CN106030397A - 显示装置 - Google Patents

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安藤晶
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Abstract

液晶面板(11)具备：阵列基板(11b)；CF基板(11a)；密封部(11d)，其介于阵列基板(11b)和CF基板(11a)之间，密封内部空间(IS)；第1透明电极膜(23)，其在阵列基板(11b)上配置于显示区域(AA)；第1层间绝缘膜(41)，其在阵列基板(11b)上配置在跨显示区域(AA)和非显示区域(NAA)的范围，密封部(11d)粘接到第1层间绝缘膜(41)，并且第1层间绝缘膜(41)配置在第1透明电极膜(23)的阵列基板(11b)侧，第1层间绝缘膜(41)在非显示区域(NAA)具有配置在比密封部(11d)靠显示区域(AA)侧的位置的狭缝(42)；以及第2透明电极膜(24)，其在阵列基板(11b)上至少配置于显示区域(AA)，并且配置在第1层间绝缘膜(41)的阵列基板(11b)侧，在与第1透明电极膜(23)之间夹着第1层间绝缘膜(41)。

Description

显示装置
技术领域
本发明涉及显示装置。
背景技术
以往，作为构成液晶显示装置的主要部件的液晶面板为如下构成。即，液晶面板以在一对玻璃制成的基板间夹着液晶并且在该液晶的周围用密封部包围的方式形成，从而将液晶密封。两基板包括：形成有作为开关元件的TFT、像素电极、绝缘膜以及各配线等的阵列基板；以及形成有彩色滤光片等的CF基板。作为这种液晶面板的一例已知下述专利文献1中记载的液晶面板。
在该专利文献1记载的液晶面板中，在层叠地形成有机绝缘膜和无机绝缘膜的阵列基板的密封部的形成区域，沿着密封部的形成区域的周方向形成具有贯通无机绝缘膜而不贯通有机绝缘膜的深度的凹陷部。利用该凹陷部能实现密封部相对于阵列基板的粘接性的提高等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：特开2010-91896号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而，在上述专利文献1记载的液晶面板中，密封部主要粘接到无机绝缘膜。由于形成该密封部和无机绝缘膜各自的材料的线膨胀系数(热膨胀率)不同，因此在液晶面板的使用环境下产生温度变化时，应力作用到无机绝缘膜中的与密封部的粘接部位，该应力影响到无机绝缘膜的显示区域侧的部分，在它超过无机绝缘膜的紧贴性时，在显示区域侧的部分产生剥离。当在无机绝缘膜的显示区域侧的部分产生剥离时，有可能在配置在无机绝缘膜的上层侧的透明电极膜产生错位等不良，从而产生显示不良。特别是，在进行液晶面板的窄边框化，从密封部到显示区域的宽度变窄的情况下，有在无机绝缘膜中的与密封部的粘接部位产生的应力更易于影响无机绝缘膜的显示区域侧的部分而易于产生显示不良的趋势，应对是困难的。
本发明是基于上述情况而完成的，其目的在于抑制显示不良的产生。
用于解决问题的方案
本发明的第1显示装置具备：第1基板，其被划分为显示区域和包围上述显示区域的非显示区域；第2基板，其与上述第1基板之间以具有内部空间的形式配置为相对状；密封部，其介于上述第1基板和上述第2基板之间，以包围上述内部空间的形式配置于上述非显示区域，并且密封上述内部空间；第1透明电极膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域；第1绝缘膜，其在上述第1基板上配置在跨上述显示区域和上述非显示区域的范围，上述密封部粘接到上述第1绝缘膜，并且上述第1绝缘膜配置在上述第1透明电极膜的上述第1基板侧，上述第1绝缘膜在上述非显示区域具有配置在比上述密封部靠上述显示区域侧的位置的狭缝；以及第2透明电极膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域，并且配置在上述第1绝缘膜的上述第1基板侧，在与上述第1透明电极膜之间夹着上述第1绝缘膜。
这样，在相互相对的第1基板和第2基板之间，具有内部空间并且存在以包围该内部空间的形式配置的密封部，利用密封部密封内部空间。第1绝缘膜在第1基板上配置在跨显示区域和非显示区域的范围，密封部粘接到第1绝缘膜，并且第1绝缘膜以夹在第1透明电极膜和第2透明电极膜之间的形式配置。
然而，当形成密封部和第1绝缘膜各自的材料的线膨胀系数不同时，在产生温度变化的情况下，应力有可能作用到第1绝缘膜中的与密封部的粘接部位。特别是，在进行窄边框化，从密封部到显示区域的宽度变窄的情况下，有在第1绝缘膜中的与密封部的粘接部位产生的应力更易于影响第1绝缘膜的显示区域侧的部分的趋势。而且，在第1绝缘膜夹在第1透明电极膜和第2透明电极膜之间的构成中，与不具备第2透明电极膜的构成相比，有第1绝缘膜的膜厚相对变薄的趋势，因此由于作用到第1绝缘膜的与密封部的粘接部位的应力而在第1绝缘膜易于产生剥离。关于这一点，由于第1绝缘膜在非显示区域具有配置在比密封部靠显示区域侧的位置的狭缝，因此即使上述应力作用到第1绝缘膜中的与密封部的粘接部位，该应力难以影响到第1绝缘膜的显示区域侧的部分。由此，在第1绝缘膜的显示区域侧的部分难以产生剥离，因此在显示区域在配置在第1绝缘膜的上层侧的第1透明电极膜中难以产生错位等不良。从而，在抑制显示不良的产生，特别是实现窄边框化方面是优选的。
作为本发明的第1显示装置的实施方式，优选如下构成。
(1)上述第2透明电极膜具有扩展到上述非显示区域地配置的电极膜扩展部，上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：将上述狭缝配置在与上述第2透明电极膜的上述电极膜扩展部重叠的位置。在形成狭缝时，例如在使用光刻法部分地蚀刻第1绝缘膜的情况下，通过在第1绝缘膜的狭缝的预定形成部分的第1基板侧配置第2透明电极膜的电极膜扩展部，使电极膜扩展部作为蚀刻阻挡物发挥功能，避免蚀刻波及到电极膜扩展部的第1基板侧。
(2)具备：第2绝缘膜，其在上述第1基板上配置在跨上述显示区域和上述非显示区域的范围，并且配置在上述第2透明电极膜的上述第1基板侧；以及共用电位提供部，其在上述第1基板上配置于上述非显示区域，并且配置在上述第2绝缘膜的上述第1基板侧，并且设为共用电位，上述电极膜扩展部通过形成于上述第2绝缘膜的接触孔而与上述共用电位提供部连接。电极膜扩展部配置在跨显示区域和非显示区域的范围，并且通过形成于配置在第2透明电极膜的第1基板侧的第2绝缘膜的接触孔与配置在第2绝缘膜的第1基板侧的共用电位提供部连接，因此从共用电位提供部向具有电极膜扩展部的第2透明电极膜提供共用电位。这样，电极膜扩展部除了具有将共用电位传送给第2透明电极膜的功能以外，还具有防止在第1绝缘膜形成狭缝时蚀刻电极膜扩展部的第1基板侧的功能，因此与假设按各功能设置不同的部位的情况相比，能实现构成的简单化。
(3)具备第2绝缘膜，上述第2绝缘膜在上述第1基板上配置在跨上述显示区域和上述非显示区域的范围，并且配置在上述第1绝缘膜的上述第1基板侧，上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：将上述狭缝配置在与上述第2绝缘膜重叠的位置。这样，狭缝的配置自由度变高。
(4)上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：使上述狭缝成为在上述第1绝缘膜的膜厚方向上贯通的形态。这样，与假设为狭缝在第1绝缘膜的膜厚方向上不贯通而残存薄部(比狭缝的非形成部位薄的部位)的形态的情况相比，在第1绝缘膜中的与密封部的粘接部位产生的应力更难以影响到第1绝缘膜的显示区域侧的部分。由此，在第1绝缘膜的显示区域侧的部分更难以产生剥离，更好地抑制显示不良的产生。
(5)上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：在上述狭缝的形成部位形成比上述狭缝的非形成部位薄的薄部。在形成狭缝时，例如在利用使用半色调掩模、灰色调掩模的光刻法部分地蚀刻第1绝缘膜的情况下，通过在第1绝缘膜的狭缝的形成部位残留薄部，能避免蚀刻波及到第1绝缘膜的第1基板侧。而且，与假设为狭缝在膜厚方向上贯通第1绝缘膜的形态的情况相比，能避免第1绝缘膜的第1基板侧通过狭缝露出，因此避免膜质量不均匀化。由此，难以产生伴随着狭缝的形成而产生的显示性能的劣化。另外，狭缝的配置自由度变高。
(6)上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：将上述狭缝配置在离上述密封部比离上述显示区域近的位置。这样，在第1绝缘膜的狭缝的形成部位形成薄部的构成中，狭缝的配置自由度变高，因此能将狭缝配置在离密封部比离显示区域近的位置。这样，即使应力作用到第1绝缘膜的与密封部的粘接部位而产生剥离，也会通过上述狭缝的配置使第1绝缘膜的能剥离的部分的范围变窄。由此，即使在第1绝缘膜中产生剥离，通过限定其剥离范围，也难以对显示性能造成不良影响。
(7)上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：沿着上述密封部而涵盖其整周连续或断续地配置上述狭缝。这样，利用涵盖密封部的整周连续或断续地配置的狭缝，在第1绝缘膜中的与密封部的粘接部位产生的应力难以影响到第1绝缘膜的显示区域侧的部分，因此在第1绝缘膜的显示区域侧的部分难以产生剥离，能抑制显示不良的产生。
(8)上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：使上述狭缝呈涵盖上述密封部的整周连续地延伸的槽状。这样，涵盖密封部的整周在中途不间断地连续地配置狭缝，因此在第1绝缘膜中的与密封部的粘接部位产生的应力更难以影响到第1绝缘膜的显示区域侧的部分。由此，在第1绝缘膜的显示区域侧的部分更难以产生剥离，能更好地抑制显示不良的产生。
(9)上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：涵盖上述密封部的整周断续地配置上述狭缝。这样，利用涵盖密封部的整周断续地配置的狭缝，在第1绝缘膜的与密封部的粘接部位产生的应力难以影响到第1绝缘膜的显示区域侧的部分，因此在第1绝缘膜的显示区域侧的部分难以产生剥离，能抑制显示不良的产生。
(10)具备在上述第2基板上至少配置于上述非显示区域的遮光部，上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：将上述狭缝与上述遮光部重叠地配置。在该显示装置的狭缝的形成区域和狭缝的非形成区域中，该显示装置赋予透射光的光学作用可能产生差，这有可能成为亮度不均的原因。关于这一点，第1绝缘膜是按以下方式设置的：将狭缝与第2基板具备的遮光部重叠地配置，因此避免光透射该显示装置的狭缝的形成区域。由此，避免在该显示装置的透射光中产生亮度不均，抑制显示不良的产生。
