CN106054473A - Coa基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法 - Google Patents

Coa基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106054473A
CN106054473A CN201610361975.6A CN201610361975A CN106054473A CN 106054473 A CN106054473 A CN 106054473A CN 201610361975 A CN201610361975 A CN 201610361975A CN 106054473 A CN106054473 A CN 106054473A
Authority
CN
China
Prior art keywords
color
color blocking
district
filter film
superposition district
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610361975.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106054473B (zh
Inventor
洪日
谢克成
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201610361975.6A priority Critical patent/CN106054473B/zh
Publication of CN106054473A publication Critical patent/CN106054473A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106054473B publication Critical patent/CN106054473B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222—Colour filters incorporated in the active matrix substrate

Abstract

本发明提供了一种COA基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法。该方法包括以下步骤：采用多种色阻在阵列基板上形成色阻层，相邻的两种色阻之间存在凸起的叠加区；在色阻层上形成钝化层；在钝化层上形成光阻层；将叠加区所对应的光阻层去除；将叠加区所对应的钝化层去除，以使叠加区的色阻显露出来。该彩色滤光膜包括色阻层和钝化层；色阻层形成在阵列基板之上，色阻层由多种颜色的色阻形成，相邻的两种色阻之间存在叠加区；钝化层上、叠加区所对应的位置处的钝化层被去除以使色阻层显露出来。COA基板包括上述彩色滤光膜。本发明能有效降低ODF对组后因色阻残留气体释放导致的液晶气泡的产生，无需增加额外的费用，也不用牺牲开口率。

Description

COA基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及一种COA基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法。
背景技术
当前，液晶面板的形成通常采用COA(Color-filter on Array)工艺，COA工艺是在阵列面板的玻璃完成Array制作后，再接着进行彩色滤光片的制作，也就是所谓阵列上的彩色滤光器(Color Filter On Array)技术，该技术能解决阵列基板和彩膜基板的对位压盒精度要求高的问题。
但是，COA工艺产品在形成彩色滤光片的时候，色阻内残留气体，在模组组装过程中，特别是在特定的条件下，例如高温或者高湿条件下，色阻内的残留气体释放，很容易产生液晶气泡，液晶气泡的产生严重影响产品质量。
目前，改善液晶气泡的问题的技术主要有加大彩膜过孔的直径或者彩色图案与黑矩阵之间的交叠区的管控，但是，这些方法会增加光罩改版的成本以及会牺牲开口率。
发明内容
本发明提供一种COA基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法，能够解决现有技术存在的增加光罩成本及牺牲开口率的问题。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种COA工艺中彩色滤光膜的形成方法，该方法包括以下步骤：采用多种色阻在阵列基板上形成色阻层，相邻的两种色阻之间存在凸起的叠加区；在所述色阻层上形成钝化层；在所述钝化层上形成光阻层；将所述叠加区所对应的所述光阻层去除；将所述叠加区所对应的所述钝化层去除，以使所述叠加区的色阻显露出来。
其中，将所述叠加区所对应的所述钝化层去除，以使所述叠加区的色阻显露出来的步骤之后，还包括：将所述叠加区凸起的色阻去除，以降低所述叠加区凸起的高度。
其中，将所述叠加区的色阻去除，以降低所述叠加区凸起的高度的步骤中，采用干式蚀刻的方式将所述叠加区凸起的色阻去除。
其中，将所述叠加区所对应的钝化层去除，以使所述叠加区的色阻显露出来的步骤中，采用蚀刻的方式将所述叠加区对应的钝化层去除。
其中，将所述叠加区所对应的光阻层去除的步骤中，采用氧等离子体烧光阻的方式将所述叠加区所对应的所述光阻层去除。
其中，在所述钝化层上形成光阻层的步骤中，所述光阻层的高度为1-4μm。
其中，将所述叠加区所对应的所述光阻层去除之后，其余区域的所述光阻层的高度大于1μm。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种COA工艺中形成的彩色滤光膜，该彩色滤光膜包括色阻层和钝化层；所述色阻层形成在阵列基板之上，所述色阻层由多种颜色的色阻形成，相邻的两种色阻之间存在叠加区；所述钝化层上、所述叠加区所对应的位置处的钝化层被去除以使所述色阻层显露出来。
其中，所述色阻层上叠加区的高度与未叠加的区域的高度一致。
为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是：提供一种COA基板，改COA基板包括上述彩色滤光膜。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过将色阻层的叠加区对应的光阻层和钝化层去除，使得该叠加区的色阻显露出来，从而能在后期制程，如ITO退火及PI PMO制程中，高温长时间烘烤可以将色阻层内的残留气体排出，因而防止ODF对组后因色阻残留气体的释放导致液晶气泡产生。本发明只需要更改制程条件，无需更改光罩，因而不会产光罩的额外费用，也无需牺牲开口率，即能有效降低ODF对组后因色阻残留气体释放导致的液晶气泡的产生。
附图说明
图1是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法第一实施例的流程示意图；
图2是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中形成光阻层之后的结构示意图；
图3是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的光阻层时的结构示意图；
图4是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的光阻层后的结构示意图；
图5是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的钝化层后的结构示意图；
图6是本发明形成的彩色滤光膜在后期制程中残留气体排出的示意图；
图7是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法第二实施例的流程示意图；
图8是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中形成光阻层之后的结构示意图；
图9是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的光阻层时的结构示意图；
图10是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的光阻层后的结构示意图；
图11是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的钝化层后的结构示意图；
图12是本发明形成的彩色滤光膜叠加区的色阻去除后在后期制程中残留气体排出的示意图；
图13是本发明COA基板实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本发明进行详细说明。
请参阅图1，图1是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法第一实施例的流程示意图。
本发明提供的一种COA工艺中彩色滤光膜的形成方法，该方法包括以下步骤：
S101、采用多种色阻在阵列基板上形成色阻层11，相邻的两种色阻之间存在凸起的叠加区111。
色阻层11由不同颜色的色阻形成，例如，红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻，当然，在其它实施例中，还可以包括白色色阻等色阻，在实际制作时，由于诸如曝光、显影和固化等制程之后，相邻色阻的边缘发生重叠而形成叠加区111，该叠加区111的厚度较非叠加区厚度大，因而向上凸起，该凸起的叠加区通常称为“牛角”。其中，阵列基板可以为TFT阵列基板。
S102、在色阻层11上形成钝化层12。
其中，该钝化层12为PV钝化层，PV钝化层可以由氮化硅等材料形成，起保护作用。
S103、在钝化层12上形成光阻层13。
光阻层13的形成是为了通过黄光制程而形成所需要的图案。光阻层13形成之后的结构如图2所示，图2是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中形成光阻层之后的结构示意图。
S104、将叠加区111所对应的光阻层13去除。
步骤S104将叠加区111对应的光阻层13去除，可以使得叠加区111的钝化层12显露出来，以便于步骤S105的进行。如图3和图4所示，图3是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的光阻层时的结构示意图。图4是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的光阻层后的结构示意图。
S105、将叠加区111所对应的钝化层12去除，以使叠加区111的色阻显露出来。如图5所示，图5是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的钝化层后的结构示意图。
由于步骤S104中将叠加区111的光阻层13去除了，使得钝化层12显露出来，所以叠加区111的钝化层12没有了光阻层13的保护，因而可以将叠加区111对应的钝化层12去除，使得叠加区111的色阻显露出来，相当于在钝化层12和光阻层13上，叠加区111的位置处形成了开口，从而可以在后期的制程中高温环境下(例如，ITO结晶温度为230°/30min)，色阻层11内的残留气体能从该开口处排出，如图6所示，图6是本发明形成的彩色滤光膜在后期制程中残留气体排出的示意图。这样即使钝化层12过孔与色阻层13过孔有交叠区导致PV缺失也不会造成液晶气泡风险，因而能防止ODF(Onedropfill，液晶滴下式)对组后因色阻残留气体的释放导致液晶气泡产生。
区别于现有技术，本发明通过将色阻层11的叠加区111对应的光阻层13和钝化层12去除，使得该叠加区111的色阻显露出来，从而能在后期制程，如ITO退火及PI PMO制程中，高温长时间烘烤可以将色阻层11内的残留气体排出，因而防止ODF对组后因色阻残留气体的释放导致液晶气泡产生。本发明只需要更改制程条件，无需更改光罩，因而不会产光罩的额外费用，也无需牺牲开口率，即能有效降低ODF对组后因色阻残留气体释放导致的液晶气泡的产生。
请参阅图7，图7是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法第二实施例的流程示意图。
本实施例的COA工艺中彩色滤光膜的形成方法具体包括以下步骤：
S201、采用多种色阻在阵列基板上形成色阻层21，相邻的两种色阻之间存在凸起的叠加区211。
多种色阻在诸如曝光、显影和固化等制程之后，相邻色阻的边缘发生重叠而形成叠加区211，该叠加区211的厚度较非叠加区厚度大，因而向上凸起，该凸起的叠加区211通常称为“牛角”。
S202、在色阻层上形成钝化层22。
本实施例的钝化层22由氮化硅形成，其保护作用。
S203、在钝化层上形成光阻层23。
光阻层23的形成以通过黄光制程形成所需要的图案。步骤S203中，形成的光阻层23的高度为1-4μm。光阻层23形成之后的结构如图8所示，图8是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中形成光阻层之后的结构示意图。
S204、将叠加区211所对应的光阻层23去除。
步骤S204中，由于叠加区211对应的光阻层23的厚度比非叠加区对应的光阻层23的厚度薄，因而采用氧等离子体(plasma+O2)烧光阻的方式将叠加区211所对应的光阻层23去除，该过程中，氧气被加速了的电子轰击成氧离子、自由基后，氧化性极强，光阻层23很快被氧化形成二氧化碳和水，而被真空泵抽走，从而达到去除光阻的目的。将叠加区211所对应的光阻层23去除之后，确包其余区域的光阻层23的高度大于1μm。如图9和图10所示，图9是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的光阻层时的结构示意图。图10是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的光阻层后的结构示意图。
S205、将叠加区211所对应的钝化层22去除，以使叠加区211的色阻显露出来。
步骤S205中，采用蚀刻的方式将叠加区211对应的钝化层22去除，具体为干式蚀刻的方式，例如Plasma+SF6。如图11所示，图11是本发明COA工艺中彩色滤光膜的形成方法中去除叠加区对应的钝化层后的结构示意图。
S206、将叠加区211凸起的色阻去除，以降低叠加区211凸起的高度。
步骤S206可以在步骤S205中采用干式蚀刻的方式将钝化层22去除的时候，采用过蚀刻的方式将叠加区211凸起的色阻去除，从而降低了叠加区211凸起的高度。如图12所示，图12是本发明形成的彩色滤光膜叠加区的色阻去除后在后期制程中残留气体排出的示意图。
在一个实施例中，叠加区211相对凸起的色阻完全被去除干净，以使得该叠加区211的色阻的厚度与非叠加区的色阻的厚度一致，从而使得色阻层21表面平坦，有利于后续PI涂布制程中PI液的均匀扩散，提升产品的良率和竞争力。
本发明还提供了一种采用COA工艺形成的彩色滤光膜，该彩色滤光膜包括色阻层11和钝化层12。
色阻层11形成在阵列基板(图未示)之上，色阻层11由多种颜色的色阻形成，相邻的两种色阻之间存在叠加区111。
色阻层11由不同颜色的色阻形成，例如，红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻，当然，在其它实施例中，还可以包括白色色阻等。在实际制作时，由于诸如曝光、显影和固化等制程之后，相邻色阻的边缘发生重叠而形成叠加区111，该叠加区111的厚度较非叠加区厚度大，因而向上凸起，该凸起的叠加区111通常称为“牛角”。其中，阵列基板可以为TFT阵列基板。
钝化层12上、叠加区111所对应的位置处的钝化层12被去除以使色阻层11显露出来。相当于在钝化层12上相对于叠加区111的位置处的钝化层12被去除形成了开口，从而可以在后期的制程中高温环境下(例如，ITO结晶温度为230°/30min)，色阻层11内的残留气体能从该开口处排出，因而防止ODF(Onedropfill，液晶滴下式)对组后因色阻残留气体的释放导致液晶气泡产生。
在另一个实施例中，如图12所示，色阻层21上叠加区211的高度与未叠加的区域的高度一致。即，在将叠加区211的钝化层22去除之后，再将叠加区211的凸起的色阻去除，从而降低了叠加区211的高度。使得色阻层21的表面平坦，有利于后续PI涂布制程中PI液的均匀扩散，提升产品的良率和竞争力。
请参阅图13，图13是本发明COA基板实施例的结构示意图。
本发明还提供了一种COA基板，该COA基板包括阵列基板31、彩色滤光膜32和透明电极33等，其中，彩色滤光膜32为上述任一实施例的彩色滤光膜32。
综上所述，本发明能有效降低ODF对组后因色阻残留气体释放导致的液晶气泡的产生，无需增加额外的费用，也不用牺牲开口率。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种COA工艺中彩色滤光膜的形成方法，其特征在于，包括以下步骤：
采用多种色阻在阵列基板上形成色阻层，相邻的两种色阻之间存在凸起的叠加区；
在所述色阻层上形成钝化层；
在所述钝化层上形成光阻层；
将所述叠加区所对应的所述光阻层去除；
将所述叠加区所对应的所述钝化层去除，以使所述叠加区的色阻显露出来。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述叠加区所对应的所述钝化层去除，以使所述叠加区的色阻显露出来的步骤之后，还包括：
将所述叠加区凸起的色阻去除，以降低所述叠加区凸起的高度。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，将所述叠加区的色阻去除，以降低所述叠加区凸起的高度的步骤中，采用干式蚀刻的方式将所述叠加区凸起的色阻去除。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述叠加区所对应的钝化层去除，以使所述叠加区的色阻显露出来的步骤中，采用蚀刻的方式将所述叠加区对应的钝化层去除。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述叠加区所对应的光阻层去除的步骤中，采用氧等离子体烧光阻的方式将所述叠加区所对应的所述光阻层去除。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，在所述钝化层上形成光阻层的步骤中，所述光阻层的高度为1-4μm。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，将所述叠加区所对应的所述光阻层去除之后，其余区域的所述光阻层的高度大于1μm。
8.一种COA工艺中形成的彩色滤光膜，其特征在于，包括色阻层和钝化层；
所述色阻层形成在阵列基板之上，所述色阻层由多种颜色的色阻形成，相邻的两种色阻之间存在叠加区；
所述钝化层上、所述叠加区所对应的位置处的钝化层被去除以使所述色阻层显露出来。
9.根据权利要求8所述的彩色滤光膜，其特征在于，所述色阻层上叠加区的高度与未叠加的区域的高度一致。
10.一种COA基板，其特征在于，包括权利要求8或9所述的彩色滤光膜。
CN201610361975.6A 2016-05-27 2016-05-27 Coa基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法 Active CN106054473B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610361975.6A CN106054473B (zh) 2016-05-27 2016-05-27 Coa基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610361975.6A CN106054473B (zh) 2016-05-27 2016-05-27 Coa基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106054473A true CN106054473A (zh) 2016-10-26
CN106054473B CN106054473B (zh) 2019-05-03

Family

ID=57174867

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610361975.6A Active CN106054473B (zh) 2016-05-27 2016-05-27 Coa基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106054473B (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107402468A (zh) * 2017-07-31 2017-11-28 深圳市华星光电技术有限公司 一种coa阵列基板制作方法及相应的coa阵列基板
CN108873517A (zh) * 2018-06-25 2018-11-23 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板以及显示装置
CN110673386A (zh) * 2019-10-15 2020-01-10 深圳市华星光电技术有限公司 一种阵列基板及液晶显示面板
CN110687704A (zh) * 2019-10-23 2020-01-14 深圳市华星光电技术有限公司 检测影响coa基板拼接曝光缺陷的方法
CN110908152A (zh) * 2019-11-08 2020-03-24 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 基板组立机台及基板组立成盒的方法
CN111474756A (zh) * 2020-05-27 2020-07-31 成都中电熊猫显示科技有限公司 显示面板及其制造方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1450665A (zh) * 2002-04-09 2003-10-22 株式会社半导体能源研究所 半导体显示器件
CN1677207A (zh) * 2004-03-30 2005-10-05 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示器及其制造方法
CN101620352A (zh) * 2007-07-05 2010-01-06 三星电子株式会社 显示基底、加工其的方法和使用其的显示设备
US20100059752A1 (en) * 2008-09-11 2010-03-11 Jeong-Ho Lee Display substrate, method of manufacturing the same
CN103869521A (zh) * 2012-12-11 2014-06-18 三星显示有限公司 液晶显示器
CN104503128A (zh) * 2014-12-19 2015-04-08 深圳市华星光电技术有限公司 用于显示器的彩膜基板及其制造方法和彩膜基板的光罩
CN104965366A (zh) * 2015-07-15 2015-10-07 深圳市华星光电技术有限公司 阵列彩膜集成式液晶显示面板的制作方法及其结构
CN105093646A (zh) * 2015-08-11 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 具有无机覆盖层的彩色滤光片基板以及包含它的显示面板

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1450665A (zh) * 2002-04-09 2003-10-22 株式会社半导体能源研究所 半导体显示器件
CN1677207A (zh) * 2004-03-30 2005-10-05 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示器及其制造方法
CN101620352A (zh) * 2007-07-05 2010-01-06 三星电子株式会社 显示基底、加工其的方法和使用其的显示设备
US20100059752A1 (en) * 2008-09-11 2010-03-11 Jeong-Ho Lee Display substrate, method of manufacturing the same
CN103869521A (zh) * 2012-12-11 2014-06-18 三星显示有限公司 液晶显示器
CN104503128A (zh) * 2014-12-19 2015-04-08 深圳市华星光电技术有限公司 用于显示器的彩膜基板及其制造方法和彩膜基板的光罩
CN104965366A (zh) * 2015-07-15 2015-10-07 深圳市华星光电技术有限公司 阵列彩膜集成式液晶显示面板的制作方法及其结构
CN105093646A (zh) * 2015-08-11 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 具有无机覆盖层的彩色滤光片基板以及包含它的显示面板

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107402468A (zh) * 2017-07-31 2017-11-28 深圳市华星光电技术有限公司 一种coa阵列基板制作方法及相应的coa阵列基板
CN108873517A (zh) * 2018-06-25 2018-11-23 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板以及显示装置
CN108873517B (zh) * 2018-06-25 2023-10-20 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板以及显示装置
CN110673386A (zh) * 2019-10-15 2020-01-10 深圳市华星光电技术有限公司 一种阵列基板及液晶显示面板
CN110687704A (zh) * 2019-10-23 2020-01-14 深圳市华星光电技术有限公司 检测影响coa基板拼接曝光缺陷的方法
CN110687704B (zh) * 2019-10-23 2022-09-27 Tcl华星光电技术有限公司 检测影响coa基板拼接曝光缺陷的因素的方法
CN110908152A (zh) * 2019-11-08 2020-03-24 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 基板组立机台及基板组立成盒的方法
CN111474756A (zh) * 2020-05-27 2020-07-31 成都中电熊猫显示科技有限公司 显示面板及其制造方法
CN111474756B (zh) * 2020-05-27 2022-11-08 成都中电熊猫显示科技有限公司 显示面板及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN106054473B (zh) 2019-05-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106054473A (zh) Coa基板、彩色滤光膜及彩色滤光膜的形成方法
CN102681246B (zh) 一种彩膜基板及其制造方法、以及液晶显示器
US9696594B2 (en) Display substrate and fabricating method thereof, and display device
US9671641B2 (en) Color filter substrate used in a display and its manufacturing method
CN105527744B (zh) 彩膜基板的制作方法
CN104614931B (zh) 掩模板及制造彩膜基板的方法和彩膜基板
CN104656293A (zh) 液晶显示面板及其制作方法、显示装置
US9823567B2 (en) Manufacturing method of mask plate for shielding during sealant-curing
CN103033981A (zh) 彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板
CN102681068A (zh) 彩色滤光片及其制作方法
CN101840099A (zh) 液晶面板及其制造方法
US20190113800A1 (en) Color Filter Substrate and Method for Manufacturing the Same, Display Panel and Display Device
US9116297B2 (en) Color filter substrate, manufacturing method thereof and liquid crystal panel
CN106980202B (zh) 具有一体式黑色矩阵与光阻间隔物的液晶面板的制作方法及光罩
CN102269834A (zh) 一种彩色滤光片及其制造方法
CN106501989A (zh) 一种基板及其制作方法
CN105182625A (zh) 一种显示基板及其制作方法和显示装置
CN103424942A (zh) 彩膜基板及其制备方法、显示装置
WO2019075900A1 (zh) 液晶显示面板及其制作方法
CN102981202A (zh) 一种彩色滤光片的制作方法
CN104865729A (zh) 彩膜基板及其制作方法、隔垫物的制作方法及显示装置
CN107402468A (zh) 一种coa阵列基板制作方法及相应的coa阵列基板
US9122150B2 (en) Method for manufacturing color filter
US10852578B2 (en) Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
CN105093818B (zh) 掩模图形的制造方法和掩模图形

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant