CN106249463A - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和对盒基板，所述显示面板被划分为多个互相间隔且透光的像素区以及位于多个所述像素区以外且不透光的非像素区，所述阵列基板和所述对盒基板的相对面上均设置有反光层，所述反光层位于所述非像素区。相应地，本发明还提供一种显示面板的制作方法和一种显示装置。本发明能够提高显示面板的透过率。

Description

显示面板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)已经广泛应用于电视、电脑、手机、游戏机、导航等各类显示设备中，其体积小、重量轻，并且具有高分辨率、高对比度、高解析度等特点。液晶显示装置包括显示面板和背光源，显示面板包括阵列基板、对盒基板以及位于阵列基板和对盒基板之间的液晶层。进行显示时，背光源向显示面板提供光线，光线经过液晶的偏转作用后射出显示面板。

但是，射入液晶层的光线会有一部分光线被两侧的膜层(例如，阵列基板的信号线、对盒基板的黑矩阵)吸收，导致液晶显示面板的透过率不高，从而使得液晶显示装置消耗更多的电能。并且，当显示面板内的光线照射至薄膜晶体管的沟道中时，会产生亮态漏电流，影响显示效果且影响显示装置的寿命。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种显示面板及其制作方法、显示装置，以提高显示面板的透过率。

为了解决上述技术问题之一，本发明提供一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和对盒基板，所述显示面板被划分为多个互相间隔且透光的像素区以及位于多个所述像素区以外且不透光的非像素区，所述阵列基板和所述对盒基板的相对面上均设置有反光层，所述反光层位于所述非像素区。

优选地，所述阵列基板包括位于所述非像素区的信号线和薄膜晶体管，所述阵列基板上的反光层同时覆盖所述信号线和所述薄膜晶体管。

优选地，所述反光层上设置有透明间隔层，所述透明间隔层上设置有由多个微透镜形成的微透镜阵列，所述微透镜为凸透镜。

优选地，所述阵列基板包括位于所述像素区的像素电极，所述阵列基板上的反光层与所述透明电极同层设置且绝缘间隔。

优选地，所述对盒基板包括位于所述非像素区的黑矩阵，所述对盒基板上的反光层设置在所述黑矩阵的表面。

优选地，所述反光层为金属层。

优选地，所述透明间隔层和所述微透镜均由绝缘材料制成。

优选地，所述微透镜的直径在1μm-3μm之间。

相应地，本发明还提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板被划分为多个互相间隔且透光的像素区以及位于多个所述像素区以外且不透光的非像素区，所述制作方法包括：

提供阵列基板和对盒基板；

在阵列基板的待与对盒基板相对的表面上、所述对盒基板的待与阵列基板相对的表面上分别形成反光层，形成所述反光层的区域与所述非像素区对应；

将形成有反光层的阵列基板和形成有反光层的对盒基板对盒。

优选地，所述阵列基板包括位于所述非像素区的信号线和薄膜晶体管，在所述阵列基板上形成的发光层时，形成所述反光层的区域同时覆盖所述信号线和所述薄膜晶体管。

优选地，在阵列基板的待与对盒基板相对的表面上、所述对盒基板的待与阵列基板相对的表面上分别形成反光层步骤包括：

利用喷墨打印的方法，分别在阵列基板和对盒基板上对应于所述非像素区的位置打印混合有金属颗粒的第一溶液，所述金属颗粒的粒径为纳米级；

对所述第一溶液进行固化，以形成金属的反光层。

优选地，形成反光层的步骤之后、将形成有反光层的阵列基板和形成有反光层的对盒基板对盒的步骤之前还包括：

在所述反光层上形成透明间隔层；

在所述透明间隔层上形成由多个微透镜组成的微透镜阵列，所述微透镜为凸透镜。

优选地，在所述透明间隔层上形成由多个微透镜组成的微透镜阵列的步骤包括：

利用喷墨打印的方法，在所述透明间隔层上打印第二溶液，以形成由多个液滴形成的液滴阵列；

对所述液滴阵列进行固化，以形成绝缘的微透镜阵列。

相应地，本发明还提供一种显示装置，包括本发明提供的上述显示面板。

由于阵列基板和对盒基板的相对面上均设置有反光层，因此，当背光源的光线射入显示面板后，射向对盒基板非像素区的光线不会被黑矩阵吸收，而是被反光层反射回液晶层；射向阵列基板非像素区的光线也不会被信号线吸收，而是会被反光层反射回液晶层，并最终从对盒基板的像素区射出显示面板，从而提高显示面板的透光率。另外，由于反光层的设置，光线也不会照射至非像素区的薄膜晶体管的沟道区中，从而降低薄膜晶体管的亮态漏电流，改善显示效果。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1是本发明的实施例中提供的显示面板的结构示意图；

图2a是本发明的实施例中未设置反光层的阵列基板剖视图；

图2b是本发明的实施例中未设置反光层的阵列基板的俯视图；

图3a是本发明的实施例中设置有反光层的阵列基板的剖视图；

图3b是本发明的实施例中设置有反光层的阵列基板的俯视图；

图4是本发明的实施例中设置有透明间隔层后的阵列基板的剖视图；

图5a是本发明的实施例中设置有微透镜阵列的阵列基板的剖视图；

图5b是本发明的实施例中设置有微透镜阵列的阵列基板的俯视图；

图6是本发明的实施例中设置有反光层的对盒基板的剖视图；

图7是本发明的实施例中设置有透明间隔层的对盒基板的剖视图；

图8是本发明的实施例中设置有微透镜阵列的对盒基板的剖视图；

图9是本发明的实施例中设置有微透镜阵列的对盒基板的俯视图

图10是本发明的实施例中设置有隔垫物的对盒基板的剖视图；

图11是本发明的实施例中显示面板的制作方法流程图。

其中，附图标记为：

10、阵列基板；11、第一衬底；12、薄膜晶体管；12a、薄膜晶体管的栅极；12b、薄膜晶体管的源极；12c、薄膜晶体管的漏极；13、栅线；14、数据线；15、钝化层；16、像素电极；17、公共电极；18、过孔；20、对盒基板；21、第二衬底；22、黑矩阵；23、色阻块；30、液晶层；40、反光层；50、透明间隔层；60、微透镜；70、绝缘层；80、隔垫物。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。

作为本发明的一方面，提供一种显示面板，如图1所示，所述显示面板包括相对设置的阵列基板10和对盒基板20，所述显示面板被划分为多个互相间隔的透光的像素区以及位于多个所述像素区以外的非像素区。结合图1、图3a和图6所示，阵列基板10和对盒基板20的相对面上均设置有反光层40，反光层40位于所述非像素区相对应。

所述显示面板尤其适用于液晶显示面板，即，阵列基板10和对盒基板20之间还设置有液晶层30(如图1所示)。应当理解的是，所述像素区是用于显示一个特定颜色的区域；对于彩色显示面板，显示面板所显示的画面包括多个像素，每个像素包括红、绿、蓝等多个子像素，则所述像素区与所述子像素对应，所述非像素区包括任意相邻两个像素区之间的区域。如图2a和图2b所示，阵列基板10包括第一衬底11、设置在第一衬底11上的薄膜晶体管12、信号线(包括与薄膜晶体管的栅极12a相连的栅线13和与薄膜晶体管的源极12b相连的数据线14)、像素电极13等结构，栅线13、数据线14和薄膜晶体管12位于所述非像素区，像素电极13位于像素区。如图6所示，对盒基板20包括第二衬底21、设置在第二衬底21上的网格状的黑矩阵22，黑矩阵22位于所述非像素区，用于遮挡阵列基板10上的信号线和薄膜晶体管12。

由于阵列基板10和对盒基板20的相对面上均设置有反光层40，因此，当背光源的光线射入显示面板后，射向对盒基板20非像素区的光线的至少一部分被反光层40反射回液晶层；射向阵列基板10非像素区的光线的至少一部分被反光层40反射回液晶层30，并最终从对盒基板20的像素区射出显示面板，从而减少了非像素区中的黑矩阵22、信号线等膜层对光线的吸收，进而提高显示面板的透光率。

如上所述，阵列基板10包括位于所述非像素区的信号线和薄膜晶体管12，优选地，阵列基板10上的反光层40同时覆盖所述信号线和薄膜晶体管12，因此，光线既不会被信号线吸收，也不会照射至非像素区的薄膜晶体管12的沟道区中，从而降低薄膜晶体管12的亮态漏电流，改善显示效果。

进一步地，反光层40上设置有透明间隔层50(如图4和图7所示)，透明间隔层50上设置有由多个微透镜60形成的微透镜阵列(如图5a、图8和图9所示)，微透镜60为凸透镜。因此，射入显示面板内的光线被反光层40反射后，反射光线经过微透镜60的会聚作用后，亮度提高，从而提高显示亮度。

如图2a至图3a所示，阵列基板10还包括位于像素区的像素电极16，阵列基板10上的反光层40与像素电极16同层设置且绝缘间隔。具体地，阵列基板10还包括设置在薄膜晶体管12上的钝化层15，像素电极16通过钝化层15上的过孔18与相应像素区的薄膜晶体管12的漏极12c相连。阵列基板10上的反光层40与像素电极16同层设置即，阵列基板10上的反光层40设置在钝化层15的表面。如上文所述，对盒基板20包括位于非像素区的黑矩阵22，对盒基板20上的反光层40设置在黑矩阵22的表面。对盒基板20还位于所述像素区的色阻块23。显示面板还包括公共电极17，公共电极17位于像素电极16所在层的下方(如图2a所示)；当然，也可以将所述公共电极17设置在对盒基板20上。

在本发明中，反光层40为金属层。例如，银膜、铝膜、铜膜等。反光层40的厚度在50nm-100nm之间，以保证较高的反射率的同时，防止对显示面板的厚度产生影响。

透明间隔层50和微透镜60均由绝缘材料制成，以减少金属制作的反光层40对显示面板内的电场产生的影响。所述绝缘材料可以但不限定为亚克力(PMMA)。透明间隔层50的厚度在30nm-70nm之间。

具体地，微透镜60的直径在1μm-3μm之间，以使得聚光后的光线整体上分布较均匀。

为了使显示面板保持一定的盒厚，通常在对盒基板20上设置绝缘层70和以及位于绝缘层70上的多个隔垫物80，如图10所示，反光层40、透明间隔层50和微透镜阵列均位于黑矩阵22与绝缘层70之间。

作为本发明的另一方面，提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板被划分为多个互相间隔且透光的像素区以及位于多个所述像素区以外且不透光的非像素区。结合图2a～图11所示，所述制作方法包括：

S1、提供阵列基板10和对盒基板20。和显示面板的像素区和非像素区相对应地，阵列基板10和对盒基板20均被划分为多个互相间隔且透光的像素区以及位于多个所述像素区以外且不透光的非像素区，阵列基板10上的像素区和对盒基板20上的像素区一一对应。如图2a和图2b所示，阵列基板10包括位于像素区的像素电极16、位于非像素区的信号线(栅线13、数据线14等)和薄膜晶体管12。如图6所示，对盒基板20包括设置在位于像素区的色阻块23和位于非像素区的黑矩阵22。

S2、在阵列基板10的待与对盒基板20相对的表面上、对盒基板20的待与阵列基板10相对的表面上分别形成反光层40(如图3a、图3b及图6所示)，反光层40的位置与所述非像素区对应；其中，反光层40的厚度在50nm-100nm之间。其中，在阵列基板10上形成的反光层40时，形成反光层40的区域同时覆盖所述信号线和薄膜晶体管12。

S3、将形成有反光层40的阵列基板10和形成有反光层40的对盒基板20对盒。

本发明对反光层40的具体制作方式不作具体限定，例如，可以通过磁控溅射成膜，然后通过光刻构图工艺形成反光层40。在本发明中，反光层40采用喷墨打印的方法形成，具体地，步骤S2包括：

利用喷墨打印的方法，分别在阵列基板10和对盒基板20上对应于所述非像素区的位置打印混合有金属颗粒的第一溶液，所述金属颗粒的粒径为纳米级，可选地，金属颗粒的粒径在10nm-100nm之间。具体地，阵列基板10还包括覆盖薄膜晶体管12的钝化层15，在阵列基板10上形成反光层时，利用喷墨打印的方法将第一溶液打印在钝化层15上，以使形成的反光层40与像素电极16位于同一层。在对盒基板20上形成反光层时，利用喷墨打印的方法将第一溶液打印在黑矩阵上。其中，金属颗粒可以为纳米银颗粒、纳米铜颗粒、纳米铝颗粒等，优选为纳米银颗粒。

之后，对第一溶液进行固化，以形成金属的反光层40。

进一步地，如图11所示，步骤S2和步骤S3之间还包括：

S21、在反光层40上形成透明间隔层50，(如图4和图7所示)；其中，透明间隔层50的厚度在30nm-70nm之间。透明间隔层50的材料具体可以为亚克力(PMMA)等绝缘材料。透明间隔层50同样可以采用喷墨打印的方法形成。

S22、在透明间隔层50上形成由多个微透镜60组成的微透镜阵列(如图5a、图5b、图8及图9所示)，其中，微透镜60为凸透镜，其直径在1μm-3μm之间。具体地，步骤S22包括：

利用喷墨打印的方法，在透明间隔层50上打印第二溶液，以形成由多个液滴形成的液滴阵列，所述液滴表面为外凸的曲面。

对所述液滴阵列进行固化，以形成绝缘的微透镜阵列。其中，第二溶液可以为亚克力溶液，以形成亚克力材料的微透镜阵列

在步骤S22和步骤S3之间还包括：在对盒基板20的微透镜阵列上形成绝缘层70，并在绝缘层70上形成多个隔垫物80，以使阵列基板10和对盒基板20对盒后形成的显示面板能够稳定的盒厚。

以上为对本发明的显示面板及其制作方法的描述，可以看出，由于阵列基板和对盒基板上均设置有反光层，从而防止进入显示面板内的一部分光线被对盒基板上的黑矩阵和阵列基板上的信号线吸收，从而提高光线的利用率，提高显示面板的透光率；并且，反光层上设置的微透镜阵列可以对反光层所反射的光线进行会聚，从而提高显示亮度，进一步改善显示效果。

作为本发明的再一方面，提供一种显示装置，包括上述显示面板。由于显示面板的透光率提高，因此，采用所述显示面板的显示装置的显示效果提高，耗能降低。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (14)

1.一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和对盒基板，所述显示面板被划分为多个互相间隔且透光的像素区以及位于多个所述像素区以外且不透光的非像素区，其特征在于，

所述阵列基板和所述对盒基板的相对面上均设置有反光层，所述反光层位于所述非像素区。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括位于所述非像素区的信号线和薄膜晶体管，所述阵列基板上的反光层同时覆盖所述信号线和所述薄膜晶体管。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述反光层上设置有透明间隔层，所述透明间隔层上设置有由多个微透镜形成的微透镜阵列，所述微透镜为凸透镜。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括位于所述像素区的像素电极，所述阵列基板上的反光层与所述透明电极同层设置且绝缘间隔。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述对盒基板包括位于所述非像素区的黑矩阵，所述对盒基板上的反光层设置在所述黑矩阵的表面。

6.根据权利要求1至5中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述反光层为金属层。

7.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述透明间隔层和所述微透镜均由绝缘材料制成。

8.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述微透镜的直径在1μm-3μm之间。

9.一种显示面板的制作方法，所述显示面板被划分为多个互相间隔且透光的像素区以及位于多个所述像素区以外且不透光的非像素区，其特征在于，所述制作方法包括：

提供阵列基板和对盒基板；

在阵列基板的待与对盒基板相对的表面上、所述对盒基板的待与阵列基板相对的表面上分别形成反光层，形成所述反光层的区域与所述非像素区对应；

将形成有反光层的阵列基板和形成有反光层的对盒基板对盒。

10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述阵列基板包括位于所述非像素区的信号线和薄膜晶体管，在所述阵列基板上形成的发光层时，形成所述反光层的区域同时覆盖所述信号线和所述薄膜晶体管。

11.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在阵列基板的待与对盒基板相对的表面上、所述对盒基板的待与阵列基板相对的表面上分别形成反光层步骤包括：

利用喷墨打印的方法，分别在阵列基板和对盒基板上对应于所述非像素区的位置打印混合有金属颗粒的第一溶液，所述金属颗粒的粒径为纳米级；

对所述第一溶液进行固化，以形成金属的反光层。

12.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，形成反光层的步骤之后、将形成有反光层的阵列基板和形成有反光层的对盒基板对盒的步骤之前还包括：

在所述反光层上形成透明间隔层；

在所述透明间隔层上形成由多个微透镜组成的微透镜阵列，所述微透镜为凸透镜。

13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，在所述透明间隔层上形成由多个微透镜组成的微透镜阵列的步骤包括：

利用喷墨打印的方法，在所述透明间隔层上打印第二溶液，以形成由多个液滴形成的液滴阵列；

对所述液滴阵列进行固化，以形成绝缘的微透镜阵列。

14.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至8中任意一项所述的显示面板。