CN106227001A - 治具及工件制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种治具及工件制造方法。治具包括:承载面,承载面适于承载被加工工件,工件具有曝光面;和反光面,反光面适于将光反射到曝光面上。根据本发明的治具,通过在治具上设置反光面,并利用反光面对光线的反射作用,将曝光光源的光线反射到工件的被遮挡的曝光面上,从而可以对工件的曝光面进行曝光。由此可以使治具适用于不同形状的工件,从而可以增加治具的适用范围,提升治具的灵活性,降低工件的生产成本。
Description
技术领域
本发明涉及电子制造业,具体而言,尤其涉及一种治具及工件制造方法。
背景技术
油墨曝光显影技术广泛应用于电子制造业的遮蔽制造工艺,如电路板,盖板玻璃,金属蚀刻等。相关技术中,曝光行业多为平面工作台,曝光光源位于平面上方,被加工工件放置在平面工作台上,对于具有被遮挡的部位的工件,曝光光源无法照射到工件的被遮挡部位,从而无法实现工件的精确曝光。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本发明提出一种治具,所述治具具有结构简单、适用范围广泛的优点。
本发明还提出一种工件制造方法,所述工件制造方法具有工艺过程简单、成品率高的优点。
根据本发明实施例的治具,包括:承载面,所述承载面适于承载被加工工件,所述工件具有曝光面;和反光面,所述反光面适于将光反射到所述曝光面上。
根据本发明实施例的治具,通过在治具上设置反光面,并利用反光面对光线的反射作用,将曝光光源的光线反射到工件的被遮挡的曝光面上,从而可以对工件的曝光面进行曝光。由此可以使治具适用于不同形状的工件,从而可以增加治具的适用范围,提升治具的灵活性,降低工件的生产成本。
根据本发明的一个实施例,所述治具上设有安装槽体,所述安装槽体的内底壁上设有支撑柱,所述支撑柱的自由端端面被构造成所述承载面,所述安装槽的侧壁被构造成所述反光面。
根据本发明的一个实施例,所述承载面形成为平面。
根据本发明的一个实施例,在从下至上的方向上,所述反光面逐渐向所述安装槽体的外侧倾斜。
根据本发明的一个实施例,所述反光面与所述安装槽体的内底壁之间的夹角为β,所述β满足:120°≤β≤160°。
根据本发明的一个实施例,所述反光面与所述安装槽体的内底壁之间的夹角为β,所述β=135°。
根据本发明的一个实施例,所述支撑柱的周壁上设有凸缘,所述工件与所述凸缘的上端面相抵。
根据本发明的一个实施例,所述凸缘呈环状且沿所述支撑柱的周向方向延伸。
根据本发明的一个实施例,所述凸缘形成为凸块,所述凸缘为多个且沿所述支撑柱的周向方向间隔分布。
根据本发明的一个实施例,所述治具为一体成型件。
根据本发明实施例的工件制造方法,所述工件具有曝光面且所述工件适于放置在治具上,所述治具为如上所述的治具,所述工件制造方法包括如下步骤:
S10:选取基材;
S20:在所述基材上进行表面加工以形成所述曝光面;
S30:将所述基材放置在所述治具上,对所述基材进行曝光显影,所述治具的所述反光面适于将光反射到所述曝光面上;
S40:对所述基材进行阳极氧化。
根据本发明实施例的工件制造方法,通过在治具上设置反光面,并利用反光面对光线的反射作用,将曝光光源的光线反射到工件的被遮挡的曝光面上,从而可以对工件的曝光面进行曝光。由此可以使治具适用于不同形状的工件,从而可以增加治具的适用范围,提升治具的灵活性,降低工件的生产成本。
根据本发明的一个实施例,步骤S20包括如下子步骤:
S21:对所述基材进行纳米注塑;
S22:对所述基材进行正面精铣以形成所述曝光面;
S23:对所述基材进行抛光、喷砂;
S24:对所述基材进行油墨喷涂。
根据本发明的一个实施例,步骤S21还包括如下子步骤:
S211:对所述基材进行粗铣;
S212:对所述基材进行开槽;
S213:对所述基材进行纳米注塑。
根据本发明的一个实施例,步骤S24还包括如下子步骤:
S241:对所述基材的正面进行喷涂曝光型油墨以形成底层油墨,所述底层油墨包含银粉和色浆以使所述基材正面颜色与阳极氧化的颜色匹配;
S242:对所述底层油墨进行烘烤,烘烤温度为70摄氏度,烘烤时间为20分钟,在表干后的所述底层油墨上喷涂一层哑光面层油墨。
根据本发明的一个实施例,步骤S20包括如下子步骤:
S’21:对所述基材进行纳米注塑;
S’22:对所述基材进行正面精铣以形成所述曝光面;
S’23:对所述基材进行打磨抛光;
S’24:对所述基材进行油墨喷涂。
根据本发明的一个实施例,在步骤S30中,曝光光源采用360-375nm的激光设备,通过UV曝光,碳酸钠溶液显影后,利用高温烘烤180摄氏度固化。
附图说明
图1是根据本发明的实施例的治具的结构示意图;
图2是根据本发明的实施例的治具的结构示意图;
图3是工件的结构示意图;
图4是根据本发明实施例的工件制造方法的流程图;
图5是根据本发明实施例的工件制造方法的流程图。
附图标记:
治具100,承载面101,反光面102,
安装槽体103,内底壁104,支撑柱105,侧壁106,凸缘107,
工件200,曝光面201,第一部分202,第二部分203,弯折部204。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接或彼此可通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下面参照图1-图3详细描述根据本发明实施例的治具100。需要说明的是,治具100可以用于遮蔽制造工艺。
如图1-图3所示,根据本发明实施例的治具100,包括承载面101和反光面102。
具体而言,承载面101适于承载被加工的工件200,工件200具有曝光面201,反光面102适于将光反射到曝光面201上。需要说明的是,在遮蔽制造工艺的曝光过程中,曝光光源按照一定的入射角照射在工件200的曝光面201上,对于具有复杂结构的曝光面201,曝光光源无法照射到所有的曝光面201,例如,在如图3所示的示例中,工件200的曝光面201包括第一部分202和第二部分203,在光线a的方向上,第二部分203被第一部分202遮挡,在相关技术中的遮蔽制造工艺的曝光过程中,无法实现对第二部分203的曝光。而在本发明的实施例中,如图1所示,治具100上的反光面102可以将曝光光源的光线反射到曝光面201的第二部分203上,使被遮挡的曝光面201也可以被曝光光源的光线照射到,从而解决了相关技术中的技术问题。
根据本发明实施例的治具100,通过在治具100上设置反光面102,并利用反光面102对光线的反射作用,将曝光光源的光线反射到工件200的被遮挡的曝光面201上,从而可以对工件200的曝光面201进行曝光。由此可以使治具100适用于不同形状的工件200,从而可以增加治具100的适用范围,提升治具100的灵活性,降低工件200的生产成本。
根据本发明的一个实施例,治具100可以为一体成型件,且治具100上可以设有安装槽体103,安装槽体103的内底壁104上设有支撑柱105,支撑柱105的自由端端面被构造成承载面101,安装槽的侧壁106被构造成反光面102。
例如,如图1所示,安装槽体103的开口向上,支撑柱105设在安装槽体103内且与安装槽体103的底壁连接,支撑柱105的上端面被构造成承载面101,安装槽体103的内侧壁106被构造成反光面102,工件200放置在支撑柱105的上端面上,曝光光源可以位于支撑柱105的上方,曝光面201的第一部分202朝向上方,在从上至下的方向上曝光面201的第二部分203被第一部分202遮挡,在对曝光面201进行曝光工艺过程中,反光面102可以将曝光光源的光线反射到第二部分203上,从而可以实现对工件200的曝光面201的精确曝光。
为方便将工件200放置在支撑柱105上,根据本发明的一个实施例,如图2所示,承载面101形成为平面。根据本发明的一个实施例,在从下至上的方向上,反光面102逐渐向安装槽体103的外侧倾斜,一方面,便于将光线反射到曝光面201上,另一方面,可以简化治具100的结构,使治具100的结构更加紧凑、合理。如图1所示,当曝光光源的光线按照箭头a所示的方向(如图1所示向下的方向)照射到工件200上时,在与光线a正对的第一部分202上,光线a可以照射到第一部分202上,在光线a照射的方向上,曝光面201上被第一部分202遮挡的第二部分203无法被光线a直接照射到,而照射到反光面102上的光线,在反光面102的反射作用下,光线被反射并沿着箭头b所示的方向照射到曝光面201的第二部分203上,从而使得曝光面201可以被光线完全照射。
进一步地,如图1、图2所示,反光面102与安装槽体103的内底壁104之间的夹角为β,所述β满足:120°≤β≤160°。由此便于将光线反射到工件200的被遮挡的曝光面201上。更进一步地,β=135°。
根据本发明的一个实施例,如图1、图2所示,支撑柱105的周壁上设有凸缘107,工件200与凸缘107的上端面相抵。由此可以将工件200稳定地放置在支撑柱105上。需要说明的是,这里对凸缘107的结构不做具体地限定,例如,在本发明的一个示例中,凸缘107呈环状且沿支撑柱105的周向方向延伸;再如,凸缘107形成为凸块,凸缘107为多个且沿支撑柱105的周向方向间隔分布。
下面参照图1-图3详细描述根据本发明实施例的治具100,该治具100可以用于遮蔽制造工艺。值得理解的是,下述描述仅是示例性说明,而不是对本发明的具体限制。
如图1-图2所示,治具100为一体成型件且其上设有安装槽体103,安装槽体103的内底壁104上设有支撑柱105,支撑柱105的自由端端面被构造成承载面101,安装槽的侧壁106被构造成反光面102。承载面101为平面,反光面102形成为斜面,在从下至上的方向上,反光面102从内向外倾斜。反光面102与安装槽体103的内底壁104之间的夹角为β,β=135°。
如图3所示,承载面101适于承载被加工工件200,工件200的上表面为曝光面201,将工件200的边缘向下弯折形成弯折部204,曝光面201包括第一部分202和第二部分203,第二部分203位于弯折部204上,在曝光光源的照射方向上,第二部分203被第一部分202遮挡。需要说明的是,弯折部204可以通过计算机路径规划软件计算生成。
如图1所示,反光面102适于将光反射到曝光面201的第二部分203上。曝光光源的光线按照箭头a所示的方向(如图1所示向下的方向)照射到工件200上,在与光线a正对的第一部分202上,光线a可以照射到第一部分202上,在光线a照射的方向上,曝光面201上被第一部分202遮挡的第二部分203无法被光线a直接照射到,而照射到反光面102上的光线,在反光面102的反射作用下,光线被反射并沿着箭头b所示的方向照射到曝光面201的第二部分203上,从而使得曝光面201可以被光线完全照射。
如图1所示,支撑柱105的周壁上设有凸缘107,凸缘107呈环状且沿支撑柱105的周向方向延伸,工件200的弯折部204与凸缘107的上端面相抵。由此可以将工件200稳定地放置在支撑柱105上。
如图1-图5所示,根据本发明实施例的工件200制造方法,工件200具有曝光面201且工件200适于放置在治具100上,治具100为上述实施例所述的治具100。需要说明的是,为方便描述,可以以3D曝光方式在工件200上实现同色天线的加工流程为例进行描述。
如图4-图5所示,所述工件200制造方法包括如下步骤:
S10:选取基材。需要说明的是,基材可以为铝合金板材。
S20:在基材上进行表面加工以形成曝光面201。
S30:将基材放置在治具100上,对基材进行曝光显影,治具100的反光面102适于将光反射到曝光面201上;
S40:对基材进行阳极氧化。
根据本发明实施例的工件200制造方法,通过在治具100上设置反光面102,并利用反光面102对光线的反射作用,将曝光光源的光线反射到工件200的被遮挡的曝光面201上,从而可以对工件200的曝光面201进行曝光。由此可以使治具100适用于不同形状的工件200,从而可以增加治具100的适用范围,提升治具100的灵活性,降低工件200的生产成本。
根据本发明的一个实施例,步骤S20包括如下子步骤:
S21:对基材进行纳米注塑(即NMT注塑),以使基材形成塑胶结构。
S22:对基材进行正面精铣以形成曝光面201。需要说明的是,在精铣过程中,可以选用CNC型刀铣出工件200的曝光面201。
S23:对基材进行抛光、喷砂。
S24:对基材进行油墨喷涂。
由此,可以提升曝光面201的品质,从而可以提升工件200的质量。
进一步地,步骤S21还包括如下子步骤:
S211:对基材进行粗铣。
S212:对基材进行开槽。
S213:对基材进行纳米注塑,以使基材形成塑胶结构。
由此,可以进一步提升曝光面201的品质,提升工件200的质量。
进一步地,步骤S24还包括如下子步骤:
S241:对基材的正面进行喷涂曝光型油墨以形成底层油墨,底层油墨包含银粉和色浆。通过添加银粉和色浆,可以使工件200的颜色接近阳极氧化的颜色,由此可以使基材曝光面201的颜色与阳极氧化的颜色匹配;
S242:对所述底层油墨进行烘烤,烘烤温度为70摄氏度(即70℃),烘烤时间为20分钟,在表面干燥后的所述底层油墨上喷涂一层哑光面层油墨,由此可以对底层油墨起到保护的作用。
由此,可以进一步提升曝光面201的品质,提升工件200的质量。
根据本发明的一个实施例,如图5所示,步骤S20包括如下子步骤:
S’21:对基材进行纳米注塑。
S’22:对基材进行正面精铣。
S’23:对基材进行打磨抛光。
S’24:对基材进行油墨喷涂。
由此,可以提升曝光面201的品质,提升工件200的质量。
根据本发明的一个实施例,在步骤S30中,曝光光源采用360-375nm的激光设备,在曝光过程中,可以对基材先进行UV曝光(即紫外线曝光),然后利用碳酸钠溶液显影,在显影过程中可以在工件200上将天线位置处的油墨图层保留下来,最后再利用高温烘烤180摄氏度(即80℃)固化。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (16)
1.一种治具,其特征在于,包括:
承载面,所述承载面适于承载被加工工件,所述工件具有曝光面;和
反光面,所述反光面适于将光反射到所述曝光面上。
2.根据权利要求1所述的治具,其特征在于,所述治具上设有安装槽体,所述安装槽体的内底壁上设有支撑柱,所述支撑柱的自由端端面被构造成所述承载面,所述安装槽的侧壁被构造成所述反光面。
3.根据权利要求2所述的治具,其特征在于,所述承载面形成为平面。
4.根据权利要求2所述的治具,其特征在于,在从下至上的方向上,所述反光面逐渐向所述安装槽体的外侧倾斜。
5.根据权利要求4所述的治具,其特征在于,所述反光面与所述安装槽体的内底壁之间的夹角为β,所述β满足:120°≤β≤160°。
6.根据权利要求5所述的治具,其特征在于,所述β=135°。
7.根据权利要求2所述的治具,其特征在于,所述支撑柱的周壁上设有凸缘,所述工件与所述凸缘的上端面相抵。
8.根据权利要求7所述的治具,其特征在于,所述凸缘呈环状且沿所述支撑柱的周向方向延伸。
9.根据权利要求7所述的治具,其特征在于,所述凸缘形成为凸块,所述凸缘为多个且沿所述支撑柱的周向方向间隔分布。
10.根据权利要求1所述的治具,其特征在于,所述治具为一体成型件。
11.一种工件制造方法,其特征在于,所述工件具有曝光面且所述工件适于放置在治具上,所述治具为根据权利要求1-10中任一项所述的治具,所述工件制造方法包括如下步骤:
S10:选取基材;
S20:在所述基材上进行表面加工以形成所述曝光面;
S30:将所述基材放置在所述治具上,对所述基材进行曝光显影,所述治具的所述反光面适于将光反射到所述曝光面上;
S40:对所述基材进行阳极氧化。
12.根据权利要求11所述的工件制造方法,其特征在于,步骤S20包括如下子步骤:
S21:对所述基材进行纳米注塑;
S22:对所述基材进行正面精铣以形成所述曝光面;
S23:对所述基材进行抛光、喷砂;
S24:对所述基材进行油墨喷涂。
13.根据权利要求12所述的工件制造方法,其特征在于,步骤S21还包括如下子步骤:
S211:对所述基材进行粗铣;
S212:对所述基材进行开槽;
S213:对所述基材进行纳米注塑。
14.根据权利要求12所述的工件制造方法,其特征在于,步骤S24还包括如下子步骤:
S241:对所述基材的正面进行喷涂曝光型油墨以形成底层油墨,所述底层油墨包含银粉和色浆以使所述基材正面颜色与阳极氧化的颜色匹配;
S242:对所述底层油墨进行烘烤,烘烤温度为70摄氏度,烘烤时间为20分钟,在表干后的所述底层油墨上喷涂一层哑光面层油墨。
15.根据权利要求11所述的工件制造方法,其特征在于,步骤S20包括如下子步骤:
S’21:对所述基材进行纳米注塑;
S’22:对所述基材进行正面精铣以形成所述曝光面;
S’23:对所述基材进行打磨抛光;
S’24:对所述基材进行油墨喷涂。
16.根据权利要求11所述的工件制造方法,其特征在于,在步骤S30中,曝光光源采用360-375nm的激光设备,通过UV曝光,碳酸钠溶液显影后,利用高温烘烤180摄氏度固化。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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Family
ID=58074749
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
CN201610806449.6A Pending CN106227001A (zh) | 2016-09-06 | 2016-09-06 | 治具及工件制造方法 |
Country Status (1)
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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