CN105931971B - 一种场效应晶体管的制备方法 - Google Patents
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- 230000005669 field effect Effects 0.000 title claims abstract description 38
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 claims abstract description 111
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 claims abstract description 111
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 claims abstract description 111
- 239000004208 shellac Substances 0.000 claims abstract description 111
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 claims abstract description 111
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims abstract description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 claims description 25
- 239000010445 mica Substances 0.000 claims description 19
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 239000003232 water-soluble binding agent Substances 0.000 claims description 15
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical group [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 10
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 9
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 9
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 9
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 claims description 8
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 7
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 7
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 6
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 6
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 5
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 108010022355 Fibroins Proteins 0.000 claims description 5
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 5
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 5
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 claims description 3
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N ethyl acetylene Natural products CCC#C KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002964 pentacenes Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 claims description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ZGYICYBLPGRURT-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)silicon Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)C(C)C ZGYICYBLPGRURT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000001548 drop coating Methods 0.000 claims description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 2
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 claims description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 abstract description 3
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 abstract description 3
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 abstract description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 abstract description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 2
- 239000012620 biological material Substances 0.000 abstract 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical class COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 241000209094 Oryza Species 0.000 description 2
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012149 noodles Nutrition 0.000 description 2
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 229920000832 Cutin Polymers 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004134 energy conservation Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66477—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
- H01L29/42316—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
- H01L29/4232—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
- H01L29/42364—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate characterised by the insulating layer, e.g. thickness or uniformity
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/43—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/49—Metal-insulator-semiconductor electrodes, e.g. gates of MOSFET
- H01L29/4966—Metal-insulator-semiconductor electrodes, e.g. gates of MOSFET the conductor material next to the insulator being a composite material, e.g. organic material, TiN, MoSi2
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
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- Materials Engineering (AREA)
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Abstract
本发明公开了一种场效应晶体管的制备方法，场效应晶体管从下到上依次为衬底、栅电极、介电层、半导体层、源电极和漏电极，封装层。本发明利用虫胶具有粘着性的特点，对介电材料进行物理剥离，从而形成稳定几个分子层厚度的介电层，减少了介电层的溶液法制备步骤，有效杜绝了有毒试剂的使用，并提高了稳定性。同时将虫胶作为衬底和封装层，利用其良好的致密性和抗紫外线抗辐射等特点，阻隔水氧对整个器件的侵蚀以及紫外线和电磁辐射对器件的干扰，从而提高整个器件的稳定性和寿命。该场效应晶体管采用一种可剥离介电层以及生物材料作为衬底和封装，更加容易制备，成本更低，将场效应晶体管应用范围拓宽，适合于可穿戴式设备与生物电子领域。适宜大规模量产。
