CN106166701A - 一种紫外超薄片上盘工艺方法 - Google Patents

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江宗宇
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    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B13/00Machines or devices designed for grinding or polishing optical surfaces on lenses or surfaces of similar shape on other work; Accessories therefor
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Abstract

本发明公开了一种紫外超薄片上盘工艺方法,包括上盘方法和下盘方法,所述上盘方法包括以下步骤:a1、在零件表面滴紫外胶;b1、待紫外胶在零件表面扩散后将其放于光学垫板上,并放在紫外光下照射以初步固化;c1、将其放于紫外光下再次固化;所述下盘方法包括:a2、将其放于紫外光下照射至少半小时;b2、取出后将其放于热水中浸泡;其易于超薄片的取下。

Description

一种紫外超薄片上盘工艺方法
技术领域
本发明涉及超薄片光学零件加工技术领域,具体涉及一种紫外超薄片上盘工艺方法。
背景技术
光学零件的整个加工制造过程是研磨、抛光过程,平面薄片的上盘工艺是整个研磨过程中相当重要的步骤。现有的超薄片的加工,其采用热上方式。利用电热板加热铝垫板,并在垫板上涂一层热熔胶,放上清洁干净的零件后把铝垫板从电热板上移除冷却后即可进行研磨、抛光过程。零件研磨、抛光完成后需把铝垫板放到电热板上加热,待胶融化后才能取下零件。采用现有的热上方式,零件加工完成后,下盘表面面形变化大,不能获得好的面形精度。
发明内容
本发明为了解决上述技术问题提供一种紫外超薄片上盘工艺方法。
本发明通过下述技术方案实现:
一种紫外超薄片上盘工艺方法,包括上盘方法和下盘方法,所述上盘方法包括以下步骤:
a1、在清洁干净的零件表面滴紫外胶;
b1、待紫外胶在零件表面扩散后将其放于光学垫板上,并放在紫外光下照射以初步固化;
c1、将其放于紫外光下再次固化;
所述下盘方法包括:
a2、将其放于紫外光下照射至少半小时;
b2、取出后将其放于热水中浸泡。
本发明的超薄片上盘工艺采用冷上的方法,利用紫外胶将超薄片固定在光学垫板上,并利用冷光源紫外光对其固化,上盘过程中不需要加热,以减小粘结应力,有利于控制零件面型;在下盘时,直接利用紫外光长时间照射,破坏固化紫外胶之间的分子键,再利用热水浸泡软化紫外胶即可直接将超薄片取下。
所述上盘方法中,步骤b1时,在紫外光灯下照射时间为2至3秒。在对紫外胶再次固化时,其照射时间不宜过长,长时间照射,紫外胶的分子键会遭破坏,使得超薄片的粘结强度受到影响,进而影响超薄片的加工工序,故在步骤c1时,在紫外灯箱中照射时间不超过20分钟。
紫外胶是一种成水状的,将其滴在超薄片上后其会自由扩散,紫外胶的用量要合适,即实现超薄片与光学垫板的粘结牢度,也减小紫外光固化时间,故步骤a1时,滴在零件表面的紫外胶用量为2滴。
本发明与现有技术相比,至少具有如下的优点和有益效果:
本发明的方法利用紫外胶将超薄片固定在光学垫板上,并利用冷光源紫外光对其固化,下盘时,直接利用紫外光长时间照射,破坏固化紫外胶之间的分子键,再利用热水浸泡即可直接将超薄片取下。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,下面结合实施例,对本发明作进一步的详细说明,本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明,并不作为对本发明的限定。
实施例
一种紫外超薄片上盘工艺方法,包括上盘方法和下盘方法,所述上盘方法包括以下步骤:
a1、在清洁干净的零件表面滴紫外胶;
b1、待紫外胶在零件表面扩散后将其放于光学垫板上,并放在紫外光下照射以初步固化;
c1、将其放于紫外光再次固化;
利用紫外胶将零件固定在光学垫板上,并利用紫外线的照射实现紫外胶的固化。由于紫外光对人体有害,优选的其应该在紫外光箱内固化;且由于紫外胶为液态,不利于直接输送到紫外光箱等设备中。本方案分两次固化实现对紫外胶的固定,初步固化采用低功率的紫外灯,再次固定化采用高功率的紫外箱,不仅便于垫板的传送,减小对人体的伤害,也可缩短固化时间。
所述下盘方法包括:
a2、将其放于紫外光下照射至少半小时;
b2、取出后将其放于热水中浸泡。
所述上盘方法中,步骤b1时,在紫外光灯下照射时间为2至3秒。
所述上盘方法中,步骤c1时,在紫外灯箱中照射时间不超过20分钟,优选的,可设置为15分钟,即可保证紫外胶的完全固定,也避免长时间照射紫外胶的分子键遭破坏。
所述上盘方法中,步骤a1时,滴在零件表面的紫外胶用量为2滴。
在步骤b2中,热水浸泡的时间控制在15分钟至20分钟之间。
在上盘方法中,步骤b1可在紫外光灯下进行,步骤c1可在紫外灯箱中进行。
在下盘方法中,步骤a2同样可在紫外灯箱中进行。
以上所述的具体实施方式,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施方式而已,并不用于限定本发明的保护范围,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种紫外超薄片上盘工艺方法,其特征在于,包括上盘方法和下盘方法,所述上盘方法包括以下步骤:
a1、在清洁干净的零件表面滴紫外胶;
b1、待紫外胶在零件表面扩散后将其放于光学垫板上,并放在紫外光下照射以初步固化;
c1、将其放于紫外光下再次固化;
所述下盘方法包括:
a2、将其放于紫外光中照射至少半小时;
b2、取出后将其放于热水中浸泡。
2.根据权利要求1所述的一种紫外超薄片上盘工艺方法,其特征在于:所述上盘方法中,步骤b1时,在紫外光下照射时间为2至3秒。
3.根据权利要求1所述的一种紫外超薄片上盘工艺方法,其特征在于:所述上盘方法中,步骤c1时,在紫外光下照射时间不超过20分钟。
4.根据权利要求1所述的一种紫外超薄片上盘工艺方法,其特征在于:所述上盘方法中,步骤a1时,滴在零件表面的紫外胶用量为2滴。
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