本发明的第2显示装置具备：第1基板，其被划分为显示区域和包围上述显示区域的非显示区域；第2基板，其与上述第1基板之间以具有内部空间的形式配置为相对状；密封部，其介于上述第1基板和上述第2基板之间，以包围上述内部空间的形式配置于上述非显示区域，并且密封上述内部空间；第1透明电极膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域；第1绝缘膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域，并且配置在上述第1透明电极膜的上述第1基板侧，并且配置在与上述密封部不重叠的范围；以及第2透明电极膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域，并且配置在上述第1绝缘膜的上述第1基板侧，在与上述第1透明电极膜之间夹着上述第1绝缘膜。
这样，在相互相对的第1基板和第2基板之间，具有内部空间并且存在以包围该内部空间的形式配置的密封部，利用密封部密封内部空间。第1绝缘膜在第1基板上至少配置在显示区域，并且以夹在第1透明电极膜和第2透明电极膜之间的形式配置。
并且，第1绝缘膜配置在与密封部不重叠的范围，密封部不直接粘接到第1绝缘膜。在此，在假设密封部直接粘接到第1绝缘膜的情况下，当伴随着温度变化而在两者的粘接部位产生应力时，有可能在第1绝缘膜的显示区域侧的部分产生剥离，在配置在第1绝缘膜的上层侧的第1透明电极膜中产生错位等不良。特别是，在进行窄边框化，从密封部到显示区域的宽度变窄的情况下，有在上述粘接部位产生的应力更易于影响第1绝缘膜的显示区域侧的部分的趋势。而且，在第1绝缘膜夹在第1透明电极膜和第2透明电极膜之间的构成中，与不具备第2透明电极膜的构成相比，有第1绝缘膜的膜厚相对变薄的趋势，因此由于作用到第1绝缘膜中的与密封部的粘接部位的应力而在第1绝缘膜中易于产生剥离。与此相对，通过设为第1绝缘膜不直接粘接到密封部的构成，能避免伴随着温度变化而应力从密封部作用到第1绝缘膜的情况。由此，避免在第1绝缘膜的显示区域侧的部分产生剥离，因此在显示区域在配置在第1绝缘膜的上层侧的第1透明电极膜中难以产生错位等不良。从而，在抑制显示不良的产生，特别是实现窄边框化方面是优选的。
作为本发明的第2显示装置的实施方式，优选如下构成。
(1)具备：第2透明电极膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域，并且配置在上述第1绝缘膜的上述第1基板侧，在与上述第1透明电极膜之间夹着上述第1绝缘膜；以及第2绝缘膜，其在上述第1基板上配置在跨上述显示区域和上述非显示区域的范围，上述密封部粘接到上述第2绝缘膜，并且上述第2绝缘膜配置在上述第2透明电极膜的上述第1基板侧，并且上述第2绝缘膜的膜厚比上述第1绝缘膜的膜厚大。这样在第1绝缘膜夹在第1透明电极膜和第2透明电极膜之间的构成中，粘接到密封部的第2绝缘膜的膜厚比第1绝缘膜的膜厚大，因此即使在伴随着温度变化而应力作用到第2绝缘膜的与密封部的粘接部位的情况下，在第2绝缘膜的显示区域侧的部分也难以产生剥离。换言之，虽然膜厚相对小的第1绝缘膜有由于应力而易于产生剥离的趋势，但是通过设为第1绝缘膜不直接粘接到密封部的构成，能避免伴随着温度变化而应力从密封部作用到第1绝缘膜的情况。由此，避免在第1绝缘膜的显示区域侧的部分产生剥离，因此抑制显示不良的产生。
发明效果
根据本发明，能抑制显示不良的产生。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式1的安装有驱动器的液晶面板、柔性基板以及控制电路基板的连接构成的概略俯视图。
图2是表示沿着液晶显示装置的长边方向的截面构成的概略截面图。
图3是表示液晶面板整体的截面构成的概略截面图。
图4是阵列基板的俯视图。
图5是表示将配置在阵列基板的非显示区域的屏蔽部、行控制电路部及列控制电路部与配置在显示区域的TFT连接的配线构成的俯视图。
图6是将阵列基板的角部附近放大的俯视图。
图7是图4的vii-vii线截面图。
图8是将本发明的实施方式2的阵列基板的角部附近放大的俯视图。
图9是图8的ix-ix线截面图。
图10是图8的x-x线截面图。
图11是将本发明的实施方式3的阵列基板的角部附近放大的俯视图。
图12是图11的xii-xii线截面图。
图13是表示本发明的实施方式4的液晶面板的端部的截面构成的截面图。
图14是将本发明的实施方式5的阵列基板的角部附近放大的俯视图。
图15是图14的xv-xv线截面图。
图16是表示本发明的实施方式6的液晶面板的端部的截面构成的截面图。
图17是表示本发明的实施方式7的液晶面板的端部的截面构成的截面图。
图18是将本发明的实施方式8的阵列基板的角部附近放大的俯视图。
图19是图18的xix-xix线截面图。
图20是将本发明的实施方式9的阵列基板的角部附近放大的俯视图。
图21是图20的xxi-xxi线截面图。
图22是将本发明的实施方式10的阵列基板的角部附近放大的俯视图。
图23是图22的xxiii-xxiii线截面图。
图24是表示本发明的实施方式11的液晶面板的端部的截面构成的截面图。
图25是表示本发明的实施方式12的液晶面板的端部的截面构成的截面图。
图26是表示本发明的实施方式13的液晶面板的端部的截面构成的截面图。
图27是表示本发明的实施方式14的液晶面板的端部的截面构成的截面图。
图28是表示本发明的实施方式15的液晶面板的端部的截面构成的截面图。
具体实施方式
＜实施方式1＞
根据图1至图7说明本发明的实施方式1。在本实施方式中，例示了液晶显示装置10。此外，在各附图的一部分中示出X轴、Y轴以及Z轴，以各轴方向为在各附图中示出的方向的方式进行描述。另外，上下方向以图2、图3以及图7等为基准，并且将该图上侧设为表侧且将该图下侧设为里侧。
如图1和图2所示，液晶显示装置10具备：液晶面板(显示装置，显示面板)11，其具有能显示图像且配置在中央侧的显示区域(有源区域)AA和以包围显示区域AA的形式配置在外周侧的非显示区域(非有源区域)NAA；驱动器(面板驱动部)21，其驱动液晶面板11；控制电路基板(外部的信号提供源)12，其从外部对驱动器21提供各种输入信号；柔性基板(外部连接部件)13，其将液晶面板11和外部的控制电路基板12电连接；以及背光源装置(照明装置)14，其作为向液晶面板11提供光的外部光源。另外，液晶显示装置10还具备用于收纳/保持相互组装的液晶面板11和背光源装置14的表里一对外装构件15、16，其中在表侧的外装构件15中形成有用于从外部视认在液晶面板11的显示部AA显示的图像的开口部15a。本实施方式的液晶显示装置10用于手机(包含智能手机等)、笔记本电脑(包含平板笔记本电脑等)、便携型信息终端(包含电子书、PDA等)、数码相框、便携型游戏机、电子墨水纸等各种电子设备(未图示)。因此，构成液晶显示装置10的液晶面板11的画面尺寸为几英寸～十几英寸程度，一般被分类为小型或者中小型的大小。
首先简单说明背光源装置14。如图2所示，背光源装置14具备：朝向表侧(液晶面板11侧)开口的呈大致箱形的底座14a；配置在底座14a内的未图示的光源(例如冷阴极管、LED、有机EL等)；以及以覆盖底座14a的开口部的形式配置的未图示的光学构件。光学构件具有将从光源产生的光变换成面状等功能。
接着，说明液晶面板11。如图1所示，液晶面板11作为整体呈纵长的方形(矩形)，在液晶面板11的偏于长边方向的一个端部侧(图1中示出的上侧)的位置配置有显示部(有源区域)AA，并且在偏于长边方向的另一个端部侧(图1中示出的下侧)的位置配置有驱动器21和柔性基板13。在该液晶面板11中包围显示区域AA的外侧的区域为不显示图像的非显示区域NAA。该非显示区域NAA包括：包围显示区域AA的大致框状的区域(后述的CF基板11a的边框部分)；以及在长边方向的另一个端部侧确保的区域(后述的阵列基板11b中的与CF基板11a不重叠而露出的部分)，在其中的长边方向的另一个端部侧确保的区域包含驱动器21和柔性基板13的安装区域(装配区域)。液晶面板11的短边方向与各附图的X轴方向一致，长边方向与各附图的Y轴方向一致。此外，在图1和图4中，比CF基板11a小一圈的框状的点划线表示显示区域AA的外形，该点划线外侧的区域为非显示区域NAA。
接着，说明与液晶面板11连接的构件。控制电路基板12利用螺钉等装配到背光源装置14的底座14a的里面(与液晶面板11侧相反的一侧的外表面)。在该控制电路基板12中，在由纸苯酚或者玻璃环氧树脂制成的基板上，安装有用于向驱动器21提供各种输入信号的电子部件，并且配置形成有未图示的规定的图案的配线(导电路)。该控制电路基板12经由未图示的ACF(Anisotropic ConductiveFilm：各向异性导电膜)以电的且机械的方式连接到柔性基板13的一个端部(一端侧)。
如图2所示，柔性基板(FPC基板)13具备包括具有绝缘性和可挠性的合成树脂材料(例如聚酰亚胺系树脂等)的基材，在该基材上具有多个配线图案(未图示)，长度方向上的一个端部连接到如前所述配置在底座14a的里面侧的控制电路基板12，而另一个端部(另一端侧)连接到液晶面板11的阵列基板11b，因此在液晶显示装置10内以截面形状呈大致U型的方式弯曲成折回状。在柔性基板13的长度方向上的两端部，配线图案露出到外部而构成端子部(未图示)，该端子部分别与控制电路基板12和阵列基板11b电连接。由此，能将从控制电路基板12侧提供的输入信号传送给液晶面板11侧。
如图1所示，驱动器21包括在内部具有驱动电路的LSI芯片，基于从作为信号提供源的控制电路基板12提供的信号工作，由此对从作为信号提供源的控制电路基板12提供的输入信号进行处理而生成输出信号，将该输出信号向液晶面板11的显示部AA输出。该驱动器21在俯视时呈横长的方形(沿着液晶面板11的短边呈长条状)，并且直接安装到液晶面板11(后述的阵列基板11b)的非显示区域NAA，即COG(Chip On Glass：玻璃上芯片)安装。此外，驱动器21的长边方向与X轴方向(液晶面板11的短边方向)一致，其短边方向与Y轴方向(液晶面板11的长边方向)一致。
再说明液晶面板11。如图3所示，液晶面板11至少具有：一对基板11a、11b，其相互呈相对状，并且在它们之间具有内部空间IS；液晶层(液晶)11c，其夹持在两基板11a、11b间，并且包含配置在内部空间IS且作为伴随着施加电场而光学特性变化的物质的液晶分子；以及密封部11d，其介于两基板11a、11b间，以包围内部空间IS和其中配置的液晶层11c的形式配置并且密封内部空间IS和其中配置的液晶层11c。一对基板11a、11b中的表侧(正面侧)为CF基板(第2基板，相对基板)11a，里侧(背面侧)为阵列基板(第1基板，TFT基板，有源矩阵基板)11b。该CF基板11a和阵列基板11b分别被划分为前述的显示区域AA和非显示区域NAA。此外，在两基板11a、11b的外面侧分别贴附有偏振板11f、11g。
液晶层11c是通过所谓的滴下注入法封入两基板11a、11b间，具体地说，在将形成液晶层11c的液晶材料滴下到CF基板11a上后，将阵列基板11b贴合到CF基板11a时，使液晶材料遍布地扩散在形成在两基板11a、11b间的内部空间IS内而形成的。如图1和图3所示，密封部11d配置在液晶面板11中的非显示区域NAA并且在俯视时(从各基板11a、11b的板面的法线方向观看时)呈沿着非显示区域NAA的纵长的大致框状(图1和图4)。密封部11d在液晶面板11的制造过程中形成在一对基板11a、11b中的CF基板11a上。该密封部11d在两基板11a、11b的外周端部将两基板11a、11b间的间隔(液晶层11c的厚度)即单元间隙维持为一定的值。密封部11d的宽度尺寸比非显示区域NAA的最窄的宽度尺寸(具体地说，除了驱动器21侧的边部以外的3个边部的宽度尺寸)小。密封部11d的内端位置配置得比显示区域AA和非显示区域NAA的边界位置靠外(与显示区域AA侧相反的一侧)。因此，在非显示区域NAA的密封部11d内侧(显示区域AA侧)，存在沿着密封部11d而在俯视时呈边框状(框状)的密封部非配置区域SNA，其宽度尺寸等于密封部11d的内端位置与显示区域AA和非显示区域NAA的边界位置之间的距离。密封部11d含有例如通过照射紫外线而固化的紫外线固化性树脂材料(固化性树脂材料)。密封部11d含有的紫外线固化性树脂材料具有在接收紫外线的照射前为具有流动性的液体状态，而在接收紫外线的照射时固化而成为固体状态的性质。另外，密封部11d中的配置在液晶面板11的除了驱动器21和柔性基板13的安装区域以外的剩余的3边的端部(非安装侧端部)的部分配置在非显示区域NAA的最外端位置(图1)。
CF基板11a和阵列基板11b分别具备大致透明的(具有高的透光性的)玻璃基板(基板)GS，是在该玻璃基板GS上层叠各种膜(结构物)而形成的。其中，如图1和图2所示，CF基板11a的短边尺寸与阵列基板11b的短边尺寸大致相等，而长边尺寸小于阵列基板11b的长边尺寸，并且CF基板11a与阵列基板11b在长边方向上的一个(图1所示的上侧)端部一致的状态下贴合。因此，阵列基板11b中的长边方向上的另一个(图1所示的下侧)端部在规定范围内与CF基板11a不重叠，处于表里两板面露出在外部的状态，在此处确保驱动器21和柔性基板13的安装区域。此外，图7概略性地表示各基板11a、11b所具备的膜(结构物)，图示的各结构物的大小(厚度、高度等)、配置并非一定与实物的大小、配置一致。
并且，本实施方式的液晶面板11的动作模式为将IPS(In-PlaneSwitching：面内开关)模式进一步改良后的FFS(Fringe FieldSwitching：边缘场开关)模式，如图7所示，在一对基板11a、11b中的阵列基板11b侧一起形成后述的像素电极18(第1透明电极膜23)和共用电极22(第2透明电极膜24)，并且将该像素电极18和共用电极22配置在不同的层。以下，详细说明各基板11a、11b具备的膜的具体的层叠顺序。
首先，说明利用已知的光刻法等在CF基板11a的内面侧(液晶层11c侧，与阵列基板11b的相对面侧)层叠地形成的各种膜。如图7所示，在CF基板11a上从下层(玻璃基板GS，表侧)侧起按顺序层叠地形成遮光部(黑矩阵)11i、彩色滤光片11h、CF基板侧平坦化膜(覆盖膜)11j。另外，虽然省略了图示，但是在CF基板侧平坦化膜11j的上层侧，层叠有取向膜，取向膜面对液晶层11c而配置，具有实体状的图案并且用于对液晶层11c包含的液晶分子进行取向，例如包括聚酰亚胺。另外，虽然省略了图示，但是在CF基板侧平坦化膜11j的上层侧，设置有朝向阵列基板11b侧以贯通液晶层11c的形式突出的呈柱状的感光间隔物部，主要在显示区域AA能将单元间隙维持为一定的值。
如图7所示，遮光部11i在形成CF基板11a的玻璃基板GS的表面以跨显示区域AA和非显示区域NAA的形式配置，例如在感光性树脂材料中含有遮光材料(例如炭黑)而具有高的遮光性。遮光部11i的配置在显示区域AA的部分图案化为在俯视时呈格子状，而配置在非显示区域NAA的部分与密封部11d同样图案化为在俯视时呈边框状(框状)。彩色滤光片11h配置在显示区域AA，并且根据后述的阵列基板11b侧的像素电极18的配置而图案化为岛状，例如是在感光性树脂材料中含有用于着色的颜料而成的。详细地说，彩色滤光片11h在CF基板11a的显示区域AA包括在俯视时与阵列基板11b侧的各像素电极18重叠的位置在平面上配置成矩阵状的多个着色部11hR、11hG、11hB。各着色部11hR、11hG、11hB在俯视时呈纵长的方形(未图示)。在彩色滤光片11h中，分别呈红色、绿色、蓝色的各着色部11hR、11hG、11hB沿着行方向(X轴方向)交替地重复排列而构成着色部群，该着色部群沿着列方向(Y轴方向)排列配置有多个。另外，在显示区域AA在相邻的着色部11hR、11hG、11hB之间，通过利用遮光部11i的格子状的部分进行分隔，防止像素间的混色。该遮光部11i和彩色滤光片11h都在制造工序中通过已知的光刻法图案化而形成在CF基板11a上。CF基板侧平坦化膜11j层叠在遮光部11i和彩色滤光片11h的上层侧，并且为以跨显示区域AA和非显示区域NAA的形式的实体状的图案，例如包括聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)等丙烯酸系树脂材料等。CF基板侧平坦化膜11j的膜厚大于彩色滤光片11h、遮光部11i的厚度，由此，CF基板侧平坦化膜11j将CF基板11a的液晶层11c侧的面(配置有取向膜的面)适当地平坦化。另外，配置在彩色滤光片11h、遮光部11i的上层侧的CF基板侧平坦化膜11j中的配置在非显示区域NAA的部分在俯视时与密封部11d重叠，并且粘接到密封部11d。
接着，说明通过已知的光刻法等层叠地形成在阵列基板11b的内面侧(液晶层11c侧，与CF基板11a的相对面侧)的各种膜。如图7所示，在阵列基板11b上从上层(液晶层11c侧，表侧)侧起按顺序层叠地形成有第1透明电极膜23、第1层间绝缘膜(第1绝缘膜，无机绝缘膜)41、第2透明电极膜24、平坦化膜(第2绝缘膜，有机绝缘膜)40、钝化膜(有机钝化膜或无机钝化膜，图中未记载)、第1金属膜(源极金属膜)38、第2层间绝缘膜(无机绝缘膜)39、第2金属膜(栅极金属膜)34、栅极绝缘膜(无机绝缘膜)35、半导体膜36、底涂膜37。另外，虽然省略了图示，但是在第1层间绝缘膜41和第1透明电极膜23的上层侧，层叠有取向膜，取向膜面对液晶层11c而配置，具有实体状的图案并且用于对液晶层11c包含的液晶分子进行取向，例如包括聚酰亚胺。
底涂膜37为覆盖形成阵列基板11b的玻璃基板GS的表面的整体的实体状的图案，例如包括氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiNO)等。半导体膜36层叠在底涂膜37的上层侧，并且至少在显示区域AA根据后述的TFT17的配置而图案化为岛状。半导体膜36包括作为多晶化的硅薄膜(多晶硅薄膜)的一种的CG硅(Continuous Grain Silicon：连续晶界硅)薄膜。CG硅薄膜例如是通过将金属材料添加到非晶硅薄膜中，在550℃以下程度的低温进行短时间的热处理而形成的，由此在硅晶体的结晶晶界的原子排列中具有连续性。栅极绝缘膜35层叠在底涂膜37和半导体膜36的上层侧，并且为跨显示区域AA和非显示区域NAA的形式的实体状的图案，例如包括氧化硅(SiO2)。
第2金属膜34层叠在栅极绝缘膜35的上层侧，并且通过图案化而分别配置在显示区域AA和非显示区域NAA，例如由钛(Ti)和铜(Cu)的层叠膜形成。第2层间绝缘膜39层叠在栅极绝缘膜35和第2金属膜34的上层侧，并且为跨显示区域AA和非显示区域NAA的形式的实体状的图案，例如包括氧化硅(SiO2)。第1金属膜38层叠在第2层间绝缘膜39的上层侧，并且通过图案化而分别配置在显示区域AA和非显示区域NAA，例如由钛(Ti)和铜(Cu)的层叠膜形成。钝化膜层叠在第1金属膜38的上层，为跨显示区域AA和非显示区域NAA的形式的实体状的图案，例如包括氧化硅(SiO2)。该钝化膜在为了配线的低负荷化而在单元外(密封外)使用第1金属膜38时是必需的。平坦化膜40层叠在第2层间绝缘膜39和第1金属膜38的上层侧，并且为跨显示区域AA和非显示区域NAA的形式的实体状的图案，例如包括聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)等丙烯酸系树脂材料等。平坦化膜40的膜厚优选为2μm～3μm的范围，在本实施方式中为2.5μm程度。第2透明电极膜24层叠在平坦化膜40的上层侧，并且为跨显示区域AA和非显示区域NAA的形式的大致实体状的图案，例如包括ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)或ZnO(ZincOxide：氧化锌)这样的透明电极材料。第1层间绝缘膜41层叠在平坦化膜40和第2透明电极膜24的上层侧，并且为跨显示区域AA和非显示区域NAA的形式的实体状的图案，例如包括氮化硅(SiNx)。第1层间绝缘膜41的膜厚优选为0.05μm～1μm的范围，其中，从确保绝缘可靠性、制造成本以及制造的作业时间的观点来说，更优选0.05μm～0.2μm的范围，在本实施方式中为0.1μm程度。此外，第2透明电极膜24以夹在下层侧的平坦化膜40和上层侧的第1层间绝缘膜41之间的形式配置。第1透明电极膜23层叠在第1层间绝缘膜41的上层侧，并且在显示区域AA根据TFT17的配置而图案化为岛状，例如包括ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)或ZnO(Zinc Oxide：氧化锌)这样的透明电极材料。
如图7所示，栅极绝缘膜35、第2层间绝缘膜39、平坦化膜40以及第1层间绝缘膜41中的作为有机绝缘膜的平坦化膜40的膜厚与作为无机绝缘膜的其它绝缘膜35、39、41相比相对较大。因此，平坦化膜40能适当地平坦化阵列基板11b的液晶层11c侧的面(配置有取向膜的面)，并且与其它绝缘膜35、39、41相比在有应力作用的情况下难以产生剥离。栅极绝缘膜35、第2层间绝缘膜39、平坦化膜40以及第1层间绝缘膜41中的配置在最上层侧的第1层间绝缘膜41中的配置在非显示区域NAA的部分在俯视时与密封部11d重叠，并且粘接到密封部11d。另外，通过在阵列基板11b的制造工序中对栅极绝缘膜35、第2层间绝缘膜39、平坦化膜40以及第1层间绝缘膜41进行图案化，在各自的规定的位置形成有接触孔CH1～CH3等开口。
接着，详细说明存在于阵列基板11b的显示区域AA内的构成。如图5所示，在阵列基板11b的显示区域AA，作为开关元件的TFT(薄膜晶体管，显示元件)17和像素电极18各多个地排列设置成矩阵状，并且呈格子状的栅极配线(扫描信号线，行控制线)19和源极配线(列控制线，数据线)20包围地配设在该TFT17和像素电极18的周围。换言之，在呈格子状的栅极配线19和源极配线20的交叉部，TFT17和像素电极18按矩阵状排列配置。栅极配线19包括第2金属膜34，而源极配线20包括第1金属膜38，在它们的交叉部位以介于其间的形式配置有第2层间绝缘膜39。后面详细描述，但是栅极配线19和源极配线20分别与TFT17的栅极电极17a和源极电极17b连接，像素电极18与TFT17的漏极电极17c连接。栅极电极17a与栅极配线19同样包括第2金属膜34，而源极电极17b以及漏极电极17c与源极配线20同样包括第1金属膜38(参照图7)。另外，在显示区域AA，以与栅极配线19平行并且在俯视时与像素电极18的一部分重叠的形式设置有未图示的辅助电容配线。该辅助电容配线与栅极配线19同样地包括第2金属膜34。
如图7所示，配置在显示区域AA的TFT17具备：包括半导体膜36的沟道部17d；以隔着栅极绝缘膜35重叠在沟道部17d的上层侧的形式配置的栅极电极17a；隔着第2层间绝缘膜39配置在栅极电极17a的上层侧的源极电极17b和漏极电极17c，为所谓的顶栅型(栅极电极上置型)。其中，源极电极17b和漏极电极17c通过分别形成于栅极绝缘膜35和第2层间绝缘膜39的接触孔CH1与沟道部17d连接，由此能进行源极电极17b和漏极电极17c之间的电子的移动。形成沟道部17d的半导体膜36如上所述包括CG硅薄膜。该CG硅薄膜与非晶硅薄膜等相比，电子迁移率变高，例如为200～300cm2/Vs程度，因此通过将包括该CG硅薄膜的半导体膜36作为TFT17的沟道部17d，能使TFT17小型化而使像素电极18的透射光量极大化，从而在实现高清晰化和低功耗化方面是优选的。TFT17的漏极电极17c通过分别形成于平坦化膜40和第1层间绝缘膜41的接触孔CH2连接着包括第1透明电极膜23的像素电极18。由此，当对TFT17的栅极电极17a通电时，电流经由沟道部17d在源极电极17b和漏极电极17c之间流动并且对像素电极18施加规定的电位。此外，像素电极18以其外形沿着形成相对的彩色滤光片11h的各着色部11hR、11hG、11hB的外形的形式在俯视时呈纵长形状，与相对的各着色部11hR、11hG、11hB一起构成像素(单位像素)。包括第2透明电极膜24的共用电极22以夹着第1层间绝缘膜41的形式在俯视时与像素电极18重叠地配置。并且，从后述的共用电位提供部29对共用电极22提供共用电位(基准电位)，因此通过控制如上所述利用TFT17对像素电极18施加的电位，能在两电极18、22间产生规定的电位差。当在两电极18、22间产生电位差时，对液晶层11c施加除了包含沿着阵列基板11b的板面的成分之外，还包含阵列基板11b的板面的法线方向的成分的边缘电场(倾斜电场)，因此能适当地变换液晶层11c包含的液晶分子的取向状态。此外，如上所述，在为大致实体状的图案的共用电极22中的俯视时与平坦化膜40和第1层间绝缘膜41的接触孔CH2重叠的位置，形成有用于穿过像素电极18的接触部分的开口。
下面，详细说明存在于阵列基板11b的非显示区域NAA内的构成。如图5所示，在阵列基板11b的非显示区域NAA，在阵列基板11b的非显示区域NAA中的与显示区域AA的短边部相邻的位置，设置有列控制电路部27，而在与显示区域AA的长边部相邻的位置，设置有行控制电路部(电路部)28。通过使列控制电路部27与源极配线20连接，使行控制电路部28与栅极配线19连接，能进行用于将来自驱动器21的输出信号提供给TFT17的控制。列控制电路部27和行控制电路部28分别与TFT17同样地以半导体膜36为基底而单片地形成在阵列基板11b上，由此具有用于控制向TFT17的输出信号的提供的控制电路及其电路元件。形成该控制电路的电路元件例如包含使用半导体膜36作为沟道部的未图示的电路用TFT(电路用薄膜晶体管)等。如图7所示，控制电路包含包括第2金属膜34的电路用第1配线部25和包括第1金属膜38的电路用第2配线部26等。该列控制电路部27和行控制电路部28在非显示区域NAA配置在跨片部11d的内侧部分和密封部非配置区域SNA的外侧部分的范围。其中，列控制电路部27具有将来自驱动器21的输出信号中包含的图像信号分配给与R、G、B的各色的像素对应的各源极配线20的开关电路(RGB开关电路)。另外，列控制电路部27也能具备电平转换电路、ESD保护电路等附属电路。与此相对，行控制电路部28具有将来自驱动器21的输出信号中包含的扫描信号按规定的定时提供给各栅极配线19而依次扫描各栅极配线19的扫描电路。另外，行控制电路部28也能具备电平转换电路、ESD保护电路等附属电路。此外，列控制电路部27和行控制电路部28通过形成在阵列基板11b上的未图示的连接配线与驱动器21连接。
而且，如图7所示，在阵列基板11b的非显示区域NAA，设置有用于向共用电极22提供共用电位的共用电位提供部29。共用电位提供部29包括第1金属膜38，在非显示区域NAA配置在密封部非配置区域SNA的内侧部分，换言之配置在被行控制电路部28和显示区域AA夹着的位置。形成共用电极22的第2透明电极膜24具有扩展到非显示区域NAA地配置的电极膜扩展部24a，该电极膜扩展部24a的端部在俯视时与共用电位提供部29重叠地配置，并且通过形成在平坦化膜40的接触孔CH3与共用电位提供部29连接。另外，如图5和图7所示，在非显示区域NAA，为了遮蔽液晶面板11的内部空间IS而设置有屏蔽部30。屏蔽部30包括第2金属膜34，在非显示区域NAA在俯视时与片部11d的外侧部分重叠地配置，并且沿着密封部11d而在俯视时呈边框状。此外，上述列控制电路部27、行控制电路部28、共用电位提供部29以及屏蔽部30是在阵列基板11b的制造工序中在图案化各种膜时通过已知的光刻法同时图案化在阵列基板11b上的。此外，在本实施方式中，例示了密封部30由第2金属膜34构成的情况，但是也能使屏蔽部30的整个区域或一部分由第1金属膜38构成。特别是，在使屏蔽部30的一部分由第1金属膜38构成的情况下，优选地，使外周侧的屏蔽部30由第2金属膜34构成，使内周侧的屏蔽部30由第1金属膜38构成。
另外，密封部11d粘接到阵列基板11b的第1层间绝缘膜41，但是形成该密封部11d和第1层间绝缘膜41各自的材料的线膨胀系数(热膨胀率)不同。因此，在液晶面板11的使用环境下产生温度变化时，应力作用到第1层间绝缘膜41中的与密封部11d的粘接部位，在该应力影响到第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分时，有可能在第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分产生剥离。当在第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分产生剥离时，有可能在配置在第1层间绝缘膜41的上层侧的第1透明电极膜23产生错位等不良，从而产生显示不良。特别是，在进行液晶面板11的窄边框化，从密封部11d到显示区域AA的宽度变窄的情况下，有在第1层间绝缘膜41中的与密封部11d的粘接部位产生的应力更易于影响第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分而易于产生显示不良的趋势。
因此，如图5至图7所示，在本实施方式的第1层间绝缘膜41中，在非显示区域NAA设置有配置在比密封部11d靠显示区域AA侧的位置的狭缝42。通过设置该狭缝42，即使伴随着温度变化而产生的应力作用到第1层间绝缘膜41中的与密封部11d的粘接部位，该应力也难以影响到第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分。由此，在第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分难以产生剥离，因此在显示区域AA在配置在第1层间绝缘膜41的上层侧的第1透明电极膜23中难以产生错位等不良。从而，在抑制显示不良的产生，特别是实现窄边框化方面是优选的。以下，详细说明狭缝42的构成。
如图5至图7所示，狭缝42在阵列基板11b的非显示区域NAA配置在比密封部11d靠显示区域AA侧的位置，即配置在密封部非配置区域SNA，详细地说配置在密封部非配置区域SNA中的与显示区域AA相邻的内端位置。换言之，狭缝42在密封部非配置区域SNA中配置在与显示区域AA在外周侧相邻的位置(最靠近显示区域AA的位置)。狭缝42沿着密封部11d而形成为涵盖其整周地连续延伸的槽状，在俯视时呈边框状(框状)。即，狭缝42以涵盖整周地从外周侧包围显示区域AA的形式配置。而且，狭缝42为在第1层间绝缘膜41的膜厚方向(Z轴方向，阵列基板11b的板面的法线方向)贯通第1层间绝缘膜41的形态。因此，第1层间绝缘膜41以狭缝42为边界被分离(分割)为主要配置在显示区域AA的内周侧部分41a和整个区域配置在非显示区域NAA的外周侧部分41b。密封部11d粘接到其中的外周侧部分41b。由此，即使在伴随着温度变化而产生的应力作用于第1层间绝缘膜41中的具有密封部11d的粘接部位的外周侧部分41b的情况下，上述应力也不会传递给由狭缝42分离的内周侧部分41a。由此，更可靠地避免在第1层间绝缘膜41中的配置在显示区域AA的内周侧部分41a产生剥离的情况，从而更可靠地防止显示不良的产生。该狭缝42是在阵列基板11b的制造工序中通过已知的光刻法图案化第1层间绝缘膜41而形成的，是在形成接触孔CH2的同时(在同一工序中)形成的。
如图7所示，狭缝42在非显示区域NAA配置在俯视时与第2透明电极膜24的电极膜扩展部24a重叠的位置。狭缝42如上所述为在第1层间绝缘膜41的膜厚方向贯通第1层间绝缘膜41的形态，因此为下层侧的电极膜扩展部24a通过狭缝42面对(露出)液晶层11c配置的构成。因此，在第1层间绝缘膜41通过光刻法形成狭缝42时，在部分地蚀刻第1层间绝缘膜41的情况下，通过将第2透明电极膜24的电极膜扩展部24a配置在第1层间绝缘膜41的狭缝42的预定形成部分的下层侧，使电极膜扩展部24a作为蚀刻阻挡物发挥功能，避免蚀刻波及到电极膜扩展部24a的下层侧的平坦化膜40。由此，确保平坦化膜40的膜厚均匀性良好。这样，电极膜扩展部24a除了具有将共用电位从共用电位提供部29传送给第2透明电极膜24的功能以外，还具有防止在第1层间绝缘膜41形成狭缝42时蚀刻电极膜扩展部24a的下层侧的平坦化膜40的功能，因此与假设按各功能设置不同的部位的情况相比，能实现构成的简单化。而且，狭缝42配置在设置于CF基板11a的遮光部11i中的在俯视时与配置在非显示区域NAA的部分重叠的位置。虽然在液晶面板11的狭缝42的形成区域中，有时赋予透射光的光学作用与狭缝42的非形成区域不同，但是通过如上所述使狭缝42与遮光部11i重叠地配置，能避免光透射狭缝42的形成区域。由此，避免在液晶面板11的透射光中产生亮度不均，抑制显示不良的产生。
如以上说明的那样，本实施方式的液晶面板(显示装置)11具备：阵列基板(第1基板)11b，其被划分为显示区域AA和包围显示区域AA的非显示区域NAA；CF基板(第2基板)11a，其与阵列基板11b之间以具有内部空间IS的形式配置为相对状；密封部11d，其介于阵列基板11b和CF基板11a之间，以包围内部空间IS的形式配置于非显示区域NAA，并且密封内部空间IS；第1透明电极膜23，其在阵列基板11b上至少配置于显示区域AA；第1层间绝缘膜(第1绝缘膜)41，其在阵列基板11b上配置在跨显示区域AA和非显示区域NAA的范围，密封部11d粘接到第1层间绝缘膜(第1绝缘膜)41，并且第1层间绝缘膜(第1绝缘膜)41配置在第1透明电极膜23的阵列基板11b侧，第1层间绝缘膜(第1绝缘膜)41在非显示区域NAA具有配置在比密封部11d靠显示区域AA侧的位置的狭缝42；以及第2透明电极膜24，其在阵列基板11b上至少配置于显示区域AA，并且配置在第1层间绝缘膜41的阵列基板11b侧，在与第1透明电极膜23之间夹着第1层间绝缘膜41。
这样，在相互相对的阵列基板11b和CF基板11a之间，具有内部空间IS并且存在以包围该内部空间IS的形式配置的密封部11d，利用密封部11d密封内部空间IS。第1层间绝缘膜41在阵列基板11b上配置在跨显示区域AA和非显示区域NAA的范围，密封部11d粘接到第1层间绝缘膜41，并且第1层间绝缘膜41以夹在第1透明电极膜23和第2透明电极膜24之间的形式配置。
然而，当形成密封部11d和第1层间绝缘膜41各自的材料的线膨胀系数不同时，在产生温度变化的情况下，应力有可能作用到第1层间绝缘膜41中的与密封部11d的粘接部位。特别是，在进行窄边框化，从密封部11d到显示区域AA的宽度变窄的情况下，有在第1层间绝缘膜41中的与密封部11d的粘接部位产生的应力更易于影响第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分的趋势。而且，在第1层间绝缘膜41夹在第1透明电极膜23和第2透明电极膜24之间的构成中，与不具备第2透明电极膜24的构成相比，有第1层间绝缘膜41的膜厚相对变薄的趋势，因此由于作用到第1层间绝缘膜41的与密封部11d的粘接部位的应力而在第1层间绝缘膜41易于产生剥离。关于这一点，由于第1层间绝缘膜41在非显示区域NAA具有配置在比密封部11d靠显示区域AA侧的位置的狭缝42，因此即使上述应力作用到第1层间绝缘膜41中的与密封部11d的粘接部位，该应力也难以影响到第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分。由此，在第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分难以产生剥离，因此在显示区域AA在配置在第1层间绝缘膜41的上层侧的第1透明电极膜23难以产生错位等不良。从而，在抑制显示不良的产生，特别是实现窄边框化方面是优选的。
另外，第2透明电极膜24具有扩展到非显示区域NAA地配置的电极膜扩展部24a，第1层间绝缘膜41是按以下方式设置的：将狭缝42配置在与第2透明电极膜24的电极膜扩展部24a重叠的位置。在形成狭缝42时，例如在使用光刻法部分地蚀刻第1层间绝缘膜41的情况下，通过在第1层间绝缘膜41的狭缝42的预定形成部分的阵列基板11b侧配置第2透明电极膜24的电极膜扩展部24a，使电极膜扩展部24a作为蚀刻阻挡物发挥功能，避免蚀刻波及到电极膜扩展部24a的阵列基板11b侧。
另外，具备：平坦化膜(第2绝缘膜)40，其在阵列基板11b上配置在跨显示区域AA和非显示区域NAA的范围，并且配置在第2透明电极膜24的阵列基板11b侧；以及共用电位提供部29，其在阵列基板11b上配置于非显示区域NAA，并且配置在平坦化膜40的阵列基板11b侧，并且设为共用电位，电极膜扩展部24a通过形成于平坦化膜40的接触孔CH3与共用电位提供部29连接。电极膜扩展部24a配置在跨显示区域AA和非显示区域NAA的范围，并且通过形成于配置在第2透明电极膜24的阵列基板11b侧的平坦化膜40的接触孔CH3与配置在平坦化膜40的阵列基板11b侧的共用电位提供部29连接，因此从共用电位提供部29向具有电极膜扩展部24a的第2透明电极膜24提供共用电位。这样，电极膜扩展部24a除了具有将共用电位传送给第2透明电极膜24的功能以外，还具有防止在第1层间绝缘膜41形成狭缝42时蚀刻电极膜扩展部24a的阵列基板11b侧的功能，因此与假设按各功能设置不同的部位的情况相比，能实现构成的简单化。
另外，第1层间绝缘膜41是按以下方式设置的：使狭缝42成为在第1层间绝缘膜41的膜厚方向上贯通的形态。这样，与假设为狭缝在第1层间绝缘膜41的膜厚方向不贯通而残存薄部(比狭缝的非形成部位薄的部位)的形态的情况相比，在第1层间绝缘膜41中的与密封部11d的粘接部位产生的应力更难以影响到第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分。由此，在第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分更难以产生剥离，更好地抑制显示不良的产生。
另外，第1层间绝缘膜41是按以下方式设置的：使狭缝42呈涵盖密封部11d的整周连续地延伸的槽状。这样，利用涵盖密封部11d的整周连续地配置的狭缝42，在第1层间绝缘膜41中的与密封部11d的粘接部位产生的应力难以影响到第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分，因此在第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分难以产生剥离，能抑制显示不良的产生。并且，狭缝42涵盖密封部11d的整周在中途不间断地连续地配置，因此在第1层间绝缘膜41中的与密封部11d的粘接部位产生的应力更难以影响到第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分。由此，在第1层间绝缘膜41的显示区域AA侧的部分更难以产生剥离，能更好地抑制显示不良的产生。
另外，具备在CF基板11a上至少配置于非显示区域NAA的遮光部11i，第1层间绝缘膜41是按以下方式设置的：将狭缝42与遮光部11i重叠地配置。在该液晶面板11的狭缝42的形成区域和狭缝42的非形成区域中，该液晶面板11赋予透射光的光学作用可能产生差，这有可能成为亮度不均的原因。关于这一点，第1层间绝缘膜41是按以下方式设置的：将狭缝42与CF基板11a具备的遮光部11i重叠地配置，因此避免光透射该液晶面板11的狭缝42的形成区域。由此，避免在该液晶面板11的透射光中产生亮度不均，抑制显示不良的产生。
＜实施方式2＞
根据图8至图10说明本发明的实施方式2。在该实施方式2中，示出将狭缝142的平面形状变更后的构成。此外，对与上述实施方式1同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图8至图10所示，本实施方式的狭缝142沿着密封部111d而涵盖其整周断续地排列配置。详细地说，狭缝142作为整体与密封部111d同样在俯视时呈边框状，在其周方向上空开规定的间隔地排列配置有多个。作为整体呈边框状排列的多个狭缝142各自在俯视时呈方形状，在上述周方向上以介于相邻的狭缝142之间的形式配置有第1层间绝缘膜141的一部分。第1层间绝缘膜141中的以介于相邻的狭缝142之间的形式残存的部分为狭缝间残存部43。该狭缝间残存部43沿着密封部111d而涵盖其整周断续地排列配置，第1层间绝缘膜141的内周侧部分141a和外周侧部分141b相连。即，第1层间绝缘膜141的内周侧部分141a和外周侧部分141b不是相互涵盖整周地相连，而通过以断续地排列的形式配置的多个狭缝间残存部43相互在周方向上部分地相连。因此，在伴随着温度变化而应力作用到第1层间绝缘膜141中的粘接到密封部111d的外周侧部分141b的情况下，该应力由狭缝间残存部43缓和，因此在内周侧部分141a难以产生剥离。详细地说，作用到外周侧部分141b的应力在到达内周侧部分141a为止的期间，衰减狭缝间残存部43的宽度除以将狭缝142的宽度与狭缝间残存部43的宽度相加后的数值得到的比率，由此在内周侧部分141a难以产生剥离。
如以上说明的那样，根据本实施方式，第1层间绝缘膜141是按以下方式设置的：狭缝142涵盖密封部111d的整周断续地配置。这样，利用涵盖密封部111d的整周断续地配置的狭缝142，在第1层间绝缘膜141中的与密封部111d的粘接部位产生的应力难以影响到第1层间绝缘膜141的显示区域AA侧的部分，因此在第1层间绝缘膜141的显示区域AA侧的部分难以产生剥离，能抑制显示不良的产生。
＜实施方式3＞
根据图11或图12说明本发明的实施方式3。在该实施方式3中，示出从上述实施方式2将狭缝242的平面形状进一步变更后的构成。此外，对与上述实施方式2同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图11和图12所示，本实施方式的狭缝242作为整体以沿着密封部211d的形式在俯视时呈边框状的方式配置，并且除了在其周方向上以外还在宽度方向上空开规定的间隔地各排列配置有多个。即，狭缝242作为整体呈边框状，并且以每行多个、每列多个而断续地排列的形式在平面上配置为矩阵状。在上述周方向和宽度方向上相邻的狭缝242之间的间隔比上述实施方式2中记载的狭缝142间的间隔窄。在上述周方向和宽度方向上分别以介于相邻的狭缝242之间的形式配置有狭缝间残存部243，各狭缝间残存部243的宽度尺寸比上述实施方式2中记载的狭缝间残存部43的宽度尺寸小。狭缝间残存部243以每行多个、每列多个而断续地排列的形式在平面上配置为矩阵状，其中的在上述周方向上相邻的彼此相互相连，并且在上述宽度方向上相邻的彼此相互相连，由此作为整体在俯视时呈格子状。在这种构成中，在伴随着温度变化而应力作用到第1层间绝缘膜241中的粘接到密封部211d的外周侧部分241b的情况下，该应力由狭缝间残存部243缓和，因此在内周侧部分241a难以产生剥离。详细地说，作用到外周侧部分241b的应力在到达内周侧部分241a为止的期间，衰减狭缝间残存部243的宽度除以将狭缝242的宽度与狭缝间残存部243的宽度相加后的数值得到的比率，由此在内周侧部分241a难以产生剥离。
＜实施方式4＞
根据图13说明本发明的实施方式4。在该实施方式4中，示出从上述实施方式1将狭缝342的深度变更后的构成。此外，对与上述实施方式1同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图13所示，本实施方式的狭缝342是按在第1层间绝缘膜341的膜厚方向上不贯通第1层间绝缘膜341的深度形成的。即，该狭缝342的深度尺寸为不到第1层间绝缘膜341的膜厚的大小。因此，在第1层间绝缘膜341的狭缝342的形成部分，形成有比第1层间绝缘膜341的狭缝342的非形成部分的膜的厚度薄的薄部44。在第1层间绝缘膜341中的与薄部44相比膜厚相对大的狭缝342的非形成部分，包含外周侧部分341b中的在俯视时与密封部311d重叠的部分、内周侧部分341a。狭缝342和薄部44以沿着密封部311d而涵盖其整周连续地延伸的形式配置。因此，薄部44涵盖整周地连接第1层间绝缘膜341的内周侧部分341a和外周侧部分341b。在这种构成中，在伴随着温度变化而应力作用到第1层间绝缘膜341中的粘接到密封部311d的外周侧部分341b的情况下，该应力由薄部44缓和，因此在内周侧部分341a难以产生剥离。
在形成本实施方式的狭缝342时，将在阵列基板311b的制造工序中的曝光工序曝光第1层间绝缘膜341所用的光掩模设为未图示的半色调掩模或灰色调掩模。半色调掩模或灰色调掩模具有曝光的光的透射率例如为10％～70％程度的半透射区域，因此在曝光工序中，利用其中的半透射区域的透射光，对第1层间绝缘膜341的狭缝342和薄部44的预定形成部分进行曝光。在使用这种半色调掩模或灰色调掩模进行曝光工序后进行蚀刻工序，由此能以残存薄部44的形式形成狭缝342。在该蚀刻工序中，在狭缝342的形成部分残留薄部44，由此避免蚀刻波及到第1层间绝缘膜341的下层侧。而且，在薄部44的下层侧，配置有第2透明电极膜324的电极膜扩展部324a，因此即使万一通过蚀刻以贯通第1层间绝缘膜341的深度形成狭缝342的情况下，通过使电极膜扩展部324a作为蚀刻阻挡物发挥功能，也能避免下层侧的平坦化膜340被蚀刻的情况。由此，能较高地维持平坦化膜340的膜厚均匀性。而且，配置在第1层间绝缘膜341的下层侧的电极膜扩展部324a由薄部44覆盖，从而避免在液晶层311c侧露出，因此能避免面对液晶层311c的面的膜质量不均匀化。由此，难以产生伴随着狭缝342的形成产生的显示性能的劣化。另外，即使例如狭缝342与电极膜扩展部324a不重叠地配置，也能利用薄部44防止下层侧的平坦化膜340被蚀刻，因此狭缝342的配置自由度变高。
如以上说明那样，根据本实施方式，第1层间绝缘膜341是按以下方式设置的：在狭缝342的形成部位形成比狭缝342的非形成部位薄的薄部44。在形成狭缝342时，在例如使用光刻法部分地蚀刻第1层间绝缘膜341的情况下，通过在第1层间绝缘膜341的狭缝342的形成部位残留薄部44，能避免蚀刻波及到第1层间绝缘膜341的阵列基板311b侧。而且，与假设为狭缝在膜厚方向上贯通第1层间绝缘膜341的形态的情况相比，能避免第1层间绝缘膜341的阵列基板311b侧通过狭缝342露出，因此避免膜质量不均匀化。由此，难以产生伴随狭缝342的形成而产生的显示性能的劣化。另外，狭缝342的配置自由度变高。
＜实施方式5＞
根据图14或图15说明本发明的实施方式5。在该实施方式5中，示出从上述实施方式1省略狭缝并且除去第1层间绝缘膜441的外周侧部分的构成。此外，对与上述实施方式1同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图14和图15所示，本实施方式的第1层间绝缘膜441由主要配置于显示区域AA的内周侧部分441a构成。即，由内周侧部分441a构成的第1层间绝缘膜441在阵列基板411b上至少配置于显示区域AA，并且配置在第1透明电极膜423的下层侧，并且配置在与密封部411d不重叠的范围。通过这种构成避免密封部411d直接粘接到第1层间绝缘膜441，因此避免伴随着温度变化而应力从密封部411d直接作用到第1层间绝缘膜441的情况。由此，避免在第1层间绝缘膜441的显示区域AA侧的部分产生剥离，因此在显示区域AA在包括配置在第1层间绝缘膜441的上层侧的第1透明电极膜423的像素电极418中难以产生错位等不良。从而，在抑制显示不良的产生，特别是实现窄边框化方面是优选的。
详细地说，第1层间绝缘膜441在阵列基板411b上配置在跨显示区域AA的整个区域和非显示区域NAA的密封部非配置区域SNA中的与显示区域AA相邻的内周侧部分的范围。即，第1层间绝缘膜441除了具有配置在显示区域AA的绝缘膜本体部分以外，还具有扩展到非显示区域NAA地配置的绝缘膜扩展部45。绝缘膜扩展部45涵盖显示区域AA的整周地包围显示区域AA，在俯视时呈边框状。
如前所述，第1层间绝缘膜441配置在与密封部411d不重叠的范围，因此密封部411d以在与第1层间绝缘膜441之间夹着第2透明电极膜424(共用电极422)的形式相对地配置在下层侧，在第1层间绝缘膜441的非形成部分直接粘接到露出的平坦化膜440。该平坦化膜440的膜厚比第1层间绝缘膜441的膜厚大，因此即使在伴随着温度变化而应力作用到平坦化膜440中的与密封部411d的粘接部位的情况下，在平坦化膜440的显示区域AA侧的部分也难以产生剥离。换言之，虽然膜厚相对小的第1层间绝缘膜441由于应力而有易于产生剥离的趋势，但是通过设为密封部411d不直接粘接到第1层间绝缘膜441的构成，能避免伴随着温度变化而应力从密封部411d作用到第1层间绝缘膜441的情况。由此，避免在第1层间绝缘膜441的显示区域AA侧的部分产生剥离，因此能抑制显示不良的产生。
如以上说明的那样，本实施方式的液晶面板(显示装置)411具备：阵列基板(第1基板)411b，其被划分为显示区域AA和包围显示区域AA的非显示区域NAA；CF基板(第2基板)411a，其与阵列基板411b之间以具有内部空间IS的形式配置为相对状；密封部411d，其介于阵列基板411b和CF基板411a之间，以包围内部空间IS的形式配置于非显示区域NAA，并且密封内部空间IS；第1透明电极膜423，其在阵列基板411b上至少配置于显示区域AA；第1层间绝缘膜(第1绝缘膜)441，其在阵列基板411b上至少配置于显示区域AA，并且配置在第1透明电极膜423的阵列基板411b侧，并且配置在与密封部411d不重叠的范围；以及第2透明电极膜424，其在阵列基板411b上至少配置于显示区域AA，并且配置在第1层间绝缘膜441的阵列基板411b侧，在与第1透明电极膜423之间夹着第1层间绝缘膜441。
这样，在相互相对的阵列基板411b和CF基板411a之间，具有内部空间IS并且存在以包围该内部空间IS的形式配置的密封部411d，利用密封部411d密封内部空间IS。第1层间绝缘膜441在阵列基板411b上至少配置在显示区域AA，并且以夹在第1透明电极膜423和第2透明电极膜424之间的形式配置。
并且，第1层间绝缘膜441配置在与密封部411d不重叠的范围，密封部411d不直接粘接到第1层间绝缘膜441。在此，在假设密封部直接粘接到第1层间绝缘膜441的情况下，当伴随着温度变化而在两者的粘接部位产生应力时，有可能在第1层间绝缘膜441的显示区域AA侧的部分产生剥离，在配置在第1层间绝缘膜441的上层侧的第1透明电极膜423产生错位等不良。特别是，在进行窄边框化，从密封部411d到显示区域AA的宽度变窄的情况下，有在上述粘接部位产生的应力更易于影响第1层间绝缘膜441的显示区域AA侧的部分的趋势。而且，在第1层间绝缘膜441夹在第1透明电极膜423和第2透明电极膜424之间的构成中，与不具备第2透明电极膜424的构成相比，有第1层间绝缘膜441的膜厚相对变薄的趋势，因此由于作用到第1层间绝缘膜441中的与密封部411d的粘接部位的应力而在第1层间绝缘膜441易于产生剥离。与此相对，通过设为第1层间绝缘膜441不直接粘接到密封部411d的构成，能避免伴随着温度变化而应力从密封部411d作用到第1层间绝缘膜441的情况。由此，避免在第1层间绝缘膜441的显示区域AA侧的部分产生剥离，因此在显示区域AA在配置在第1层间绝缘膜441的上层侧的第1透明电极膜23中难以产生错位等不良。从而，在抑制显示不良的产生，特别是实现窄边框化方面是优选的。
另外，具备：第2透明电极膜424，其在阵列基板411b上至少配置于显示区域AA，并且配置在第1层间绝缘膜441的阵列基板411b侧，在与第1透明电极膜423之间夹着第1层间绝缘膜441；以及平坦化膜440，其在阵列基板411b上配置在跨显示区域AA和非显示区域NAA的范围，密封部411d粘接到平坦化膜440，并且平坦化膜440配置在第2透明电极膜424的阵列基板411b侧，并且平坦化膜440的膜厚比第1层间绝缘膜441的膜厚大。这样在第1层间绝缘膜441夹在第1透明电极膜423和第2透明电极膜424之间的构成中，粘接到密封部411d的平坦化膜440的膜厚比第1层间绝缘膜441的膜厚大，因此即使在伴随着温度变化而应力作用到平坦化膜440中的与密封部411d的粘接部位的情况下，在平坦化膜440的显示区域AA侧的部分也难以产生剥离。换言之，虽然膜厚相对小的第1层间绝缘膜441由于应力而有易于产生剥离的趋势，但是通过设为密封部411d不直接粘接到第1层间绝缘膜441的构成，能避免伴随着温度变化而应力从密封部411d作用到第1层间绝缘膜441的情况。由此，避免在第1层间绝缘膜441的显示区域AA侧的部分产生剥离，因此能抑制显示不良的产生。
＜实施方式6＞
根据图16说明本发明的实施方式6。在该实施方式6中，示出从上述实施方式4将狭缝542和薄部544的配置变更后的构成。此外，对与上述实施方式4同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图16所示，本实施方式的狭缝542和薄部544在非显示区域NAA的密封部非配置区域SNA配置在俯视时与第2透明电极膜524的电极膜扩展部524a不重叠的位置。即使这样将狭缝542与电极膜扩展部524a不重叠地配置，也能利用通过设为狭缝542在第1层间绝缘膜541的膜厚方向上不贯通第1层间绝缘膜541的形态而残留的薄部544，在形成狭缝542时防止下层侧的平坦化膜540被蚀刻。如以上那样，通过以残存薄部544的形式将狭缝542形成于第1层间绝缘膜541，能不受电极膜扩展部524a的配置限制地自由配置狭缝542，也能很好地防止蚀刻波及到平坦化膜540。另外，通过使狭缝542的配置自由度变高，由此能使狭缝542和薄部544的宽度尺寸比上述实施方式4记载的大。
详细地说，狭缝542和薄部544配置在密封部非配置区域SNA的外周侧部分，配置在由密封部511d和电极膜扩展部524a夹着的位置。并且，狭缝542和薄部544到密封部511d的距离比到显示区域AA的距离短，换言之，配置在离密封部511d比离显示区域AA近的位置。因此，与上述实施方式4记载的狭缝342相比，本实施方式的狭缝542和薄部544配置在第1层间绝缘膜541中的更靠近与密封部511d的粘接部位的位置。因此，即使应力作用到第1层间绝缘膜541中的与密封部511d的粘接部位而产生剥离，由于上述狭缝542的配置而第1层间绝缘膜541的能剥离的部分的范围也变窄。由此，即使在第1层间绝缘膜541产生剥离，通过限定其剥离范围，也难以对显示性能造成不良影响。
如以上说明的那样，根据本实施方式，第1层间绝缘膜541是按以下方式设置的：狭缝542配置在离密封部511d比离显示区域AA近的位置。这样，在第1层间绝缘膜541的狭缝542的形成部位形成薄部的构成中，狭缝542的配置自由度变高，因此能将狭缝542配置在离密封部511d比离显示区域AA近的位置。并且，即使应力作用到第1层间绝缘膜541中的与密封部511d的粘接部位而产生剥离，由于上述狭缝542的配置而第1层间绝缘膜541的能剥离的部分的范围也变窄。由此，即使在第1层间绝缘膜541产生剥离，通过限定其剥离范围，也难以对显示性能造成不良影响。
＜实施方式7＞
根据图17说明本发明的实施方式7。在该实施方式7中，示出从上述实施方式6将狭缝642的深度变更，除去薄部后的构成。此外，对与上述实施方式6同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图17所示，本实施方式的狭缝642在非显示区域NAA的密封部非配置区域SNA配置在俯视时与第2透明电极膜624的电极膜扩展部624a不重叠的位置，并且以在第1层间绝缘膜641的膜厚方向上贯通第1层间绝缘膜641的形式形成。因此，下层侧的平坦化膜640通过狭缝642在液晶层611c侧露出。狭缝642配置在离密封部611d比离显示区域AA近的位置。这样能不受电极膜扩展部624a的配置限制地自由设定不残存薄部地形成在第1层间绝缘膜641的狭缝642的配置。
如以上说明的那样，根据本实施方式，具备平坦化膜640，平坦化膜640在阵列基板611b上配置在跨显示区域AA和非显示区域NAA的范围，并且配置在第1层间绝缘膜641的阵列基板611b侧，第1层间绝缘膜641是按以下方式设置的：将狭缝642配置在与平坦化膜640重叠的位置。这样，狭缝642的配置自由度变高。
＜实施方式8＞
根据图18或图19说明本发明的实施方式8。在该实施方式8中，示出从上述实施方式1将狭缝742的数量变更后的构成。此外，对与上述实施方式1同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图18和图19所示，本实施方式的狭缝742在非显示区域NAA的密封部非配置区域SNA以相互平行的形式在第1层间绝缘膜741形成有2个。这2个狭缝742均为沿着密封部711d而涵盖其整周连续地延伸的形态。2个狭缝742包括：相对靠近显示区域AA地配置的内周侧狭缝742A；以及相对靠近密封部711d地配置的外周侧狭缝742B，它们各自在俯视时与第2透明电极膜724的电极膜扩展部724a重叠地配置。第1层间绝缘膜741划分为：比内周侧狭缝742A靠内侧配置的内周侧部分741a；比外周侧狭缝742B靠外侧配置的外周侧部分741b；以及夹在两狭缝742A、742B之间的中间部分46。其中的中间部分46沿着两狭缝742A、742B而在俯视时呈边框状。
＜实施方式9＞
根据图20或图21说明本发明的实施方式9。在该实施方式9中，示出将上述实施方式2、4的构成组合后的构成。此外，对与上述实施方式2、4同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图20和图21所示，本实施方式的狭缝842沿着密封部811d而涵盖其整周断续地排列配置，并且是按在第1层间绝缘膜841的膜厚方向上不贯通第1层间绝缘膜841的深度形成的。因此，除了在相邻的狭缝842之间残留连接第1层间绝缘膜841的内周侧部分841a和外周侧部分841b的狭缝间残存部843以外，还在第1层间绝缘膜841中的狭缝842的形成部分，残留膜厚比狭缝842的非形成部分薄的薄部844。
＜实施方式10＞
根据图22或图23说明本发明的实施方式10。在该实施方式10中，示出将上述实施方式3、4的构成组合后的构成。此外，对与上述实施方式3、4同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图22和图23所示，本实施方式的狭缝942作为整体以沿着密封部911d的形式在俯视时呈边框状的方式配置，并且除了在其周方向上以外还在宽度方向上空开规定的间隔地各排列配置有多个，而且是按在第1层间绝缘膜941的膜厚方向上不贯通第1层间绝缘膜941的深度形成的。因此，除了在相邻的狭缝942之间残留作为整体在俯视时呈格子状的狭缝间残存部943以外，还在第1层间绝缘膜941的狭缝942的形成部分，残留膜厚比狭缝942的非形成部分薄的薄部944。
＜实施方式11＞
根据图24说明本发明的实施方式11。在该实施方式11中，示出从上述实施方式1将狭缝1042的配置变更并且设置与狭缝1042重叠的第2电极膜扩展部47的构成。此外，对与上述实施方式1同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图24所示，本实施方式的狭缝1042在非显示区域NAA的密封部非配置区域SNA配置在离密封部1011d比离显示区域AA近的位置，并且配置在俯视时与第2透明电极膜1024的电极膜扩展部(第1电极膜扩展部)1024a不重叠的位置。而且，在俯视时与狭缝1042重叠的位置，设置有包括第2透明电极膜1024的第2电极膜扩展部47。第2电极膜扩展部47呈从电极膜扩展部1024a分离的岛状。因此，在利用光刻法在第1层间绝缘膜1041形成狭缝1042时，在部分地蚀刻第1层间绝缘膜1041的情况下，通过在第1层间绝缘膜1041的狭缝1042的预定形成部分的下层侧配置第2透明电极膜1024的第2电极膜扩展部47，使第2电极膜扩展部47作为蚀刻阻挡物发挥功能，避免蚀刻波及到第2电极膜扩展部47的下层侧的平坦化膜1040。由此，确保平坦化膜1040的膜厚均匀性良好。
＜实施方式12＞
根据图25说明本发明的实施方式12。在该实施方式12中，示出从上述实施方式11将第2电极膜扩展部1147连接到电极膜扩展部1124a的构成。此外，对与上述实施方式11同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图25所示，本实施方式的第2电极膜扩展部1147连接到电极膜扩展部1124a。由此，即使在将狭缝1142的平面配置、形成范围变更的情况下，也能容易地维持使第2透明电极膜1124在俯视时与狭缝1142重叠的配置。即使在这种构成中，通过使第2电极膜扩展部1147作为蚀刻阻挡物发挥功能，能避免蚀刻波及到第2电极膜扩展部1147的下层侧的平坦化膜1140。
＜实施方式13＞
根据图26说明本发明的实施方式13。在该实施方式13中，示出从上述实施方式1将共用电极部1222配置在CF基板1211a侧的构成。此外，对与上述实施方式1同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图26所示，在本实施方式的液晶面板1211中，共用电极部1222包括第3透明电极膜49，并且该第3透明电极膜49不配置在阵列基板1211b侧，而是配置在CF基板1211a侧，动作模式为VA(VerticalAlignment：垂直取向)模式。形成共用电极部1222的第3透明电极膜49以层叠在CF基板侧平坦化膜1211j的上层侧(与CF基板1211a侧相反的一侧)的形式配置，为涵盖CF基板1211a的大致整个面的实体状的图案。另外，形成共用电极部1222的第3透明电极膜49与第1透明电极膜1223和第2透明电极膜1224同样，包括例如ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)或ZnO(Zinc Oxide：氧化锌)这样的透明电极材料。形成配置在阵列基板1211b侧的像素电极1218的第1透明电极膜1223隔着液晶层1211c与形成配置在CF基板1211a侧的共用电极部1222的第3透明电极膜49配置为相对状，因此通过驱动TFT1217而控制在两透明电极膜1223、49间产生的电位差，能控制液晶层1211c包含的液晶分子的取向状态。而且，在阵列基板1211b上，由在与形成像素电极1218的第1透明电极膜1223之间夹着第1层间绝缘膜1241的第2透明电极膜1224构成辅助电容电极50。该辅助电容电极50隔着第1层间绝缘膜1241与形成像素电极1218的第1透明电极膜1223配置为相对状，由此在与形成像素电极1218的第1透明电极膜1223之间形成电容。并且，辅助电容电极50与共用电位提供部1229连接，由此被提供共用电位，因此能将由TFT1217充电的像素电极1218的电位保持一定期间。
并且，在阵列基板1211b的非显示区域NAA的密封部非配置区域SNA，在直接粘接到密封部1211d的第1层间绝缘膜1241中，形成有沿着密封部1211d而涵盖其整周连续地延伸的形态的狭缝1242。狭缝1242为在第1层间绝缘膜1241的膜厚方向上贯通第1层间绝缘膜1241的形态。因此，第1层间绝缘膜1241以狭缝1242为边界分离(分割)为：主要配置在显示区域AA的内周侧部分1241a；以及整个区域配置在非显示区域NAA的外周侧部分1241b。密封部1211d粘接到其中的外周侧部分1241b。由此，即使在伴随着温度变化而产生的应力作用到第1层间绝缘膜1241中的具有与密封部1211d的粘接部位的外周侧部分1241b的情况下，上述应力极难传递到由狭缝1242分离的内周侧部分1241a。由此，在第1层间绝缘膜1241的显示区域AA侧的部分难以产生剥离，因此在显示区域AA在配置在第1层间绝缘膜1241的上层侧的第1透明电极膜1223中难以产生错位等不良。从而，在抑制显示不良的产生，特别是实现窄边框化方面是优选的。该狭缝1242是在阵列基板1211b的制造工序中利用已知的光刻法图案化第1层间绝缘膜1241而形成的，是在形成接触孔CH2的同时(在同一工序中)形成的。
＜实施方式14＞
根据图27说明本发明的实施方式14。在该实施方式14中，示出从上述实施方式13将狭缝1342的深度变更后的构成。此外，对与上述实施方式13同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图27所示，本实施方式的狭缝1342是按在第1层间绝缘膜1341的膜厚方向上不贯通第1层间绝缘膜1341的深度形成的。即，该狭缝1342的深度尺寸为不到第1层间绝缘膜1341的膜厚的大小。因此，在第1层间绝缘膜1341的狭缝1342的形成部分，形成有比第1层间绝缘膜1341的狭缝1342的非形成部分的膜的厚度薄的薄部1344。在第1层间绝缘膜1341中的与薄部1344相比膜厚相对大的狭缝1342的非形成部分，包含外周侧部分1341b中的俯视时与密封部1311d重叠的部分、内周侧部分1341a。狭缝1342和薄部1344以沿着密封部1311d而涵盖其整周连续地延伸的形式配置。因此，薄部1344涵盖整周地连接第1层间绝缘膜1341的内周侧部分1341a和外周侧部分1341b。即使在这种构成中，在伴随着温度变化而应力作用到第1层间绝缘膜1341中的粘接到密封部1311d的外周侧部分1341b的情况下，该应力也由薄部1344缓和，因此在内周侧部分1341a难以产生剥离。
在形成本实施方式的狭缝1342时，将在阵列基板1311b的制造工序中的曝光工序曝光第1层间绝缘膜1341所用的光掩模设为未图示的半色调掩模或灰色调掩模。半色调掩模或灰色调掩模具有曝光的光的透射率例如为10％～70％程度的半透射区域，因此在曝光工序中，利用其中的半透射区域的透射光，对第1层间绝缘膜1341的狭缝1342和薄部1344的预定形成部分进行曝光。在使用这种半色调掩模或灰色调掩模进行曝光工序后进行蚀刻工序，由此能以残存薄部1344的形式形成狭缝1342。在该蚀刻工序中，在狭缝1342的形成部分残留薄部1344，由此避免蚀刻波及到第1层间绝缘膜1341的下层侧的第2层间绝缘膜1339。由此，能将第2层间绝缘膜1339的膜厚均匀性维持较高。另外，狭缝1342的配置自由度变高。
＜实施方式15＞
根据图28说明本发明的实施方式15。在该实施方式15中，示出了从上述实施方式13将狭缝1442的数量变更后的构成。此外，对与上述实施方式13同样的结构、作用以及效果省略重复的说明。
如图28所示，本实施方式的狭缝1442在非显示区域NAA的密封部非配置区域SNA以相互平行的形式在第1层间绝缘膜1441中形成有2个。这2个狭缝1442均为沿着密封部1411d而涵盖其整周连续地延伸的形态。2个狭缝1442包括：相对靠近显示区域AA地配置的内周侧狭缝1442A；以及相对靠近密封部1411d地配置的外周侧狭缝1442B。第1层间绝缘膜1441划分为：比内周侧狭缝1442A靠内侧配置的内周侧部分1441a；比外周侧狭缝1442B靠外侧配置的外周侧部分1441b；以及夹在两狭缝1442A、1442B之间的中间部分1446。其中的中间部分1446沿着两狭缝1442A、1442B而在俯视时呈边框状。
＜其它实施方式＞
本发明不限于根据上述记载和附图说明的实施方式，例如如下的实施方式也包含在本发明的技术范围中。
(1)在上述各实施方式(除了实施方式5)中，示出了狭缝沿着密封部而涵盖其整周连续或断续地配置的情况，但是也可以是狭缝在密封部的周方向上部分地配置的构成。例如，可以以仅沿着密封部的除了角部以外的笔直部分的形式设置狭缝，或者相反以仅沿着密封部的除了笔直部分以外的角部的形式设置狭缝。另外，在上述各实施方式(除了实施方式5)中，示出了狭缝涵盖整周且具有固定宽度的构成，但是也可以采用狭缝的宽度在其周方向上在中途变化的构成，例如，可以采用在俯视时呈边框状的狭缝中的特别是可能产生大的应力的四角的角部，使狭缝的宽度比笔直的边部宽的构成。
(2)在上述实施方式2、3中，相邻的狭缝间的排列间隔、狭缝间残存部的宽度尺寸、狭缝的设置数量、狭缝的平面形状等可以适当地变更。这在实施方式9、10中也同样。
(3)在上述实施方式4、6、14中，薄部的厚度尺寸(相对于第1层间绝缘膜的狭缝的非形成部分的膜厚的比率)、狭缝的宽度尺寸等可以适当地变更。这在实施方式9、10中也同样。
(4)在上述实施方式5中，阵列基板的未形成第1层间绝缘膜的部分(下层侧的平坦化膜露出的部分)的具体范围可以适当地变更。
(5)在上述实施方式5中，也可以在配置在第1层间绝缘膜的下层侧的平坦化膜中形成狭缝。
(6)在上述实施方式6、7、11、12、13、14中，也可以适当地变更狭缝的平面配置。特别是在实施方式11、12中，伴随着变更狭缝的平面配置，优选也变更第2电极膜扩展部的平面配置。
(7)在上述实施方式8、15中，也可以将狭缝的个数设为3个以上。另外，在上述实施方式8、15中，也可以适当地变更各狭缝的宽度尺寸、相邻的狭缝间的间隔等。
(8)在上述实施方式11、12中，也可以将实施方式2、3、4、8、9、10记载的各构成适当地组合。
(9)在上述实施方式13中，也可以将实施方式2、3、6、7、9、10记载的各构成适当地组合。
(10)在上述实施方式13中，也可以将实施方式5记载的各构成适当地组合。
(11)在上述各实施方式中，例示了半导体膜为CG硅薄膜(多晶硅薄膜)的情况，但是除此以外，也可以例如将氧化物半导体、非晶硅用作半导体膜的材料。
(12)在上述各实施方式中，示出了第1金属膜和第2金属膜由钛(Ti)和铜(Cu)的层叠膜形成的情况，但是也可以例如使用钼(Mo)、氮化钼(MoN)、氮化钛(TiN)、钨(W)、铌(Nb)、钼-钛合金(MoTi)、钼-钨合金(MoW)等来替代钛。除此以外，也可以使用钛、铜、铝等单层的金属膜。
(13)在上述各实施方式中，例示了动作模式为FFS模式或VA模式的液晶面板，但是除此以外本发明也可以应用于IPS(In-PlaneSwitching：面内开关)模式等其它动作模式的液晶面板。
(14)在上述各实施方式中，示出了在液晶面板中显示部配置在短边方向上的中央而偏于长边方向上的一个端部侧的构成，但是在液晶面板中显示部配置在长边方向上的中央而偏于短边方向上的一个端部侧的构成也包含在本发明中。另外，在液晶面板中显示部偏于长边方向和短边方向上的各自一个端部侧地配置的构成也包含在本发明中。相反地，在液晶面板中显示部配置在长边方向和短边方向上的中央的构成也包含在本发明中。
(15)在上述各实施方式中，示出了将驱动器直接以COG方式安装在阵列基板上的构成，但是在经由ACF与阵列基板连接的柔性基板上安装驱动器的构成也包含在本发明中。
(16)在上述各实施方式中，例示了呈纵长的方形的液晶面板，但是本发明也可以应用于呈横长方形的液晶面板、呈正方形的液晶面板。
(17)以将触摸面板、视差屏障面板(开关液晶面板)等功能性面板层叠于上述各实施方式中记载的液晶面板的形式装配的构成也包含在本发明中。另外，在液晶面板上直接形成触摸面板图案的构成也包含在本发明中。
(18)在上述各实施方式中，例示了边光型的背光源装置作为液晶显示装置具备的背光源装置，但是使用直下型的背光源装置的构成也包含在本发明中。
(19)在上述各实施方式中，例示了具备作为外部光源的背光源装置的透射型的液晶显示装置，但是本发明也可以应用于利用外光进行显示的反射型液晶显示装置，在该情况下可以省略背光源装置。
(20)在上述各实施方式中，使用TFT作为液晶显示装置的开关元件，但是也可以应用于使用TFT以外的开关元件(例如薄膜二极管(TFD))的液晶显示装置，另外除了应用于彩色显示的液晶显示装置以外，也可以应用于黑白显示的液晶显示装置。
(21)在上述各实施方式中，例示了在一对基板间夹持液晶层的构成的液晶面板，但是本发明也可以应用于在一对基板间夹持液晶材料以外的功能性有机分子的显示面板。
(22)在上述各实施方式中，例示了液晶面板作为显示面板，但是除此以外本发明也可以应用于例如PDP(等离子体显示面板)、有机EL面板等显示面板。
(23)在上述各实施方式中，例示了被分类为小型或者中小型的便携型信息终端、手机(包含智能手机)、笔记本电脑(包含平板型笔记本电脑)、数码相框、便携型游戏机、电子墨水纸等各种电子设备等中使用的液晶面板，但是本发明也可以应用于画面尺寸为例如20英寸～90英寸的被分类为中型或者大型(超大型)的液晶面板中。在该情况下，可以将液晶面板应用于电视接收装置、电子看板(数字标牌)、电子黑板等电子设备中。
附图标记说明
11、411、1211…液晶面板(显示装置)；11a、411a、1211a…CF基板(第2基板)；11b、311b、411b、611b、1211b、1311b…阵列基板(第1基板)；11d、111d、211d、311d、411d、511d、711d、811d、911d、1011d、1211d、1311d、1411d…密封部；11i…遮光部；23、423、1223…第1透明电极膜；24、324、424、524、624、1024、1124、1224…第2透明电极膜；24a、324a、524a、624a、1024a、1124a…电极膜扩展部；29…共用电位提供部；40、340、440、540、640、1040、1140…平坦化膜(第2绝缘膜)；41、141、241、341、441、541、641、741、841、841、941、1041、1241、1341、1441…第1层间绝缘膜(第1绝缘膜)；42、142、242、342、542、642、742、842、942、1042、1142、1242、1342、1442…狭缝；44、544、844、944、1344…薄部；47、1147…第2电极膜扩展部(电极膜扩展部)；AA…显示区域；CH3…接触孔；IS…内部空间；NAA…非显示区域。

Claims (13)

1.一种显示装置，其特征在于，具备：
第1基板，其被划分为显示区域和包围上述显示区域的非显示区域；
第2基板，其与上述第1基板之间以具有内部空间的形式配置为相对状；
密封部，其介于上述第1基板和上述第2基板之间，以包围上述内部空间的形式配置于上述非显示区域，并且密封上述内部空间；
第1透明电极膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域；
第1绝缘膜，其在上述第1基板上配置在跨上述显示区域和上述非显示区域的范围，上述密封部粘接到上述第1绝缘膜，并且上述第1绝缘膜配置在上述第1透明电极膜的上述第1基板侧，上述第1绝缘膜在上述非显示区域具有配置在比上述密封部靠上述显示区域侧的位置的狭缝；以及
第2透明电极膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域，并且配置在上述第1绝缘膜的上述第1基板侧，在与上述第1透明电极膜之间夹着上述第1绝缘膜。
2.根据权利要求1所述的显示装置，
上述第2透明电极膜具有扩展到上述非显示区域地配置的电极膜扩展部，
上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：将上述狭缝配置在与上述第2透明电极膜的上述电极膜扩展部重叠的位置。
3.根据权利要求2所述的显示装置，具备：
第2绝缘膜，其在上述第1基板上配置在跨上述显示区域和上述非显示区域的范围，并且配置在上述第2透明电极膜的上述第1基板侧；以及
共用电位提供部，其在上述第1基板上配置于上述非显示区域，并且配置在上述第2绝缘膜的上述第1基板侧，并且设为共用电位，上述电极膜扩展部通过形成于上述第2绝缘膜的接触孔而与上述共用电位提供部连接。
4.根据权利要求1所述的显示装置，
具备第2绝缘膜，上述第2绝缘膜在上述第1基板上配置在跨上述显示区域和上述非显示区域的范围，并且配置在上述第1绝缘膜的上述第1基板侧，
上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：将上述狭缝配置在与上述第2绝缘膜重叠的位置。
5.根据权利要求1至权利要求4中的任1项所述的显示装置，
上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：使上述狭缝成为在上述第1绝缘膜的膜厚方向上贯通的形态。
6.根据权利要求1至权利要求4中的任1项所述的显示装置，
上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：在上述狭缝的形成部位形成比上述狭缝的非形成部位薄的薄部。
7.根据权利要求6所述的显示装置，
上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：将上述狭缝配置在离上述密封部比离上述显示区域近的位置。
8.根据权利要求1至权利要求7中的任1项所述的显示装置，
上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：沿着上述密封部而涵盖其整周连续或断续地配置上述狭缝。
9.根据权利要求8所述的显示装置，
上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：使上述狭缝呈涵盖上述密封部的整周连续地延伸的槽状。
10.根据权利要求8所述的显示装置，
上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：涵盖上述密封部的整周断续地配置上述狭缝。
11.根据权利要求1至权利要求10中的任1项所述的显示装置，具备在上述第2基板上至少配置于上述非显示区域的遮光部，
上述第1绝缘膜是按以下方式设置的：将上述狭缝与上述遮光部重叠地配置。
12.一种显示装置，其特征在于，具备：
第1基板，其被划分为显示区域和包围上述显示区域的非显示区域；
第2基板，其与上述第1基板之间以具有内部空间的形式配置为相对状；
密封部，其介于上述第1基板和上述第2基板之间，以包围上述内部空间的形式配置于上述非显示区域，并且密封上述内部空间；
第1透明电极膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域；
第1绝缘膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域，并且配置在上述第1透明电极膜的上述第1基板侧，并且配置在与上述密封部不重叠的范围；以及
第2透明电极膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域，并且配置在上述第1绝缘膜的上述第1基板侧，在与上述第1透明电极膜之间夹着上述第1绝缘膜。
13.根据权利要求12所述的显示装置，具备：
第2透明电极膜，其在上述第1基板上至少配置于上述显示区域，并且配置在上述第1绝缘膜的上述第1基板侧，在与上述第1透明电极膜之间夹着上述第1绝缘膜；以及
第2绝缘膜，其在上述第1基板上配置在跨上述显示区域和上述非显示区域的范围，上述密封部粘接到上述第2绝缘膜，并且上述第2绝缘膜配置在上述第2透明电极膜的上述第1基板侧，并且上述第2绝缘膜的膜厚比上述第1绝缘膜的膜厚大。
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