CN106086807A - 一种用于沉积装置的下极板及沉积装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种用于沉积装置的下极板及沉积装置，涉及显示技术领域，可提高产品品质，降低生产成本。该下极板包括第一子极板和第二子极板，第二子极板位于第一子极板的下方；第一子极板包括间隔设置的多个第一凸起，任意相邻第一凸起之间设置有第一槽孔；第二子极板包括与第一槽孔一一对应的第二凸起；第二凸起穿过第一槽孔与第一凸起的上表面齐平，且第一凸起与第二凸起的上表面拼接在一起，用于承载待沉积薄膜的基板；第二子极板还包括多个第二槽孔，第二槽孔设置在相邻第二凸起之间，用于使支撑柱穿过，以使第一子极板和第二子极板分离；其中，第一凸起和第二凸起内具有加热结构。用于显示装置制造过程中的薄膜沉积工艺。

Description

一种用于沉积装置的下极板及沉积装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种用于沉积装置的下极板及沉积装置。

背景技术

沉积装置广泛的应用于TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示器)、薄膜太阳能等产品的制造中，用于在基板上沉积薄膜。

沉积装置包括密闭腔室以及设置在密闭腔室内的上极板和下极板。现有技术中，如图1(a)和1(b)所示，下极板01上设置有支撑杆(Pin)03，支撑杆03由杆体032和杆帽031组成，支撑杆03的杆体032贯穿下极板01，通过杆帽031悬挂在下极板01上。其中，下极板01上的支撑杆03分别设置在下极板01的外围区域和中心区域，外围区域的支撑杆01的杆体032和杆帽031均由受热影响较小的陶瓷材料制成，中心区域的支撑杆03的杆帽031由导热和导电性能较好的材料制成，杆体032由受热影响较小的陶瓷材料制成。在沉积过程中，下极板01需保持零电位(通过将下极板01接地来实现)、为工艺提供热源(通过在下极板01中设置加热结构来实现)以及承载待沉积薄膜的基板02并将其移动到工艺位置进行薄膜沉积。

现有技术中沉积装置的工作过程为：电机控制下极板01向下移动，支撑杆03接触腔室底部后，下极板01继续向下移动，此时下极板01与杆帽031分离，等到杆帽031与下极板01达到一定高度差之后，下极板01停止移动，机械手将待沉积薄膜的基板02放置在杆帽031上后，电机控制下极板01向上移动，支撑杆03悬挂在下极板01上，使待沉积薄膜的基板02与下极板01贴合，下极板01继续向上移动，达到工艺位置后，下极板01停止移动。之后，通过上极板和下极板01之间电场的作用，在待沉积薄膜的基板02上进行薄膜沉积。然后，重复下极板01向下移动的过程，机械手先取出沉积薄膜后的基板02，再将新的待沉积薄膜的基板02置于杆帽031上，重复下极板01向上移动的过程和沉积过程，以完成对基板02的薄膜沉积工艺。

然而，虽然中心区域的杆帽031由导热和导电性能较好的材料制成，但是有杆帽031区域与无杆帽031区域的温度相差仍较大，使得沉积后的基板02上容易产生光晕(Mura)，从而影响产品的品质。此外，由于导热和导电性能较好的材料硬度欠佳，导致使用过程中会有颗粒(Particle)脱落或者杆帽031直接脱落，而脱落后的颗粒或杆帽031会粘附在基板02上，影响基板02的透过率，从而影响产品的品质。再者，由于杆体032是由陶瓷材料制成，导致使用过程中杆体032易发生断裂，需要定期更换支撑杆03，从而增加生产成本。

发明内容

本发明的实施例提供一种用于沉积装置的下极板及沉积装置，可提高产品品质，降低生产成本。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

第一方面，提供一种用于沉积装置的下极板，包括第一子极板和第二子极板，所述第二子极板位于所述第一子极板的下方；所述第一子极板包括间隔设置的多个第一凸起，任意相邻所述第一凸起之间设置有第一槽孔；所述第二子极板包括与所述第一槽孔一一对应的第二凸起；所述第二凸起穿过所述第一槽孔与所述第一凸起的上表面齐平，且所述第一凸起与所述第二凸起的上表面拼接在一起，用于承载待沉积薄膜的基板；所述第二子极板还包括多个第二槽孔，所述第二槽孔设置在相邻所述第二凸起之间，用于使支撑柱穿过，以使所述第一子极板和所述第二子极板分离；其中，所述第一凸起和所述第二凸起内具有加热结构。

优选的，所述第二凸起的靠近上表面的部分与所述第一凸起的靠近上表面的部分接触，以使所第二凸起与所述第一凸起的上表面拼接在一起；所述第一子极板与所述第二子极板的其余部分之间均具有间隙。

进一步优选的，所述第二凸起与所述第一凸起的接触面为楔形面。

优选的，所述间隙的宽度为5～8mm。

优选的，所述第一凸起为条形且沿第一方向延伸，多个所述第一凸起沿第二方向间隔设置；其中，所述第一方向与所述第一子极板中一对平行边的方向相同，所述第二方向与所述第一子极板中另一对平行边的方向相同。

优选的，所述第二槽孔的个数为4～8个。

基于上述，优选的，还包括：位于所述第一子极板远离所述第一凸起一侧的第一线管，以及位于所述第二子极板远离所述第二凸起一侧的第二线管；所述第一线管与所述第一子极板为一体结构，所述第二线管与所述第二子极板为一体结构；所述第一线管用于放置与所述第一凸起内的所述加热结构连接的走线，所述第二线管用于放置与所述第二凸起内的所述加热结构连接的走线；其中，所述第二线管包围所述第一线管，且所述第一线管与所述第二线管之间设置密封结构。

第二方面，提供一种沉积装置，包括：密闭腔室以及设置在所述密闭腔室中的第一方面所述的下极板；还包括设置在所述密闭腔室底部的支撑柱，所述支撑柱与第二子极板上的第二槽孔一一对应。

优选的，还包括用于控制所述第二子极板上下移动的电机。

基于上述，优选的，所述沉积装置为等离子体化学气象沉积装置。

本发明实施例提供一种用于沉积装置的下极板及沉积装置，通过将下极板分为第一子极板和第二子极板，且第一子极板上包括第一凸起和第一槽孔，第二子极板上包括第二凸起。当第二凸起穿过第一槽孔时，第一凸起的上表面和第二凸起的上表面平齐且拼接在一起，从而使承载待沉积薄膜的基板的表面为平整无缝的表面，其中，由于第一凸起和第二凸起内均具有加热结构，使得第一子极板和第二子极板各位置处的温度较均匀。基于此，相对现有技术中有杆帽区域和无杆帽区域存在温度差而导致沉积薄膜后的基板容易产生Mura，本发明提供的下极板由于温度均匀，因而可避免沉积薄膜后的基板产生Mura。

此外，相对现有技术杆帽采用高导热和导电性能的材料，本发明实施例只需使第一子极板和第二子极板材料一致即可保证下极板温度的均匀性，而无需采用高导热和导电性能的材料，因此可以避免使用过程中产生颗粒，在此基础上，由于第一子极板和第二子极板为一体结构，也不存在凸起脱落以及断裂的问题，因此无需定期更换。因而当本发明实施例的下极板用于沉积装置，可提高产品品质，降低生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1(a)为现有技术提供的一种下极板的结构示意图；

图1(b)为图1(a)中沿A-A向的剖视示意图；

图2(a)为本发明实施例提供的一种第一子极板的结构示意图一；

图2(b)为图2(a)中沿B-B向的剖视示意图；

图3(a)为本发明实施例提供的一种第二子极板的结构示意图；

图3(b)为图3(a)中沿C-C向的剖视示意图；

图4(a)为本发明实施例提供的一种下极板的俯视示意图；

图4(b)为图4(a)中沿D-D向的剖视示意图；

图5为本发明实施例提供的一种下极板在第一极板和第二极板分离时的结构示意图；

图6(a)为本发明实施例提供的一种第一凸起和第二凸起的拼接结构示意图一；

图6(b)为本发明实施例提供的一种第一凸起和第二凸起的拼接结构示意图二；

图7(a)为本发明实施例提供的一种下极板在第一极板和第二极板结合时的结构示意图一；

图7(b)为本发明实施例提供的一种下极板在第一极板和第二极板结合时的结构示意图二；

图8为本发明实施例提供的一种下极板的结构示意图四；

图9为本发明实施例提供的一种沉积装置的结构示意图；

图10为本发明实施例提供的一种沉积装置控制方法的流程图。

附图标记

01-下极板；02-基板；03-支撑杆；031-杆帽；032-杆体；10-第一子极板；11第一凸起；12-第一槽孔；13-第一线管；20-第二子极板；21-第二凸起；22-第二槽孔；23-第二线管；30-加热结构；40-机械手；50-密封结构；60-支撑柱；70-密闭腔室；71-第三槽孔。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种用于沉积装置的下极板，如图2-5所示，包括第一子极板10和第二子极板20，第二子极板20位于第一子极板10的下方；第一子极板10包括间隔设置的多个第一凸起11，任意相邻第一凸起11之间设置有第一槽孔12；第二子极板20包括与第一槽孔12一一对应的第二凸起21；第二凸起21穿过第一槽孔12与第一凸起11的上表面齐平，且第一凸起11与第二凸起21的上表面拼接在一起，用于承载待沉积薄膜的基板02。

第二子极板20还包括多个第二槽孔22，第二槽孔22设置在相邻第二凸起21之间，用于使支撑柱(图2-4中未示出)穿过，以使第一子极板10和第二子极板20分离；其中，第一凸起11和第二凸起21内具有加热结构30。

需要说明的是，第一，如图2(a)、2(b)和图3(a)、2(b)所示、以及图4(b)所示、图5所示，第一子极板10和第二子极板20均为一体化结构，且材料相同。

其中，第一子极板10和第二子极板20材料可选择具有导热性的材料，例如可以为铝。

第二，如图5所示，当第一子极板10和第二子极板20分离后，机械手40通过插入到相邻两个第一凸起11之间的空间内来取放基板02，因此，不对第一凸起11的高度和相邻两个第一凸起11之间的间距进行限定，能使机械手40通过即可。

此外，不对第一凸起11的个数进行限定，可以根据下极板的大小以及机械手40的参数进行合理设置，附图中第一凸起11均为示意。

第三，如图4(a)和图4(b)所示，当第二子极板20穿过第一子极板10后，第一凸起11与第二凸起21的上表面拼接形成一个平整无缝的表面。

其中，如图6(a)所示，可以只在第一凸起11与第二凸起21侧壁的靠近上表面的部分贴合，或者，如图6(b)所示，整个侧壁都贴合。

此外，本领域技术人员应该明白，沉积装置中的下极板，一方面是用于承载待沉积薄膜的基板02，另一方面还需为沉积工艺提供热源。因此，为了确保待沉积薄膜的基板02能够均匀受热，第一凸起11和第二凸起21上表面拼接形成的平面的面积应不小于待沉积薄膜的基板02。

第四，不对第二槽孔22的个数及形状进行限定，能分离第一子极板10和第二子极板20，并在支撑柱穿过第二槽孔22后，能使支撑柱平稳的支撑第一子极板10即可。

第五，为了保证在沉积工艺中，使待沉积薄膜的基板02均匀受热，在每个凸起内均匀设置加热结如构30。

其中，优选在第一凸起11和第二凸起21上表面拼接后，加热结构30与该上表面之间的距离一致。

第六，本领域技术人员应该明白，加热结构30应与第一子极板10和第二子极板20绝缘。例如，当加热结构30为电阻丝时，加热结构30外部应设置绝缘膜。

本发明实施例提供一种用于沉积装置的下极板，通过将下极板分为第一子极板10和第二子极板20，且第一子极板10上包括第一凸起11和第一槽孔12，第二子极板20上包括第二凸起21。当第二凸起21穿过第一槽孔12时，第一凸起11的上表面和第二凸起21的上表面平齐且拼接在一起，从而使承载待沉积薄膜的基板02的表面为平整无缝的表面，其中，由于第一凸起11和第二凸起21内均具有加热结构30，使得第一子极板10和第二子极板20各位置处的温度较均匀。基于此，相对现有技术中有杆帽031区域和无杆帽031区域存在温度差而导致沉积薄膜后的基板02容易产生Mura，本发明提供的下极板由于温度均匀，因而可避免沉积薄膜后的基板02产生Mura。

此外，相对现有技术杆帽031采用高导热和导电性能的材料，本发明实施例只需使第一子极板10和第二子极板20材料一致即可保证下极板温度的均匀性，而无需采用高导热和导电性能的材料，因此可以避免使用过程中产生颗粒，在此基础上，由于第一子极板10和第二子极板20为一体结构，也不存在凸起脱落以及断裂的问题，因此无需定期更换。因而当本发明实施例的下极板用于沉积装置，可提高产品品质，降低生产成本。

优选的，如图6(a)、图7(a)和图7(b)所示，第二凸起21的靠近上表面的部分与第一凸起11的靠近上表面的部分接触，以使第二凸起21与第一凸起11的上表面拼接在一起；第一子极板10与第二子极板20的其余部分之间均具有间隙。

需要说明的是，第一，由于第二凸起21与第一凸起11仅在靠近上表面的部分接触，因此在接触处，需使第一凸起11的靠近上表面的部分向第二凸起21侧凸出一些，而第二凸起21需收缩一些，或者需使第二凸起21的靠近上表面的部分向第一凸起11侧凸出一些，而第一凸起11需收缩一些。在此基础上，考虑到第一凸起11的靠近上表面的部分向第二凸起21侧凸出时，可在第二凸起21穿过第一槽孔12时，控制第二凸起21的高度，还可以在水平方向上使第一子极板10和第二子极板20具有间距。因此，本发明实施例优选第一凸起11的靠近上表面的部分向第二凸起21侧凸出，相应的第二凸起21收缩。

其中，沿相邻第一凸起11之间的间距方向，如图7(a)所示，第一槽孔12的宽度可以等于相邻第一凸起11之间的间距，且大于第二凸起21沿该方向的宽度；或者，如图7(b)所示，第一槽孔12的宽度小于相邻第一凸起11之间的间距，但等于第二凸起21沿该方向的宽度。

第二，本领域技术人员应该明白，当下极板为待沉积薄膜的基板02提供的热源不均匀时，沉积薄膜后的基板02会出现Mura现象，因此，对于第一子极板10和第二子极板20之间的间隙不宜过大，优选为5～8mm。

本发明实施例通过在第一子极板10和第二子极板20的非拼接部分设置有间隙，一方面，可以避免第一子极板10和第二子极板20发生膨胀后相互挤压而变形，导致第一凸起11和第二凸起21的上表面拼接形成的表面不平整，而使基板02上出现Mura现象。另一方面，沿相邻第一凸起11之间的间距方向，当第一槽孔12的宽度大于第二凸起21沿该方向的宽度时，还可以避免第一子极板10和第二子极板20在相对移动的过程中产生摩擦，导致第一凸起11和第二凸起21的上表面拼接位置处局部温度较高，而使基板02上出现Mura现象。

进一步优选的，如图7(a)和图7(b)所示，第二凸起21与第一凸起11的接触面为楔形面。

本发明实施例通过将第二凸起21与第一凸起11的接触面设置为楔形面，可以减小因接触面处热膨胀导致第一凸起11和第二凸起21的上表面拼接形成的表面不平整的现象。

优选的，如图2(a)所示，第一凸起11为条形且沿第一方向延伸，多个第一凸起11沿第二方向间隔设置；其中，第一方向与第一子极板10中一对平行边的方向相同，第二方向与第一子极板10中另一对平行边的方向相同。

其中，由于在相邻两个第一凸起11之间间隔设置有第一槽孔12，因此，当第一凸起11为条形且沿第一方向延伸时，第一槽孔12必然也为条形且沿第一方向延伸，多个第一槽孔12沿第二方向间隔设置。

相应的，如图3(a)所示，第二子极板20上的第二凸起21也为条形且沿第一方向延伸。

需要说明的是，如图2(a)所示，为了保证第一子极板10为一个整体，第一槽孔12并不是从一侧边缘延伸至另一侧边缘，而是在边缘位置处第一子极板10连接在一起。

本发明实施例通过将第一凸起11和第一槽孔12均设置为沿第一方向延伸，沿第二方向间隔设置的结构，可减少第一凸起11和第一槽孔12的个数，即减少第一凸起11和第二凸起21的个数，从而减少第一凸起11和第二凸起21上表面的个数，即减少了第一凸起11和第二凸起21上表面拼接成的平面中拼接缝的条数，进而可避免因拼接缝条数较多时，容易出现拼接不良而导致基板02上产生Mura的问题。

优选的，第二子极板20上设置的第二槽孔22的个数为4～8个。

其中，优选第二槽孔22均匀的分布在第二子极板20上。

本发明实施例通过将第二槽孔22的个数设置为4～8个，可以在保证平稳支撑第一子极板10的情况下，简化结构。

基于上述，优选的，如图8所示，所述子极板还包括：位于第一子极板10远离第一凸起11一侧的第一线管13，以及位于第二子极20板远离第二凸起21一侧的第二线管23；第一线管13与第一子极板10为一体结构，第二线管23与第二子极板20为一体结构；第一线管13用于放置与第一凸起11内的加热结构30连接的走线(图中未示出)，第二线管23用于放置与第二凸起21内的加热结构30连接的走线(图中未示出)；其中，第二线管23包围第一线管13，且第一线管13与第二线管23之间设置密封结构50。

需要说明的是，由于在第一子极板10和第二子极板20相对移动时，第一线管13和第二线管23之间也会相对移动，在相对移动的过程中会产生摩擦，且第一线管13和第二线管23受热之后会发生膨胀，因此，本发明实施例提供的下极板中，第一线管13和第二线管23之间具有间隙。

此外，为避免第一子极板10和第二子极板20分离时，空气会通过第一线管13和第二线管23之间的间隙进入到沉积装置内部而影响工艺环境，本发明实施例通过密封结构50对第一线管13和第二线管23之间的间隙进行密封。其中，本发明实施例中，不对密封结构50的具体设置位置以及材料进行限定。

本发明实施例通过将第一子极板10和第二子极板20中的走线通过第一线管13和第二线管23引出到沉积装置外部，且第二线管23包围第一线管13，这样一来，可以减少在密封腔室上设置通出走线管的第三槽孔的个数。

本发明实施例提供一种沉积装置，如图9所示，包括密闭腔室70以及设置在密闭腔室70中的上述下极板；还包括设置在密闭腔室70底部的支撑柱60，支撑柱60与第二子极板20上的第二槽孔22一一对应。

需要说明的是，第一，为了减小支撑柱60和第二槽孔22之间的摩擦，本发明实施例优选的，支撑柱60上表面的面积小于第二槽孔22的内表面积。

第二，本领域技术人员应该明白，第一线管13和第二线管23需要将走线引出到密闭腔室70外，因此，根据第一线管13和第二线管23的结构，密闭腔室70与线管接触的位置处应设置有第三槽孔71，当然，为了确保密闭腔室70处于密封状态，第三槽孔71周围应设置有密封结构(图中未示出)。图9只是示例性的给出第三槽孔71设置在腔室70底部处，并不进行任何限定。

第三，沉积装置，例如可以为等离子体化学气象沉积装置。

本发明实施例还提供一种沉积装置，通过将沉积装置中的下极板分为第一子极板10和第二子极板20，且第一子极板10上包括第一凸起11和第一槽孔12，第二子极板20上包括第二凸起21。当第二凸起21穿过第一槽孔12时，第一凸起11的上表面和第二凸起21的上表面平齐且拼接在一起，从而使承载待沉积薄膜的基板02的表面为平整无缝的表面，其中，由于第一凸起11和第二凸起21内均具有加热结构30，使得第一子极板10和第二子极板20各位置处的温度较均匀。基于此，相对现有技术中有杆帽031区域和无杆帽031区域存在温度差而导致沉积薄膜后的基板02容易产生Mura，本发明提供的下极板由于温度均匀，因而可避免沉积薄膜后的基板02产生Mura。

此外，相对现有技术杆帽031采用高导热和导电性能的材料，本发明实施例只需使第一子极板10和第二子极板20材料一致即可保证下极板温度的均匀性，而无需采用高导热和导电性能的材料，因此可以避免使用过程中产生颗粒，在此基础上，由于第一子极板10和第二子极板20为一体结构，也不存在凸起脱落以及断裂的问题，因此无需定期更换。因而当本发明实施例的下极板用于沉积装置，可提高产品品质，降低生产成本。

优选的，所述沉积装置还包括用于控制第二子极板20上下移动的电机。

其中，当电机控制第二子极板20向下移动时，第一子极板10在重力作用下会跟随第二子极板20一起向下移动，当第一子极板10与穿过第二槽孔22的支撑柱60接触后，第二子极板20在电机的控制下继续向下移动，此时，第一子极板10与第二子极板20分离，当第一子极板10与第二子极板20距离一定高度时，机械手40便可穿过第一凸起11之间的间隙取放基板02。之后，电机控制第二子极板20向上移动，当第一子极板10的上表面和第二子极板20的上表面拼接在一起后，电机带动第一子极板10和第二子极板20一起移动到工艺位置。

此外，本领域技术人员应该明白，电机是通过控制与第二子极板20连接的伸缩结构的上下移动来控制第二子极板20上下移动的。

本发明实施例通过使用一个电机控制沉积装置中子极板的上下移动，可以简化结构，降低成本。

本发明实施例还提供一种沉积装置的控制方法，如图10所示，所述控制方法具体包括：

S10、当位于下极板上的基板02沉积薄膜后，控制下极板中的第二子极板20向下移动，在重力作用下，下极板中的第一子极板10跟随第二子极板20一起移动，直至第一子极板10与支撑柱60接触。

其中，当第一子极板10与支撑柱60接触后，支撑柱60会阻碍第一子极板10继续向下移动。

S20、控制第二子极板20继续向下移动，直至到达第一预定位置，以使第二子极板20与第一子极板10分离。

其中，第二子极板20移动到的第一预定位置为使第二子极板20与第一子极板10分离且机械手40能取走基板02的位置。

S30、当机械手40从第一子极板10上取走基板02后，控制第二子极板20向上移动，直至第二子极板20中第二凸起21与第一子极板10中第一凸起11的上表面拼接在一起。

其中，在这一控制过程中，机械手40取走沉积薄膜后的基板02后，会放入新的待沉积薄膜的基板02，然后电机控制第二子极板20向上移动。

S40、控制第二子极板20向上移动至第二预定位置，以对位于下极板上的待沉积薄膜的基板02进行薄膜沉积。

此时，当第二子极板20向上移动时，会带动第一子极板10一起向上移动，即下极板整体向上移动。

其中，第二预定位置为满足沉积工艺中对上极板和下极板之间距离要求的工艺位置。

本发明实施例提供一种沉积装置的控制方法，通过将沉积装置中的下极板分为第一子极板10和第二子极板20，且第一子极板10上包括第一凸起11和第一槽孔12，第二子极板20上包括第二凸起21。当第二凸起21穿过第一槽孔12时，第一凸起11的上表面和第二凸起21的上表面平齐且拼接在一起，从而使承载待沉积薄膜的基板02的表面为平整无缝的表面，其中，由于第一凸起11和第二凸起21内均具有加热结构30，使得第一子极板10和第二子极板20各位置处的温度较均匀。基于此，相对现有技术中有杆帽031区域和无杆帽031区域存在温度差而导致沉积薄膜后的基板02容易产生Mura，本发明提供的下极板由于温度均匀，因而可避免沉积薄膜后的基板02产生Mura。

此外，相对现有技术杆帽031采用高导热和导电性能的材料，本发明实施例只需使第一子极板10和第二子极板20材料一致即可保证下极板温度的均匀性，而无需采用高导热和导电性能的材料，因此可以避免使用过程中产生颗粒，在此基础上，由于第一子极板10和第二子极板20为一体结构，也不存在凸起脱落以及断裂的问题，因此无需定期更换。因而当本发明实施例的下极板用于沉积装置，可提高产品品质，降低生产成本。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种用于沉积装置的下极板，其特征在于，包括第一子极板和第二子极板，所述第二子极板位于所述第一子极板的下方；

所述第一子极板包括间隔设置的多个第一凸起，任意相邻所述第一凸起之间设置有第一槽孔；

所述第二子极板包括与所述第一槽孔一一对应的第二凸起；所述第二凸起穿过所述第一槽孔与所述第一凸起的上表面齐平，且所述第一凸起与所述第二凸起的上表面拼接在一起，用于承载待沉积薄膜的基板；

所述第二子极板还包括多个第二槽孔，所述第二槽孔设置在相邻所述第二凸起之间，用于使支撑柱穿过，以使所述第一子极板和所述第二子极板分离；

其中，所述第一凸起和所述第二凸起内具有加热结构。

2.根据权利要求1所述的下极板，其特征在于，所述第二凸起的靠近上表面的部分与所述第一凸起的靠近上表面的部分接触，以使所第二凸起与所述第一凸起的上表面拼接在一起；

所述第一子极板与所述第二子极板的其余部分之间均具有间隙。

3.根据权利要求2所述的下极板，其特征在于，所述第二凸起与所述第一凸起的接触面为楔形面。

4.根据权利要求2所述的下极板，其特征在于，所述间隙的宽度为5～8mm。

5.根据权利要求1所述的下极板，其特征在于，所述第一凸起为条形且沿第一方向延伸，多个所述第一凸起沿第二方向间隔设置；

其中，所述第一方向与所述第一子极板中一对平行边的方向相同，所述第二方向与所述第一子极板中另一对平行边的方向相同。

6.根据权利要求1所述的下极板，其特征在于，所述第二槽孔的个数为4～8个。

7.根据权利要求1-6任一项所述的下极板，其特征在于，还包括：位于所述第一子极板远离所述第一凸起一侧的第一线管，以及位于所述第二子极板远离所述第二凸起一侧的第二线管；

所述第一线管与所述第一子极板为一体结构，所述第二线管与所述第二子极板为一体结构；

所述第一线管用于放置与所述第一凸起内的所述加热结构连接的走线，所述第二线管用于放置与所述第二凸起内的所述加热结构连接的走线；

其中，所述第二线管包围所述第一线管，且所述第一线管与所述第二线管之间设置密封结构。

8.一种沉积装置，其特征在于，包括：密闭腔室以及设置在所述密闭腔室中的权利要求1-7任一项所述的下极板；

还包括设置在所述密闭腔室底部的支撑柱，所述支撑柱与第二子极板上的第二槽孔一一对应。

9.根据权利要求8所述的沉积装置，其特征在于，还包括用于控制所述第二子极板上下移动的电机。

10.根据权利要求8或9所述的沉积装置，其特征在于，所述沉积装置为等离子体化学气象沉积装置。