Description
技术领域
本发明属于电子技术领域，特别涉及一种场效应晶体管的制备方法。
背景技术
场效应晶体管的性能及制作技术日益发展，很多新材料的迁移率超过了非晶硅，并且被广泛应用于电子纸、传感器身份识别卡以及智能卡等记忆器件等方面。与传统的硅基MOSFET相比，新材料场效应晶体管的器件制备过程以低温沉积或溶液(喷黑打印、旋涂、滴注等)等简单的工艺代替了传统的高温真空沉积等方法制作器件的复杂过程。此外，新材料本身所具备质轻、价廉、具有柔性、制备方法简单、种类多、性能可通过分子设计进行调整等优势。因此，新型半导体材料无论从材料合成以及器件的制备等方面具有非常大的降低成本的潜力
然而现有的场效应晶体管能在大气环境中稳定工作的，多为硅基场效应管，大量使用时会对环境造成污染，制备过程复杂，造价昂贵，且不易实现柔性、大面积器件；同时，介电层作为场效应管重要组成部分，现有溶液法制备过程中，大量使用了氯苯、甲苯、氯仿以及苯甲醚等有毒试剂，采用水、醇溶剂体系的介电层材料是绿色生产的首要因素，然而现有的溶于水或者醇中的介电层材料，存在大气环境下有电学性能不稳定的缺点。
发明内容
本发明目的在于提供一种制备工艺简单，生产成本低廉，绿色环保，可在大气环境下稳定，高寿命的一种场效应晶体管的制备方法。
本发明的技术方案为：
一种场效应晶体管的制备方法，该场效应晶体管从下到上依次为衬底、栅电极、介电层、半导体层、源电极和漏电极、封装层，所述介电层为二维可剥离的介电材料，所述栅电极、源电极和漏电极为金属纳米线复合材料，所述二维可剥离的介电材料为丝素蛋白、云母或六方氮化硼中的一种，所述金属纳米线复合材料由以下重量百分比的材料构成：金属纳米线40％～80％，虫胶10％～30％，水溶性粘合剂10％～30％；
制备方法如下：
①先对二维可剥离的介电材料进行彻底的清洗，清洗后干燥；
②在介电材料表面涂覆金属纳米线复合材料作为栅电极，并对其进行固化；
③在栅电极上面制备虫胶层，并迅速提高器件加热温度，使得虫胶层热熔状态，使其与栅电极和介电材料紧密粘合在一起，冷却，使虫胶层作为衬底；
④对衬底进行机械剥离，将衬底，栅电极以及介电材料剥离下来，从而在栅电极上面形成介电层；
⑤在介电层上制备半导体层；
⑥在半导体层上制备源电极和漏电极；
⑦在源电极和漏电极上面制备虫胶层，作为封装层；
⑧迅速提高器件加热温度，使得虫胶热熔状态，使封装层的虫胶与衬底的虫胶热熔到在一起，然后加热虫胶到热聚合温度，使得虫胶发生热聚合反应，进而固化为一体，起到封装作用；
进一步地，步骤③、⑦中，虫胶层采用旋涂法或滴涂法制备，步骤③、⑧中，虫胶热熔状态加热温度为70℃～90℃，步骤⑧中，虫胶热聚合为120℃～150℃，加热时间为0.5h～1h。
进一步地，步骤②和⑥中，栅电极、源电极、漏电极是通过丝网印刷或打印方法制备，所述步骤⑤中，所述半导体层是通过等离子体增强的化学气相沉积、热氧化、旋涂、真空蒸镀、辊涂、滴膜、压印、印刷或喷涂中的一种方法制备。
进一步地，介电层厚度为5nm～10nm，
进一步地，所述虫胶为脱蜡虫胶。
进一步地，所述金属纳米线材料为铁纳米线、铜纳米线、银纳米线、金纳米线、铝纳米线、镍纳米线、钴纳米线、锰纳米线、镉纳米线、铟纳米线、锡纳米线、钨纳米线或铂纳米线中的一种或多种。
进一步地，所述的水溶性粘合剂为明胶或聚乙烯醇中的一种或两种。
进一步地，所述半导体层为氧化锌、氧化锡、碳纳米管、氧化石墨烯、聚3-已基噻吩，6，13-双(三异丙基硅烷基乙炔基)并五苯或含硅氧烷的聚异戊二烯衍生物中的一种，所述半导体层厚度为30nm～100nm。
本发明中，引入虫胶层，因其独特的材料特性，在常温下为固体，受热时一般在75℃左右开始熔化，120℃左右成为流体，如在此温度下继续受热，它的聚合反应很慢。温度继续升高时，随着受热时间的延长，聚合反应迅速进行，虫胶的平均分子量不断增大，粘度逐渐增加，软化点逐步升高，颜色加深，热硬化时间随之不断缩短，热乙醇不溶物不断增加，逐渐变稠失去流动性，经橡胶状阶段，最后变成在溶剂中不溶解、加热也不熔化的角质状三维网状聚合物。基于此种特性，当采用虫胶作为衬底和封装层时，可将虫胶加热至熔化状态，随后迅速加热，使其发生热聚合，快速固化。从而起到很好的彻底和封装的效果。
与现有技术相比，本发明的优点在于：
一、该场效应晶体管的二维可剥离的介电材料，通过虫胶粘着性剥离而形成稳定几个分子层厚度的介电层，减少了介电层的溶液法制备，从而有效杜绝了氯苯、甲苯、氯仿以及苯甲醚等有毒试剂的使用，同时减少了传统二维材料剥离后转移的过程，减少了介电层的损坏并提高了稳定性；
二、机械剥离的介电层，由于其只有几个分子层的厚度，从而有效的减小了器件的阈值电压，提升了器件的性能；
三、通过使用虫胶作为衬底和封装层，虫胶出色的致密性和防紫外线防辐射的优点，既能使整个器件杜绝了空气中水氧的影响，又可以防止紫外线和电磁辐射等对器件的干扰，从而提高整个器件的稳定性和寿命；
四、虫胶来源广泛，易溶于乙醇，便于溶液法制备虫胶薄膜，成本低廉，制备工艺简单，同时基于其独特的热熔与热聚合特性，可以很方便的控制虫胶衬底和虫胶封装层进行融合，并且实现固化封装，易于实施，方法可靠；
五、该场效应晶体管的栅电极、源电极和漏电极采用的是含有10％～30％的虫胶和10％～30％水溶性粘合剂的金属纳米线，一方面有利于金属纳米线涂覆在介电层上，另一方面水溶性粘合剂可以促进金属纳米线与二维介电材料接触，虫胶可以使得金属纳米线与后续的虫胶衬底熔为一体，使得虫胶衬底、二维介电材料、金属纳米线三者结为一体，进而有利于衬底对介电层的机械剥离。制备采用的是丝网印刷或打印方法，这种方法相对于传统的化学气相沉积、热氧化和真空蒸镀方法，具有节能环保，易于大规模量产等优点。
六、相对与传统硅基场效应晶体管，本发明可在大气环境下持续稳定工作，且所需材料、制备过程绿色无污染。
附图说明
图1是本发明的结构示意图；
图中：1-衬底，2-栅电极，3-介电层，4-半导体层，5-漏电极，6-封装层，7-源电极；
图2是实施例1制备的器件的寿命测试曲线。
图3是实施例6制备的器件的寿命测试曲线。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步说明。
参照图1，本发明的一种场效应晶体管的制备方法，包括衬底1、栅电极2、介电层3、半导体层4、漏电极5、封装层6、源电极7，所述栅电极2设置于衬底1之上，介电层3设置于栅电极2之上，半导体层4设置于介电层3之上，漏电极5和源电极7分别设置于半导体层5之上，封装层6设置于漏电极5和源电极7之上，覆盖整个场效应晶体管器件。
①先对二维可剥离的介电材料进行彻底的清洗，清洗后干燥；
②在介电材料表面涂覆金属纳米线复合材料作为栅电极，并对其进行固化；
③在栅电极上面制备虫胶层，并迅速提高器件加热温度，使得虫胶层热熔状态，使其与栅电极和介电材料紧密粘合在一起，冷却，使虫胶层作为衬底；
④对衬底进行机械剥离，将衬底，栅电极以及介电材料剥离下来，从而在栅电极上面形成介电层；
⑤在介电层上制备半导体层；
⑥在半导体层上制备源电极和漏电极；
⑦在源电极和漏电极上面制备虫胶层，作为封装层；
⑧迅速提高器件加热温度，使得虫胶热熔状态，使封装层的虫胶与衬底的虫胶热熔到在一起，然后加热虫胶到热聚合温度，使得虫胶发生热聚合反应，进而固化为一体，起到封装作用；
以下是本发明的具体实施例：
实施例1：
如图1所示为底栅顶接触式结构，各层的材料和厚度为：衬底为虫胶,栅电极、源电极和漏电极均为银纳米线，加入了10％的虫胶和30％的水溶性粘合剂明胶，介电层采用云母片，厚度为5nm，半导体层为氧化锌，厚度为30nm，封装层为虫胶。用该结构可实现高寿命高稳定性的场效应晶体管。
制备方法如下：
①先对云母片进行彻底的清洗，清洗后干燥；
②在云母表面采用丝网印刷技术制备银纳米线栅电极2，并对其进行固化；
③在所述栅电极2上面制备虫胶层，并迅速提高器件加热温度到70℃～90℃，使得虫胶层热熔状态，使其与栅电极和云母片紧密粘合在一起，冷却，使虫胶层作为衬底1；
④对所述衬底1进行机械剥离，将衬底1，栅电极2以及云母片剥离下来，从而在栅电极2上面形成一层几个分子层厚的云母介电层3；
⑤在介电层3上采用旋涂方法制备氧化锌半导体层4；
⑥在半导体层4上采用丝网印刷技术制备银纳米线源电极5和银纳米线漏电极7；
⑦在源电极5和漏电极7上面制备虫胶层，作为封装层6；
⑧迅速提高器件加热温度到70℃～90℃，使得虫胶热熔状态，使封装层的虫胶与衬底的虫胶热熔到在一起，然后加热虫胶到热聚合温度120℃～150℃，使得虫胶发生热聚合反应，进而固化为一体，起到封装作用。
实施例2：
如图1所示为底栅顶接触式结构，各层的材料和厚度为：衬底为虫胶,栅电极、源电极和漏电极均为铝纳米线，加入了30％的虫胶和30％的水溶性粘合剂聚乙烯醇，介电层采用丝素蛋白片，厚度为8nm，半导体层为氧化石墨烯，厚度为30nm，封装层为虫胶。用该结构可实现高寿命高稳定性的场效应晶体管。
制备方法如同实施例1。
实施例3：
如图1所示为底栅顶接触式结构，各层的材料和厚度为：衬底为虫胶,栅电极、源电极和漏电极均为金纳米线，加入了30％的虫胶和10％的水溶性粘合剂明胶，介电层采用六方氮化硼，厚度为10nm，半导体层为碳纳米管，厚度为50nm，封装层为虫胶。用该结构可实现高寿命高稳定性的场效应晶体管。
制备方法如同实施例1。
实施例4：
如图1所示为底栅顶接触式结构，各层的材料和厚度为：衬底为虫胶，栅电极、源电极和漏电极均为铜纳米线，加入了10％的虫胶和30％的水溶性粘合剂明胶，介电层采用云母片，厚度为6nm，半导体层为氧化锡，厚度为30nm，封装层为虫胶。用该结构可实现高寿命高稳定性的场效应晶体管。
制备方法如同实施例1。
实施例5：
如图1所示为底栅顶接触式结构，各层的材料和厚度为：衬底为虫胶，栅电极、源电极和漏电极均为铁纳米线，加入了20％的虫胶和20％的水溶性粘合剂明胶，介电层采用丝素蛋白片，厚度为8nm，半导体层为6，13-双(三异丙基硅烷基乙炔基)并五苯，厚度为30nm，封装层为虫胶。用该结构可实现高寿命高稳定性的场效应晶体管。
制备方法如同实施例1。
实施例6：
如图1所示为底栅顶接触式结构，各层的材料和厚度为：衬底为虫胶，栅电极、源电极和漏电极均为银纳米线，加入了20％的虫胶和30％的水溶性粘合剂聚乙烯醇，介电层采用云母片，厚度为5nm，半导体层为氧化石墨烯，厚度为50nm，封装层为虫胶。用该结构可实现高寿命高稳定性的场效应晶体管。
制备方法如下：
①先对云母片进行彻底的清洗，清洗后干燥；
②在云母表面采用打印技术制备银纳米线栅电极2，并对其进行固化；
③在所述栅电极2上面制备虫胶层，并迅速提高器件加热温度到70℃～90℃，使得虫胶层热熔状态，使其与栅电极和云母片紧密粘合在一起，冷却，使虫胶层作为衬底1；
④对所述衬底1进行机械剥离，将衬底1，栅电极2以及云母片剥离下来，从而在栅电极2上面形成一层几个分子层厚的云母介电层3；
⑤在介电层3上采用旋涂方法制备氧化石墨烯半导体层4；
⑥在半导体层4上采用打印技术制备银纳米线源电极5和银纳米线漏电极7；
⑦在源电极5和漏电极7上面制备虫胶层，作为封装层6；
⑧迅速提高器件加热温度到70℃～90℃，使得虫胶热熔状态，使封装层的虫胶与衬底的虫胶热熔到在一起，然后加热虫胶到热聚合温度120℃～150℃，使得虫胶发生热聚合反应，进而固化为一体，起到封装作用。
实施例7：
如图1所示为底栅顶接触式结构，各层的材料和厚度为：衬底为虫胶，栅电极、源电极和漏电极均为银纳米线，加入了10％的虫胶和30％的水溶性粘合剂明胶，介电层采用六方氮化硼，厚度为8nm，半导体层为含硅氧烷的聚异戊二烯衍生物，厚度为80nm，封装层为虫胶。用该结构可实现高寿命高稳定性的场效应晶体管。
制备方法如同实施例6。
实施例8：
如图1所示为底栅顶接触式结构，各层的材料和厚度为：衬底为虫胶，栅电极、源电极和漏电极均为金纳米线，加入了10％的虫胶和30％的水溶性粘合剂明胶，介电层采用丝素蛋白片，厚度为8nm，半导体层为氧化锌，厚度为100nm，封装层为虫胶。用该结构可实现高寿命高稳定性的场效应晶体管。
制备方法如同实施例6。
实施例9：
如图1所示为底栅顶接触式结构，各层的材料和厚度为：衬底为虫胶，栅电极、源电极和漏电极均为镍纳米线，加入了10％的虫胶和30％的水溶性粘合剂聚乙烯醇，介电层采用云母片，厚度为10nm，半导体层为氧化石墨烯，厚度为80nm，封装层为虫胶。用该结构可实现高寿命高稳定性的场效应晶体管。
制备方法如下：
①先对云母片进行彻底的清洗，清洗后干燥；
②在云母表面采用打印技术制备银纳米线栅电极2，并对其进行固化；
③在所述栅电极2上面制备虫胶层，并迅速提高器件加热温度到70℃～90℃，使得虫胶层热熔状态，使其与栅电极和云母片紧密粘合在一起，冷却，使虫胶层作为衬底1；
④对所述衬底1进行机械剥离，将衬底1，栅电极2以及云母片剥离下来，从而在栅电极2上面形成一层几个分子层厚的云母介电层3；
⑤在介电层3上喷涂方法制备氧化石墨烯半导体层4；
⑥在半导体层4上采用打印技术制备银纳米线源电极5和银纳米线漏电极7；
⑦在源电极5和漏电极7上面制备虫胶层，作为封装层6；
⑧迅速提高器件加热温度到70℃～90℃，使得虫胶热熔状态，使封装层的虫胶与衬底的虫胶热熔到在一起，然后加热虫胶到热聚合温度120℃～150℃，使得虫胶发生热聚合反应，进而固化为一体，起到封装作用。
实施例10：
如图1所示为底栅顶接触式结构，各层的材料和厚度为：衬底为虫胶，栅电极、源电极和漏电极均为金纳米线，加入了20％的虫胶和10％的水溶性粘合剂明胶，介电层采用六方氮化硼，厚度为10nm，半导体层为3-已基噻吩，厚度为80nm，封装层为虫胶。用该结构可实现高寿命高稳定性的场效应晶体管。
制备方法如同实施例9。
Claims (8)
1.一种场效应晶体管的制备方法，其特征在于，该场效应晶体管从下到上依次为衬底、栅电极、介电层、半导体层、源电极和漏电极、封装层，所述介电层为二维可剥离的介电材料，所述栅电极、源电极和漏电极为金属纳米线复合材料，所述二维可剥离的介电材料为丝素蛋白、云母或六方氮化硼中的一种，所述金属纳米线复合材料由以下重量百分比的材料构成：金属纳米线40％～80％，虫胶10％～30％，水溶性粘合剂10％～30％；
制备方法如下：
①先对二维可剥离的介电材料进行彻底的清洗，清洗后干燥；
②在介电材料表面涂覆金属纳米线复合材料作为栅电极，并对其进行固化；
③在栅电极上面制备虫胶层，并迅速提高器件加热温度，使得虫胶层热熔状态，使其与栅电极和介电材料紧密粘合在一起，冷却，使虫胶层作为衬底；
④对衬底进行机械剥离，将衬底，栅电极以及介电材料剥离下来，从而在栅电极上面形成介电层；
⑤在介电层上制备半导体层；
⑥在半导体层上制备源电极和漏电极；
⑦在源电极和漏电极上面制备虫胶层，作为封装层；
⑧迅速提高器件加热温度，使得虫胶热熔状态，使封装层的虫胶与衬底的虫胶热熔到在一起，然后加热虫胶到热聚合温度，使得虫胶发生热聚合反应，进而固化为一体，起到封装作用。
2.根据权利要求1所述的一种场效应晶体管的制备方法，其特征在于，步骤③、⑦中，虫胶层采用旋涂法或滴涂法制备，步骤③、⑧中，虫胶热熔状态加热温度为70℃～90℃，步骤⑧中，虫胶热聚合为120℃～150℃，加热时间为0.5h～1h。
3.根据权利要求1所述的一种场效应晶体管的制备方法，其特征在于，步骤②和⑥中，栅电极、源电极、漏电极是通过丝网印刷或打印方法制备，所述步骤⑤中，所述半导体层是通过等离子体增强的化学气相沉积、热氧化、旋涂、真空蒸镀、辊涂、滴膜、压印、印刷或喷涂中的一种方法制备。
4.根据权利要求1所述的一种场效应晶体管的制备方法，其特征在于，介电层厚度为5nm～10nm。
5.根据权利要求1所述的一种场效应晶体管的制备方法，其特征在于，所述虫胶为脱蜡虫胶。
6.根据权利要求1所述的一种场效应晶体管的制备方法，其特征在于，所述金属纳米线材料为铁纳米线、铜纳米线、银纳米线、金纳米线、铝纳米线、镍纳米线、钴纳米线、锰纳米线、镉纳米线、铟纳米线、锡纳米线、钨纳米线或铂纳米线中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述的一种场效应晶体管的制备方法，其特征在于，所述的水溶性粘合剂为明胶或聚乙烯醇中的一种或两种。
8.根据权利要求1所述的一种场效应晶体管的制备方法，其特征在于，所述半导体层为氧化锌、氧化锡、碳纳米管、氧化石墨烯、聚3-已基噻吩，6，13-双(三异丙基硅烷基乙炔基)并五苯或含硅氧烷的聚异戊二烯衍生物中的一种，所述半导体层厚度为30nm～100nm。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201610548403.9A CN105931971B (zh) | 2016-07-13 | 2016-07-13 | 一种场效应晶体管的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201610548403.9A CN105931971B (zh) | 2016-07-13 | 2016-07-13 | 一种场效应晶体管的制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105931971A CN105931971A (zh) | 2016-09-07 |
| CN105931971B true CN105931971B (zh) | 2018-08-17 |
Family
ID=56827834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201610548403.9A Active CN105931971B (zh) | 2016-07-13 | 2016-07-13 | 一种场效应晶体管的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN105931971B (zh) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108225621B (zh) * | 2018-01-03 | 2020-05-22 | 电子科技大学 | 一种基于有机场效应管压力传感器及其制备方法 |
| CN109326724B (zh) * | 2018-09-19 | 2020-06-23 | 电子科技大学 | 一种基于有机场效应管的光敏传感器及其制备方法 |
| CN109900763B (zh) * | 2019-03-07 | 2021-06-25 | 江苏友润微电子有限公司 | 基于有机晶体管的二氧化氮传感器芯片及其制备方法 |
| CN110514327B (zh) * | 2019-08-29 | 2022-01-25 | 电子科技大学 | 一种基于有机场效应晶体管的柔性压力传感器及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104132989A (zh) * | 2014-08-01 | 2014-11-05 | 电子科技大学 | 基于混合绝缘层的有机场效应管气体传感器及其制备方法 |
| CN104752546A (zh) * | 2015-04-22 | 2015-07-01 | 电子科技大学 | 一种金属氧化物紫外探测器及其制备方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB0801494D0 (en) * | 2007-02-23 | 2008-03-05 | Univ Ind & Acad Collaboration | Nonvolatile memory electronic device using nanowire used as charge channel and nanoparticles used as charge trap and method for manufacturing the same |
-
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104132989A (zh) * | 2014-08-01 | 2014-11-05 | 电子科技大学 | 基于混合绝缘层的有机场效应管气体传感器及其制备方法 |
| CN104752546A (zh) * | 2015-04-22 | 2015-07-01 | 电子科技大学 | 一种金属氧化物紫外探测器及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN105931971A (zh) | 2016-09-07 |
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| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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