CN105928769B - 一种钼的高效金相机械抛光方法 - Google Patents

一种钼的高效金相机械抛光方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105928769B
CN105928769B CN201610400656.1A CN201610400656A CN105928769B CN 105928769 B CN105928769 B CN 105928769B CN 201610400656 A CN201610400656 A CN 201610400656A CN 105928769 B CN105928769 B CN 105928769B
Authority
CN
China
Prior art keywords
polishing
molybdenum
metallographic
mesh
abrasive grains
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201610400656.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105928769A (zh
Inventor
郭海霞
陈政龙
李雪峰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
725th Research Institute of CSIC
Original Assignee
725th Research Institute of CSIC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 725th Research Institute of CSIC filed Critical 725th Research Institute of CSIC
Priority to CN201610400656.1A priority Critical patent/CN105928769B/zh
Publication of CN105928769A publication Critical patent/CN105928769A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105928769B publication Critical patent/CN105928769B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/32Polishing; Etching
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B1/00Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09GPOLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00Polishing compositions
    • C09G1/02Polishing compositions containing abrasives or grinding agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

一种钼的高效金相机械抛光方法,包括按照金相制样标准制备钼试样,依次使用粒度为80目、280目、400目、600目的水砂纸对钼试样表面进行打磨处理的步骤、制备抛光液的步骤以及利用抛光液进行抛光的步骤。本发明利用悬浮液作为抛光液,特殊的抛光作用是氧化性、光亮性、微弱酸性和弱腐蚀性的结合,铬酸酐和研磨颗粒的共同作用,使得该悬浮液抛光剂对钼这种金属具有很好的抛光效果,制备出优于电解抛光的光亮无划痕的表面,满足金相观察的需求。

Description

一种钼的高效金相机械抛光方法
技术领域
本发明涉及金属材料金相制样技术领域,具体涉及一种钼的高效金相机械抛光方法。
背景技术
钼是一种难熔金属,熔点为2610℃。钼合金高温强度高,具有优异的高温蠕变性能,使用温度范围在1100~1650℃,远高于高温合金,是重要的航天用高温结构材料。钼合金已应用于固体燃料火箭发动机的重要部件,而且在空间深空探测的发展中,钼合金的应用将具有更为广阔的空间。
在钼的开发和应用中,金相检测中的孔隙率检测和晶粒度检测是必不可少的项目,而金相检测项目的首要任务就是制备出光亮无明显划痕的金相试样。大多数金属材料的金相制备技术已很完善,一般都是先采用砂纸磨光试样,接着使用金刚石抛光液抛光试样,最后得到光亮无划痕的金相试样。但是钼在采用金刚石抛光液抛光试样时,花费比钢铁试样多一倍的时间,而且还得不到与钢铁试样一样的光亮无划痕表面,直接影响了钼的孔隙率检测。附图图1为金刚石抛光液对钼进行10min抛光后的效果图,图1中,钼的抛光表面有明显划痕,而且试样面不光亮。
现有技术也有采用电解抛光,电解抛光原理研究的尚不完善,一般采用薄膜假说来解释,试样在未电解抛光前是凸凹不平的,凸出部分顶峰的薄膜要比凹陷部分薄得多,薄膜具有很高的电阻率,膜越薄电阻越小,电流密度越大,磨面上各处电流密度相差很大,凸出顶峰部分电流密度最大,金属被迅速溶入电解液中,顶峰渐趋平坦,最后形成光滑平整的表面,但电解抛光在多相合金中,当有一相不易在阳极溶解时,将会影响电解抛光的质量;而且,电解抛光会使制品表面的气孔、坑洞的尖角边缘钝化,扩大这些缺陷的面积;还有采用化学抛光,化学抛光的表面质量低于电解抛光,溶液的调整和再生也比较困难,往往抛光过程中会析出氧化氮等有害气体。
发明内容
本发明为了克服现有钼制品常规抛光方法存在抛光效率不高、质量不高的缺陷,提供一种钼的高效金相机械抛光方法,能够制备出光亮无划痕的表面,满足金相观察的需求。
本发明为解决上述问题所采用的技术方案为:一种钼的高效金相机械抛光方法,包括以下步骤:
步骤一、按照金相制样标准制备钼试样,依次使用粒度为80目、280目、400目、600目的水砂纸对钼试样表面进行打磨处理,每个水砂纸的打磨时间均为1~2min;
步骤二、按照研磨颗粒:CrO3:水=10~15g:8~15g:800~1000mL的比例,依次取研磨颗粒、CrO3和水,并将CrO3溶于水中,搅拌1~2min后,加入研磨颗粒,分散,制得抛光液,备用;
步骤三、手持步骤一处理后的钼试样,利用水作为润滑剂,使用绒布作为抛光布,利用步骤二制备的抛光液在抛光机的抛光盘上进行抛光4~5min。
进一步地,步骤二中的研磨颗粒的制备方法为:按照1mL:100~110g的比例,依次取Fe(NO3)3·9H2O溶液和纳米铁粉进行混合成悬浮液后,加入氨水调节悬浮液的pH=8.0~9.0,加入质量占纳米铁粉质量0.3~0.8%的聚乙二醇,抽滤后使用水洗涤过滤物,然后在70~85℃下烘干10~24h,将过滤物在500~700℃下煅烧0.5~1.5h,然后经过造粒,制得研磨颗粒。经过该制备方法,制得一种具有自修复功能的研磨颗粒,该研磨颗粒具有Fe/Fe2O3核壳结构,Fe2O3层包覆在Fe纳米颗粒表面,当研磨颗粒在长时间研磨过程中出现裂纹、孔洞等缺陷时,在高温状态下,内部的铁与氧进一步反应,生成新的Fe2O3层,并与基体中的Fe2O3进行结合,填充裂纹等缺陷,使研磨颗粒自始至终保持球形状态,避免造成钼试样表面产生划痕,与抛光液相结合使用,最终得到无划痕的光亮表面。
进一步地,步骤二中的分散条件为:在18000~20000rpm条件下分散5~10min。
进一步地,步骤三中进行抛光的工艺参数为:抛光机的抛光盘的转速为300~600r/min。
本发明的有益效果为:铬酸酐CrO3溶于水后形成铬酸,研磨颗粒不溶于水,与水混合后形成悬浮液。该悬浮液作为抛光液时,铬酸本身并不腐蚀钼金属,该抛光液在机械力的作用下起到了特殊的抛光作用,特殊的抛光作用是氧化性、光亮性、微弱酸性和弱腐蚀性的结合。铬酸酐和研磨颗粒的共同作用,使得该悬浮液抛光剂对钼这种金属具有很好的抛光效果,制备出优于电解抛光的光亮无划痕的镜态表面,满足金相观察的需求。
附图说明
图1为背景技术中,金刚石抛光液对钼进行10min抛光后的效果图;
图2为实施例1抛光后的效果图。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征以及达成的目的便于理解,进一步阐述本发明,但本发明所要求保护的范围并不局限于具体实施方式中所描述的范围。
一种钼的高效金相机械抛光方法,包括以下步骤:步骤一、按照金相制样标准制备钼试样,依次使用粒度为80目、280目、400目、600目的水砂纸对钼试样表面进行打磨处理,每个水砂纸的打磨时间均为1~2min;
步骤二、按照研磨颗粒:CrO3:水=10~15g:8~15g:800~1000mL的比例,依次取研磨颗粒、CrO3和水,并将CrO3溶于水中,搅拌1~2min后,加入研磨颗粒,分散,制得抛光液,备用;
步骤三、手持步骤一处理后的钼试样,利用水作为润滑剂,使用绒布作为抛光布,利用步骤二制备的抛光液在抛光机的抛光盘上进行抛光4~5min。
实施例1
一种钼的高效金相机械抛光方法,包括以下步骤:步骤一、按照金相制样标准制备钼试样,依次使用粒度为80目、280目、400目、600目的水砂纸对钼试样表面进行打磨处理,每个水砂纸的打磨时间均为1min;
步骤二、按照1mL:110g的比例,依次取Fe(NO3)3·9H2O溶液和纳米铁粉进行混合成悬浮液后,加入氨水调节悬浮液的pH=8.0,加入质量占纳米铁粉质量0.8%的聚乙二醇,聚乙二醇分子量为4000,抽滤后使用水洗涤过滤物,然后在80℃下烘干22h,将过滤物在700℃下煅烧1h,然后经过造粒,制得研磨颗粒;按照研磨颗粒:CrO3:水=15g: 15g:1000mL的比例,依次取研磨颗粒、CrO3和水,并将CrO3溶于水中,搅拌2min后,加入研磨颗粒,在18000rpm条件下分散10min,制得抛光液,备用;
步骤三、手持步骤一处理后的钼试样,利用水作为润滑剂,使用绒布作为抛光布,抛光机的抛光盘的转速为330r/min,利用步骤二制备的抛光液在抛光机的抛光盘上进行抛光5min。
实施例2
一种钼的高效金相机械抛光方法,包括以下步骤:步骤一、按照金相制样标准制备钼试样,依次使用粒度为80目、280目、400目、600目的水砂纸对钼试样表面进行打磨处理,每个水砂纸的打磨时间均为2 min;
步骤二、按照1mL:100g的比例,依次取Fe(NO3)3·9H2O溶液和纳米铁粉进行混合成悬浮液后,加入氨水调节悬浮液的pH=9.0,加入质量占纳米铁粉质量0.3%的聚乙二醇,聚乙二醇分子量为4000,抽滤后才有水洗涤过滤物,然后在70℃下烘干24h,将过滤物在500℃下煅烧1.5h,然后经过造粒,制得研磨颗粒;按照研磨颗粒:CrO3:水=10g:8.0g:950mL的比例,依次取研磨颗粒、CrO3和水,并将CrO3溶于水中,搅拌5min后,加入研磨颗粒,在20000rpm条件下分散5min,制得抛光液,备用;
步骤三、手持步骤一处理后的钼试样,利用水作为润滑剂,使用绒布作为抛光布,利用步骤二制备的抛光液在抛光机的抛光盘上进行抛光4min,抛光盘的转速为600r/min。
实施例3
一种钼的高效金相机械抛光方法,包括以下步骤:步骤一、按照金相制样标准制备钼试样,依次使用粒度为80目、280目、400目、600目的水砂纸对钼试样表面进行打磨处理,每个水砂纸的打磨时间均为1.5min;
步骤二、按照1mL:102g的比例,依次取Fe(NO3)3·9H2O溶液和纳米铁粉进行混合成悬浮液后,加入氨水调节悬浮液的pH=8.5,加入质量占纳米铁粉质量0.6%的聚乙二醇,聚乙二醇分子量为4000,抽滤后才有水洗涤过滤物,然后在85℃下烘干10h,将过滤物在650℃下煅烧0.5h,然后经过造粒,制得研磨颗粒;按照研磨颗粒:CrO3:水=13g:12g:800mL的比例,依次取研磨颗粒、CrO3和水,并将CrO3溶于水中,搅拌2min后,加入研磨颗粒,在19500rpm条件下分散7min,制得抛光液,备用;
步骤三、手持步骤一处理后的钼试样,抛光机的抛光盘的转速为300r/min,利用水作为润滑剂,使用绒布作为抛光布,利用步骤二制备的抛光液在抛光机的抛光盘上进行抛光4.5min。
对比例1
按照Fe2O3:CrO3:水=15g:15g:1000mL的比例配置抛光液,其中,Fe2O3的粒度为6微米以下;其余抛光方法及参数同实施例1。
对比例2
按照Fe2O3:水=15g:1000mL的比例配置抛光液,其中,Fe2O3的粒度为6微米以下,在抛光前,在抛光布上涂上抛光膏;其余抛光方法及参数同实施例1。
本发明在较短的抛光时间内即能制得满足金相要求的抛光面,在抛光时,可手持钼试件压在旋转的抛光盘上,由研磨颗粒和铬酸酐组成的抛光液在钼试件与抛光盘之间流动,改变钼试件表面材料的化学键,最终实现镜态的表面。
铬酸酐CrO3溶于水后形成H2Cr2O7和H2CrO4形式的铬酸,其中,按照金相制样标准制备钼试样,金相制样标准为现有技术中本领域公知的技术。对实施例1~3、对比例1~2的抛光后的钼试样进行观察,在金相显微镜下观察抛光态下钼表面形貌,实施例1的钼的抛光态形貌见图2所示。实施例1~3抛光后的钼试样表面均光亮无划痕,达到抛光态的要求,具有快速、简便、有效的特点。对比例1抛光后的钼试样,光亮度同实施例1,存在少许划痕,究其原因,为研磨颗粒在研磨应力作用下,可能使其表面产生裂纹或原有的裂纹扩展,致使形状不规则的研磨颗粒造成钼试样表面产生划痕;对比例2抛光后的钼试样,光亮度不如实施例1,且存在较多划痕。

Claims (3)

1.一种钼的高效金相机械抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一、按照金相制样标准制备钼试样,依次使用粒度为80目、280目、400目、600目的水砂纸对钼试样表面进行打磨处理,每个水砂纸的打磨时间均为1~2min;
步骤二、按照研磨颗粒:CrO3:水=10~15g:8~15g:800~1000mL的比例,依次取研磨颗粒、CrO3和水,并将CrO3溶于水中,搅拌1~2min后,加入研磨颗粒,分散,制得抛光液,备用;其中,研磨颗粒的制备方法为:按照1mL:100~110g的比例,依次取Fe(NO3)3·9H2O溶液和纳米铁粉进行混合成悬浮液后,加入氨水调节悬浮液的pH=8.0~9.0,加入质量占纳米铁粉质量0.3~0.8%的聚乙二醇,抽滤后使用去离子水洗涤过滤物,然后在70~85℃下烘干10~24h,将过滤物在500~700℃下煅烧0.5~1.5h,然后经过造粒,制得研磨颗粒;
步骤三、手持步骤一处理后的钼试样,利用水作为润滑剂,使用绒布作为抛光布,利用步骤二制备的抛光液在抛光机的抛光盘上进行抛光4~5min。
2.根据权利要求1所述的一种钼的高效金相机械抛光方法,其特征在于:步骤二中的分散条件为:在18000~20000rpm条件下分散5~10min。
3.根据权利要求1所述的一种钼的高效金相机械抛光方法,其特征在于:抛光机的抛光盘的转速为300~600r/min。
CN201610400656.1A 2016-06-08 2016-06-08 一种钼的高效金相机械抛光方法 Expired - Fee Related CN105928769B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610400656.1A CN105928769B (zh) 2016-06-08 2016-06-08 一种钼的高效金相机械抛光方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610400656.1A CN105928769B (zh) 2016-06-08 2016-06-08 一种钼的高效金相机械抛光方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105928769A CN105928769A (zh) 2016-09-07
CN105928769B true CN105928769B (zh) 2018-07-24

Family

ID=56832499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610400656.1A Expired - Fee Related CN105928769B (zh) 2016-06-08 2016-06-08 一种钼的高效金相机械抛光方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105928769B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110455846A (zh) * 2019-08-19 2019-11-15 飞而康快速制造科技有限责任公司 一种微细粉末剖面显微组织的显示方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102070989A (zh) * 2009-11-20 2011-05-25 安集微电子(上海)有限公司 一种金属化学机械抛光浆料
CN102095623A (zh) * 2011-01-16 2011-06-15 首钢总公司 一种硅钢金相样品制备方法
CN103265893A (zh) * 2013-06-04 2013-08-28 复旦大学 一种基于金属Mo的抛光工艺的抛光液、其制备方法及应用
CN104403570A (zh) * 2014-11-03 2015-03-11 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种包含双氧化剂的gst化学机械抛光液及其制备方法和用途

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102070989A (zh) * 2009-11-20 2011-05-25 安集微电子(上海)有限公司 一种金属化学机械抛光浆料
CN102095623A (zh) * 2011-01-16 2011-06-15 首钢总公司 一种硅钢金相样品制备方法
CN103265893A (zh) * 2013-06-04 2013-08-28 复旦大学 一种基于金属Mo的抛光工艺的抛光液、其制备方法及应用
CN104403570A (zh) * 2014-11-03 2015-03-11 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种包含双氧化剂的gst化学机械抛光液及其制备方法和用途

Also Published As

Publication number Publication date
CN105928769A (zh) 2016-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102348535B (zh) 包含具有改进形状的熔凝的氧化锆氧化铝颗粒的磨料物品
Denkena et al. Influence of the cutting edge preparation method on characteristics and performance of PVD coated carbide inserts in hard turning
Pal et al. Development and performance evaluation of monolayer brazed cBN grinding wheel on bearing steel
EP2611575A2 (en) Bonded abrasive article and method of forming
CN103025418A (zh) 多晶超硬材料
Li et al. Fabrication and performance of monolayer brazed CBN wheel for high-speed grinding of superalloy
JP2011088264A (ja) ダイヤモンド切削工具及びその製造方法
EP2611574A2 (en) Bonded abrasive articles, method of forming such articles, and grinding performance of such articles
CN106281043B (zh) 一种用于SiC单晶片的磁流变化学机械抛光液及其使用方法
Sanchez et al. Surface finishing of flat pieces when submitted to lapping kinematics on abrasive disc dressed under several overlap factors
CN105668599A (zh) 一种纳米氧化铝抛光料及其制备方法
CN109943237A (zh) 一种抛光液
Chen et al. Electrochemical jet-assisted precision grinding of single-crystal SiC using soft abrasive wheel
CN105928769B (zh) 一种钼的高效金相机械抛光方法
WO2013130740A1 (en) Systems and methods for extending cutting tool life
Wang et al. Mechanism of material removal in tungsten carbide-cobalt alloy during chemistry enhanced shear thickening polishing
TW201733741A (zh) 超磨粒輪體
CN105415099A (zh) 单晶刀具制备工艺
CN105806684A (zh) 一种硬度不均匀材料的研磨抛光方法
CN104451520B (zh) 一种氧化锆多晶团陶瓷涂层的制备方法
CN111234706A (zh) 一种水基研磨组合物及其制备方法
CN104404426B (zh) 大尺寸工件表面Ti3SiC2基复合材料涂层及等离子堆焊制备方法
CN108425059B (zh) 一种Fe-A12O3金属陶瓷密封环及其制备方法
Chen et al. Loose abrasive truing and dressing of resin bond diamond cup wheels for grinding fibre optic connectors
Rechenko et al. Ultra-high-speed sharpening and hardening the coating of carbide metal-cutting tools for finishing aircraft parts made of titanium alloys

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20180724

Termination date: 20210608

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee