A (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-08 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
US20100014033A1 (en) * | 2007-02-21 | 2010-01-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd | Base material for display panel, method for manufacturing the base material, and display panel |
US20080231786A1 (en) * | 2007-03-21 | 2008-09-25 | Dong-Cheon Shin | Method of fabricating alignment layer for liquid crystal display device |
US20080309861A1 (en) * | 2007-06-14 | 2008-12-18 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device and electronic apparatus |
WO2009037889A1 (ja) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
CN102736159A (zh) * | 2011-04-11 | 2012-10-17 | 东友精细化工有限公司 | 复合相位差板、复合偏振片及它们的制造方法 |
CN103857761A (zh) * | 2011-10-08 | 2014-06-11 | 三菱树脂株式会社 | 无基材两面粘接片 |
JP2015036712A (ja) * | 2013-08-12 | 2015-02-23 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示パネルの製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110361879A (zh) * | 2018-04-10 | 2019-10-22 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置及其制造方法 |
CN109407411A (zh) * | 2018-11-20 | 2019-03-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 配向膜涂布方法及液晶面板 |
CN114144723A (zh) * | 2019-08-08 | 2022-03-04 | 株式会社日本显示器 | 液晶显示装置的制造方法以及液晶显示装置 |
CN114144723B (zh) * | 2019-08-08 | 2024-06-14 | 株式会社日本显示器 | 液晶显示装置的制造方法以及液晶显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10281771B2 (en) | 2019-05-07 |
US20160357040A1 (en) | 2016-12-08 |
CN106249485B (zh) | 2020-01-14 |
JP6490497B2 (ja) | 2019-03-27 |
JP2016224361A (ja) | 2016-12-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106249485A (zh) | 液晶显示装置以及其制造方法 | |
WO2016173210A1 (zh) | 黑色矩阵的制作方法 | |
US9632347B2 (en) | Display substrate, mask for manufacturing the same, and method of manufacturing the display substrate | |
US9488871B2 (en) | Method for manufacturing display panel | |
US20170108737A1 (en) | Method for manufacturing liquid crystal cell, liquid crystal cell, and display device | |
US9952464B2 (en) | Liquid crystal display panel and method for curing frame glue | |
CN110471259B (zh) | 芯片拼接方法 | |
EP2487527B1 (en) | Display device | |
CN103777406A (zh) | 用于在液晶面板的制造中固化框胶的方法及液晶面板 | |
US20190033654A1 (en) | Liquid crystal panel and liquid crystal display device | |
US9223198B2 (en) | Mask plate and manufacturing method thereof | |
KR101593366B1 (ko) | 근접 노광용 포토 마스크 | |
US9638845B2 (en) | UV mask and fabrication method thereof | |
US10725371B2 (en) | Method of manufacturing a substrate of a display device and mask thereof | |
KR101945068B1 (ko) | 패턴 위상차 필름의 제조 방법, 패턴 위상차 필름 및 화상 표시 장치 | |
US10845714B2 (en) | Exposure method, exposure device for performing the method and manufacturing method of display substrate using the method | |
US8553195B2 (en) | Substrate for a display panel, a display panel having the substrate, a method of producing the substrate, and a method of producing the display panel | |
US9372369B2 (en) | Liquid crystal panel and manufacturing method thereof | |
CN106054482A (zh) | 一种阵列基板及其制备方法和显示装置 | |
US20170329177A1 (en) | Liquid Crystal Display Panel, Liquid Crystal Display Apparatus, and Method of Manufacturing Liquid Crystal Display Panel | |
JP2018141901A (ja) | 液晶表示装置及び液晶表装置の製造方法 | |
JP2917387B2 (ja) | 液晶素子の製造方法 | |
CN102736402A (zh) | 光掩模用基板、光掩模、光掩模制造方法及图案转印方法 | |
CN103955088B (zh) | 一种液晶光掩膜及其应用 | |
US9341938B2 (en) | Mask plate, exposure system and exposing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |