CN105867012A - 显示基板及其制作方法以及显示装置 - Google Patents

Abstract

一种显示基板及其制作方法以及显示装置。该显示基板包括衬底基板，衬底基板包括待设置隔垫物的区域；以及光致变色膜，光致变色膜设置在衬底基板上，并配置为受光照射后透过率降低，光致变色膜至少包括设置为围绕待设置隔垫物的区域的防漏光部分，防漏光部分在衬底基板上的正投影与待设置隔垫物的区域相接或至少部分重叠。该光致变色膜可在显示基板发生漏光时转变为具有低透过率的膜甚至透过率为零的膜，从而可防止漏光的发生，提高显示的可靠性和稳定性。

Description

显示基板及其制作方法以及显示装置

技术领域

本发明的实施例涉及一种显示基板、显示基板的制作方法以及显示装置。

背景技术

随着显示装置市场的不断发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)因其响应速度快、集成度高、功耗小等优点，已成为主流的显示装置。液晶显示面板通常包括由阵列基板和与之对盒设置的显示基板形成的液晶盒以及填充在液晶盒中的液晶分子层。液晶显示面板通过电场使液晶分子层中液晶分子的分子排列改变，配合设置在液晶显示面板两侧的偏光片，可形成液晶光阀，从而实现显示功能。另外，配合形成在阵列基板或显示基板上的彩色滤光图案，液晶显示器可进一步实现彩色显示。

在液晶显示面板的液晶盒内，为保持保证液晶盒的盒厚(Cell Gap)在各个位置的均一性，通常在阵列基板和对置基板之间设置有具有弹性回复力的柱状隔垫物(Post Spacer，PS)。柱状隔垫物处于压缩状态并起到支撑液晶盒的作用，从而保持液晶显示面板的盒厚稳定与均一。

发明内容

本发明至少一个实施例提供一种显示基板及其制作方法以及显示装置。该显示基板包括衬底基板；设置在衬底基板上的取向膜；以及设置在衬底基板和取向膜之间的光致变色膜，该光致变色膜配置为受光照射后透过率降低。该光致变色膜可在显示基板发生漏光时转变为具有低透过率的膜甚至透过率为零的膜，从而可防止漏光的发生，提高显示的可靠性和稳定性。

本发明至少一个实施例提供一种显示基板，其包括：衬底基板，所述衬底基板包括待设置隔垫物的区域；以及光致变色膜，所述光致变色膜设置在所述衬底基板上，并配置为受光照射后透过率降低，所述光致变色膜至少包括设置为围绕所述待设置隔垫物的区域的防漏光部分，所述防漏光部分在所述衬底基板上的正投影与所述待设置隔垫物的区域相接或至少部分重叠。

例如，在本发明一实施例提供的显示基板中，所述光致变色膜具有触发光照强度，所述光致变色膜配置为受大于等于具有触发光照强度的光的照射后透过率降低，所述触发光照强度大于所述显示基板正常工作情况下透过所述显示基板的光的最大光照强度。

例如，在本发明一实施例提供的显示基板中，所述光致变色膜配置为受小于具有触发光照强度的光的照射后所述光致变色膜的透过率可恢复。

例如，在本发明一实施例提供的显示基板中，所述光致变色膜配置为受大于等于具有触发光照强度的光的照射后变为不透可见光的膜。

例如，在本发明一实施例提供的显示基板中，所述光致变色膜在所述衬底基板的正投影具有与所述待设置隔垫物的区域相同的形状。

例如，在本发明一实施例提供的显示基板中，所述光致变色膜在所述衬底基板的正投影与所述待设置隔垫物的区域同心设置。

例如，本发明一实施例提供的显示基板还包括：黑矩阵，所述黑矩阵覆盖所述待设置隔垫物的区域，所述光致变色膜至少包括设置在所述黑矩阵两侧的防漏光部分，所述防漏光部分在所述衬底基板上的正投影与所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影相接或至少部分重叠。

例如，在本发明一实施例提供的显示基板中，所述防漏光部分的宽度为1-100μm。

例如，在本发明一实施例提供的显示基板中，所述光致变色膜的材料包括卤化银。

例如，在本发明一实施例提供的显示基板中，所述光致变色膜包括催化剂。

例如，在本发明一实施例提供的显示基板中，所述光致变色膜的厚度为0.1-1μm。

例如，本发明一实施例提供的显示基板还包括：取向膜，所述取向膜设置在所述衬底基板上，所述光致变色膜设置在所述衬底基板和所述取向膜之间。

例如，本发明一实施例提供的显示基板还包括：彩色滤光图案，所述彩色滤光图案设置在衬底基板与所述取向膜之间，所述光致变色膜设置在所述彩色滤光图案靠近所述取向膜的一侧。

本发明至少一实施例提供一种显示基板的制作方法，其包括：在衬底基板上沉积光致变色材料；以及图案化所述光致变色材料以形成具有预定图案的光致变色膜，所述光致变色膜配置为受光照射后透过率降低，所述衬底基板包括待设置隔垫物的区域，所述光致变色膜至少包括设置为围绕所述待设置隔垫物的区域的防漏光部分，所述防漏光部分在所述衬底基板上的正投影与所述待设置隔垫物的区域相接或至少部分重叠。

例如，在本发明一实施例提供的显示基板的制作方法中，所述光致变色膜具有触发光照强度，所述光致变色膜配置为受大于等于具有触发光照强度的光的照射后透过率降低，所述触发光照强度大于所述显示基板正常工作情况下透过所述显示基板的光的最大光照强度。

例如，本发明一实施例提供的显示基板的制作方法还包括：在所述衬底基板上形成黑矩阵，所述黑矩阵覆盖所述待设置隔垫物的区域，所述光致变色膜至少包括设置在所述黑矩阵两侧的防漏光部分，所述防漏光部分在所述衬底基板上的正投影与所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影相接或至少部分重叠。

例如，本发明一实施例提供的显示基板的制作方法还包括：在所述衬底基板上形成取向膜；以及在所述衬底基板上形成彩色滤光图案，所述光致变色膜形成在所述彩色滤光图案靠近所述取向膜的一侧。

本发明至少一实施例提供一种显示装置，包括：阵列基板，所述阵列基板包括取向膜；显示基板，所述显示基板与所述阵列基板对盒设置，且所述显示基板设置在显示装置的出光侧；以及液晶层，所述液晶层设置在所述阵列基板和所述显示基板之间，所述显示基板包括上述任一项所述的显示基板。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。

图1a为一种液晶显示面板的平面示意图；

图1b为一种沿图1a中A-A’方向上的截面示意图；

图1c为另一种沿图1a中A-A’方向上的截面示意图；

图2a为一种液晶显示面板受外力后发生阵列基板与彩膜基板偏移的示意图；

图2b沿图2a中B-B’方向上的截面示意图；

图2c沿图2a中C-C’方向上的截面示意图；

图3为一种液晶显示面板因隔垫物划伤取向膜引起的像素漏光的显微图像；

图4为本发明一实施例提供的一种显示基板的平面示意图；

图5为本发明一实施例提供的一种显示基板的横截面示意图；

图6为本发明一实施例提供的一种显示装置的横截面示意图；

图7为本发明一实施例提供的一种显示装置取向膜被划伤后的横截面示意图；

图8为本发明一实施例提供的另一种显示装置取向膜被划伤后的横截面示意图；

图9为本发明一实施例提供的一种光致变色膜工作原理示意图；

图10为本发明一实施例提供的一种显示基板的制作方法示意图；以及

图11为一种液晶在正常显示区域和异常显示区域的透过率与驱动电压的曲线示意图。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。

图1a为一种液晶显示面板的平面示意图，图1b和图1c为沿图1a中A-A’的剖面示意图。如图1a-1c所示，该液晶显示面板包括阵列基板100、与阵列基板100对盒设置的彩膜基板300以及设置在阵列基板100和彩膜基板300之间的液晶分子200和隔垫物210。阵列基板100包括衬底基板101、设置在衬底基板101上的栅极102、栅线103、栅极绝缘层111、有源层104、源极1051、漏极1052、像素电极108以及取向膜109。彩膜基板300包括衬底基板301、设置在衬底基板301上的黑矩阵303、彩色滤光图案302以及取向膜309。可通过摩擦工艺在取向膜109和取向膜309的表面形成定向沟道，从而可诱导液晶分子200进行定向排列。当液晶显示面板显示暗态时，如图1b所示，液晶分子200不发生偏转，光无法透过液晶显示面板。当液晶显示面板显示亮态时，如图1c所示，液晶分子200在电场的作用下发生偏转，光可以透过液晶显示面板。并且，通过彩色滤光图案302的作用，液晶显示面板而可显示具有与该彩色滤光图案对应颜色的光。

图2a为一种液晶面板因受到外力而发生阵列基板与彩膜基板偏移的示意图，图2b为沿图2a中B-B’方向上的截面示意图，图2c为沿图2a中C-C’方向上的截面示意图。在研究中，本申请的发明人发现：如图2a-2c所示，当液晶显示面板受外力过大或者水平方向切力作用时，阵列基板和彩膜基板发生位移，隔垫物210会脱离原先因为被压缩而稳定存在的区域(例如栅线、薄膜晶体管所在的区域)。取向膜被隔垫物210划伤的区域可能会进入未被黑矩阵303遮盖的显示区域。被划伤的取向膜109失去了诱导液晶分子200定向排列分布的锚定功能，从而使得液晶分子200无法正常配向，导致该显示区域的液晶分子200的配向紊乱或异常，进而导致显示区域漏光等不良。如图3所示，显示区域因取向膜被划伤而出现漏光现象。

为了改善上述不良，本申请的发明人想到可通过增加黑矩阵的宽度来来遮盖发生隔垫物划伤的区域。然而，增加黑矩阵的宽度会带来开口率和透过率降低等不足。另外，还可将隔垫物的周边设置阻挡物(Barrier)，例如设置在源漏电极之间，来防止隔垫物划伤取向膜。然而，阻挡物(Barrier)可能会导致隔垫物无法恢复到原来的位置甚至卡在液晶盒之间。

本发明至少一个实施例提供一种显示基板及其制作方法以及显示装置。该显示基板包括衬底基板；设置在衬底基板上的取向膜；以及设置在衬底基板和取向膜之间的光致变色膜，该光致变色膜配置为受光照射后从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜。该光致变色膜可在显示基板发生漏光时转变为具有低透过率的膜甚至透过率为零的膜，从而可防止漏光的发生，提高显示质量。

下面结合附图对本发明实施例提供的显示基板、显示基板的制作方法以及显示装置进行说明。

实施例一

本实施例提供一种显示基板，如图4所示，该显示基板包括衬底基板301，以及设置衬底基板301之上的光致变色膜305。光致变色膜305配置为受光照射后透过率降低。衬底基板301包括待设置隔垫物的区域310，光致变色膜305至少包括围绕所述待设置隔垫物的区域310的防漏光部分3050，例如，防漏光部分3050可围绕所述待设置隔垫物的区域310一周，防漏光部分3050在衬底基板301上的正投影与待设置隔垫物的区域310相接或至少部分重叠。

需要说明的是待设置隔垫物的区域包含两种情况：一种是该衬底基板的该区域设置有隔垫物；另一种情况是该衬底基板的该区域并不设置隔垫物，隔垫物设置在与该衬底基板相对设置的另一个基板上，该衬底基板的待设置隔垫物的区域与另一基板上的隔垫物相对应。

在本实施例提供的显示基板中，光致变色膜受到光照后可从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜。由此，当采用本实施例提供的显示基板的显示装置因各种异常(例如隔垫物划伤取向膜)而导致漏光时，可通过设置在显示基板中的光致变色膜迅速转变为具有低透过率的膜甚至透过率为零的膜以防止漏光射出显示基板，提高显示的可靠性。另外，由于光致变色薄膜305设置在待设置隔垫物的区域310的周围，从而可针对性地遮挡因隔垫物划伤取向膜而导致的漏光现象。并且，由于光致变色膜305只设置在待设置隔垫物的区域310的周围，可减少光致变色膜305的使用量，减少成本。当然，本发明实施例包括但不限于此，例如，光致变色膜可设置在整个显示基板上，当面板上任意位置处发生漏光时，该位置对应的光致变色膜可转变为低透过率的膜，从而应对整张面板上可能发生的漏光问题。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，光致变色膜可具有触发光照强度，当光致变色膜受到大于等于具有触发光照强度的光的照射后可从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜。也就是说，光致变色膜在受到光照强度小于触发光照强度的光照射后不会发生转变，仍然具有低透过率。由此，可根据需要对光致变色膜进行设置，只有当光照强度大于触发光照强度的光照射光致变色膜时，光致变色膜才从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜。值得注意的是，当采用本实施例提供的显示基板的显示装置在显示暗态时，漏光现象比较明显，而在该显示装置显示亮态时，当设置光致变色膜的区域较小时，其对开口率的影响并不大。因此也可不设置触发光照强度。

例如，触发光照强度可设置为大于显示基板正常工作情况下透过显示基板的光的最大光照强度。需要说明的是，显示基板正常工作情况指的是采用本实施例提供的显示基板的显示装置正常工作的情况，即，显示装置正常显示画面，没有因取向膜划伤等原因导致的漏光等不良。由此，当采用本实施例提供的显示基板的显示装置在正常显示亮态的时候，即使有光照射到光致变色膜上，但由于此时照射到光致变色膜上的光的光照强度小于光致变色薄膜的触发光照强度，因此不能触发光致变色薄膜从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜。当该显示基板因取向膜划伤等原因导致的漏光等不良时，照射到光致变色膜上的光的光照强度大于光致变色膜的触发光照强度，从而使得光致变色膜从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜甚至透过率为零的膜，从而可迅速遮挡该区域的漏光。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，所述光致变色膜配置为受大于等于具有触发光照强度的光的照射后变为不透可见光的膜。例如，可将光致膜的厚度增加，从而使得光致变色膜受大于等于具有触发光照强度的光的照射后变为不透可见光的膜。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，光致变色膜在垂直于衬底基板的方向上的厚度为0.1-1μm。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，触发光照强度可通过调节光致变色膜中光致变色材料的浓度来调节。

需要说明的是，上述的相接是指防漏光部分在衬底基板上的投影的内侧边缘与待设置隔垫物的区域的外侧边缘相接，它们之间的间距为零；上述的至少部分重叠是指防漏光部分在衬底基板上的投影的内侧边缘落在待设置隔垫物的区域内。另外，上述的待设置隔垫物的区域与待设置的隔垫物具有相同的尺寸和形状。当隔垫物在沿垂直于阵列基板的方向上的尺寸和形状不一致时，以隔垫物与显示基板相接触的面的大小和尺寸为准。另外，隔垫物可设置在显示基板上，隔垫物也可设置在阵列基板上并与显示基板上待设置隔垫物的区域相接触；当隔垫物设置在显示基板上时，隔垫物可划伤阵列基板上的取向膜，当隔垫物设置在阵列基板上时，隔垫物可划伤显示基板上的取向膜；此两种情况均在本实施例的保护范围之中。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，如图4所示，光致变色膜305还可包括覆盖待设置隔垫物的区域310的部分。即，光致变色膜305为覆盖待设置隔垫物的区域310且包括防漏光区域3050的一个整体。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，如图4所示，光致变色膜305在衬底基板301的正投影与待设置隔垫物的区域310同心设置。例如，当待设置隔垫物的区域310为圆形时，光致变色膜305可为与待设置隔垫物的区域310同心设置的同心圆。当然，本发明实施例包括但不限于此，待设置隔垫物的区域可为正方形等其他规则或不规则形状。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，光致变色膜305在衬底基板301上的正投影与待设置隔垫物的区域310具有相同的形状。通过将光致变色膜305与待设置隔垫物的区域310的形状设置为相同可使得光致变色膜305的防漏光部分3050在从待设置隔垫物的区域310的中心到该区域所在平面的任意一点的方向上具有相同的宽度。由此，当采用本实施例提供的显示基板的显示装置因来自不同方向的外力导致隔垫物划伤取向膜时，本实施例提供的显示基板可保证在不同方向上具有相同的防漏光能力。

例如，如图5所示，本实施例一示例提供的显示基板还包括：取向膜309，取向膜309设置在衬底基板301上，光致变色膜305设置在衬底基板301和取向膜309之间。

例如，如图6所示，本实施例一示例提供的显示面板还包括设置在衬底基板与取向膜之间的彩色滤光图案，光致变色膜设置在彩色滤光图案靠近取向膜的一侧。由此，彩色滤光图案一方面可实现彩色显示的功能，另一方面因为环境光照射到光致变色膜需经过彩色滤光图案过滤，因此可防止因环境光触发光致变色膜的透过率降低。进一步地，本实施例的显示基板还可设置其他膜层以防止环境光误触发光致变色膜，例如偏光片等。

例如，如图6所示，本实施例一示例提供的显示基板还包括设置在衬底基板301和取向膜309之间的黑矩阵303，黑矩阵303覆盖待设置隔垫物的区域(图中衬底基板301上设置隔垫物210的区域)，光致变色膜305至少包括设置在黑矩阵303两侧的防漏光部分3050，防漏光部分3050在衬底基板301上的正投影与黑矩阵303在衬底基板301上的正投影相接或至少部分重叠。

例如，如图7所示，隔垫物210设置在黑矩阵303覆盖的范围内，当因外力等其他原因，阵列基板100和显示基板300发生位移后，取向膜109被隔垫物210划伤的区域失去了诱导液晶分子200进行定向排列的锚定功能。在取向膜被划伤的区域，发生漏光。如图8所示，采用本实施例提供的显示面板的显示装置的背光可穿过配向紊乱或异常的液晶分子200照射到光致变色膜305上。此时，光致变色膜305受到光照的部分可从具有高透射率的膜转变为具有低透射率的膜。并且，被光照射到的防漏光部分3050可在没有被黑矩阵遮挡区域对漏光进行有效地遮挡。由此，可针对性地在黑矩阵的两侧设置光致变色膜的防漏光部分以遮挡因隔垫物划伤取向膜而导致的漏光现象。当然，本发明实施例包括但不限于此，例如，光致变色膜还可包括覆盖黑矩阵的部分。

需要说明的是，由于光致变色膜只设置在黑矩阵的周围可减少光致变色膜的使用量。相对于直接加宽黑矩阵以遮挡因隔垫物划伤取向膜而导致的漏光，本实施例提供的显示基板中的光致变色膜可只在发生漏光的区域转变为低透过率的膜，而在没有发生漏光的区域，仍然保持高透过率，从而可避免因直接加宽黑矩阵带来的显示基板的开口率降低的问题。另外，当采用本实施例提供的显示基板的显示装置正常工作，没有发生漏光时，本实施例提供的显示基板不会降低显示基板的开口率。另一方面，本实施例提供的显示基板还可针对因黑矩阵对位不准导致漏光或曲面显示装置在弯曲过程中导致的黑矩阵错位导致的漏光，本发明实施例在此不作限制。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，防漏光部分的宽度为1-100μm。需要说明的是，当防漏光部分为围绕所述待设置隔垫物的区域的防漏光部分时，上述的宽度是指从待设置隔垫物的区域的中心到该区域所在平面的任意一点的方向上的宽度。当防漏光部分为设置在在黑矩阵两侧的防漏光部分时，上述的宽度是指在黑矩阵所在的平面内，垂直于黑矩阵延伸方向的方向上的宽度。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，光致变色膜的材料包括卤化银，需要说明是的是，光致变色膜的材料还可包括无机光致变色材料，例如三氧化钨或有机光致变色材料，例如螺吡喃类、二芳基乙烯类、偶氮苯类等。

例如，光致变色膜的材料包括溴化银。当受到光照射时，溴化银(卤化银的一种)发生分解，产生银原子。银原子能吸收可见光，当银原子聚集到一定数量或浓度时，照射在光致变色膜的光大部分被吸收，原来具有高透过率的膜这时就会转变成具有低透过率的膜，甚至黑色的膜。

如图8所示，具有卤化银材料的光致变色膜305设置在隔垫物210附近周边区域，当隔垫物210因外力引起附近区域的取向膜109划伤时，此区域的液晶分子200失去光阀功能，背光的强光照射到卤化银后，发生相应的化学反应，形成银黑色粉末，遮挡该区域的漏光。而在取向膜109未被隔垫物210的区域，液晶分子的光阀功能正常，不激发卤化银的化学反应，仍可以正常显示。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，所述光致变色膜配置为受小于具有触发光照强度的光的照射后所述光致变色膜的透过率可恢复。例如，当光致变色膜材料包括溴化银时，如图9所示，当光致变色膜没有收到光照时，银原子和溴原子又会结合成溴化银，因为银离子不吸收可见光，于是，光致变色膜又可从具有低透过率的膜转变为具有高透过率的膜，即透过率增加。需要说明的是，在一些隔垫物划伤取向膜的情况下，取向膜并非永久损伤，由于取向膜自身的弹性恢复力等原因，取向膜可在损伤后一段时间恢复诱导液晶分子定向排列分布的锚定功能。此时，本实施例提供的显示基板中的光致变色膜可恢复到具有高透过率的膜，从而可使显示基板的开口率跟损伤前保持一致。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，光致变色膜还可包括催化剂，以加快光致变色膜的反应速率。例如，当光致变色膜材料包括溴化银时，当光致变色膜没有收到光照时，催化剂(例如氧化铜)可加快银原子和溴原子结合成溴化银的速率，从而快速恢复到低透过率或透明状态。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，催化剂可包括氧化铜。

实施例二

本实施例提供一种显示基板的制作方法，如图10所示，该显示基板的制作方法包括步骤S210-S220。

步骤S210：在衬底基板上形成光致变色材料。

例如，采用磁控溅射工艺在衬底基板上沉积光致变色材料。

步骤S220：图案化光致变色材料以形成具有预定图案的光致变色膜，光致变色膜配置为受光照射后从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜。

例如，图案化光致变色材料以形成具有预定图案的光致变色膜包括：在光致变色材料上涂覆光刻胶，例如，光刻胶的厚度可为1-3μm；使用掩膜板对光刻胶进行曝光显影以形成光刻胶图案；通过刻蚀工艺去除不需要的光致变色材料；以及去除光刻胶图案。

在本实施例提供的显示基板的制作方法中，光致变色膜受到光照后可从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜，即透过率降低。由此，当采用本实施例提供的显示基板的制作方法制作的显示基板的显示装置因各种异常(例如隔垫物划伤取向膜)而导致漏光时，可通过设置在显示基板中的光致变色膜迅速转变为具有低透过率的膜甚至透过率为零的膜以防止漏光射出显示基板，提高显示的可靠性。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，光致变色膜可具有触发光照强度，当光致变色膜受到大于等于具有触发光照强度的光的照射后可从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜，触发光照强度可设置为大于显示基板正常工作情况下透过显示基板的光的最大光照强度。其具体的效果说明可参见实施例一中的相关描述，在此不再赘述。

例如，在本实施例提供一中显示基板的制作方法中，所述光致变色膜配置为受大于等于具有触发光照强度的光的照射后变为不透可见光的膜。

例如，可通过控制沉积在衬底基板上沉积光致变色材料的浓度来实现对触发光照强度的控制。

例如，在本实施例提供一中显示基板的制作方法中，如图4所示，衬底基板301包括待设置隔垫物的区域310，光致变色膜305至少包括围绕所述待设置隔垫物的区域310的防漏光部分3050，防漏光部分3050在衬底基板301上的正投影与待设置隔垫物的区域310相接或至少部分重叠。由于光致变色薄膜305设置在待设置隔垫物的区域310的周围，从而可针对性地遮挡因隔垫物划伤取向膜而导致的漏光现象。并且，由于光致变色膜305只设置在待设置隔垫物的区域310的周围，可减少光致变色膜305的使用量，减少成本。当然，本发明实施例包括但不限于此，例如，光致变色膜可设置在整个显示基板上，从而应对整张面板上可能发生的漏光问题。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，光致变色膜305还可包括覆盖待设置隔垫物310的区域的部分。

例如，如图6所示，本实施例一示例提供的显示基板的制作方法还包括：在衬底基板301上形成黑矩阵303，黑矩阵303覆盖待设置隔垫物的区域，光致变色膜305至少包括设置在黑矩阵303两侧的防漏光部分3050，防漏光部分3050在衬底基板301上的正投影与黑矩阵303在衬底基板301上的正投影相接或至少部分重叠。由于隔垫物通常设置在黑矩阵覆盖的范围内，因此可针对性地在黑矩阵的两侧设置光致变色膜的防漏光部分以遮挡因隔垫物划伤取向膜而导致的漏光现象。当然，本发明实施例包括但不限于此，例如，光致变色膜还可包括覆盖黑矩阵的部分。其具体效果说明参见实施例一中的相关描述，在此不再赘述。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板的制作方法中，防漏光部分的宽度为1-100μm。

例如，如图6所示，本实施例一示例提供的显示基板的制作方法还包括：在:衬底基板301上形成取向膜309；以及在衬底基板301上形成彩色滤光图案302，光致变色膜305形成在彩色滤光图案302靠近取向膜309的一侧。由此，彩色滤光图案302一方面可实现彩色显示的功能，另一方面因为环境光照射到光致变色膜305需经过彩色滤光图案302的过滤，因此可防止因环境光触发光致变色膜305从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜。进一步地，本实施例提供的显示基板的制作方法还可包括：在衬底基板上形成其他膜层以防止环境光误触发光致变色膜，例如偏光片等。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板的制作方法中，光致变色膜在垂直于衬底基板的方向上的厚度为0.1-1μm。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板的制作方法中，光致变色膜的材料包括卤化银。

例如，光致变色膜的材料包括溴化银。当受到光照射时，溴化银(卤化银的一种)发生分解，产生银原子。银原子能吸收可见光，当银原子聚集到一定数量或浓度时，照射在光致变色膜的光大部分被吸收，原来具有高透过率的膜这时就会转变成具有低透过率的膜。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板的制作方法中，所述光致变色膜配置为受小于具有触发光照强度的光的照射后所述光致变色膜的透过率可恢复。例如，当光致变色膜材料包括溴化银时，如图9所示，当光致变色膜没有收到光照时，银原子和溴原子又会结合成溴化银，因为银离子不吸收可见光，于是，光致变色膜又可从具有低透过率的膜转变为具有高透过率的膜，即透过率提高。其具体的效果说明可参见实施例一中的相关描述，在此不再赘述。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，光致变色膜还可包括催化剂，以加快光致变色膜的反应速率。例如，当光致变色膜材料包括溴化银时，当光致变色膜没有收到光照时，催化剂(例如氧化铜)可加快银原子和溴原子结合成溴化银的速率，从而快速恢复到低透过率或透明状态。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，催化剂可包括氧化铜。

实施例三

本实施例提供一种显示装置，如图6所示，该显示装置包括阵列基板100，阵列基板100包括取向膜109；对置基板300，对置基板300与阵列基板100对盒设置；以及液晶分子200，液晶分子200设置在阵列基板100和对置基板300之间，对置基板300可为上述实施例一中任一项的显示基板，且上述对置基板设置在显示装置的出光侧。显示基板300的取向膜309与阵列基板100的取向膜109配置为诱导液晶分子200定向排布。

在本实施例提供的显示装置中，光致变色膜受到光照后可从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜。由此，本实施例提供的显示装置因各种异常(例如隔垫物划伤取向膜)而导致漏光时，可通过设置在显示基板中的光致变色膜迅速转变为具有低透过率的膜甚至透过率为零的膜以防止漏光射出显示装置，及时避免漏光现象的发生，从而可提高显示的可靠性。

例如，在本实施例一示例提供的显示装置中，光致变色膜可具有触发光照强度，当光致变色膜受到大于等于具有触发光照强度的光的照射后透过率降低。由此，可根据需要对光致变色膜进行设置，只有当光照强度大于触发光照强度的光照射光致变色膜时，光致变色膜才从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜。

例如，触发光照强度可设置为大于显示装置正常工作情况下透过显示装置的光的最大光照强度。

例如，图11是一种液晶在取向膜正常和异常区域的透过率与驱动电压的曲线示意图。如图11所示，在取向膜功能正常的区域，例如，取向膜没有被划伤的区域，随着液晶的驱动电压的上升，显示装置的亮度从L0上升到L255，而液晶对应的光透过率从0％上升到30％。然而，在取向膜异常的区域，例如，取向膜被划伤，失去诱导液晶进行定向排列的锚定功能的区域，液晶完全陷入紊乱的状态，失去光阀调控功能。此时，液晶的透过率可达到90％以上，背光源的强光可以几乎完全穿透排布紊乱的液晶层，照射到光致变色膜上。由此，可将触发光照强度可设置为大于显示装置正常工作情况下透过显示装置的光的最大光照强度L255。在显示装置正常工作的情况下，光致变色膜并不会从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜，不会影响正常显示并且不会降低开口率；而当显示装置因取向膜被划伤而产生漏光时，照射到光致变色膜上的光的光照强度超过了显示装置正常工作情况下的最大亮度，光致变色膜从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜，从而遮挡住漏光，提高显示的可靠性和稳定性。另外，由于光致变色膜只是在发生漏光的区域才从具有高透过率的膜转变为具有低透过率的膜，开口率的损失也相对较小。

例如，在本实施例一示例提供的显示装置中，如图6所示，阵列基板100和显示基板300之间还设置有隔垫物210，隔垫物210支撑由阵列基板100和显示基板300形成的液晶盒，并维持液晶盒的盒厚均一。光致变色膜305至少包括围绕衬底基板301上设置隔垫物210的区域的防漏光部分3050，例如，防漏光部分3050可围绕隔垫物210的区域一周，防漏光部分3050在衬底基板301上的正投影与设置隔垫物210的区域相接或至少部分重叠。由于光致变色薄膜305设置在衬底基板301上设置隔垫物210的区域的周围，从而可针对性地遮挡因隔垫物划伤取向膜而导致的漏光现象。并且，由于光致变色膜305只设置在设置隔垫物210的区域的周围，可减少光致变色膜305的使用量，减少成本。当然，本发明实施例包括但不限于此，例如，光致变色膜可设置在整个显示基板上，从而应对整张面板上可能发生的漏光问题。

例如，如图6所示，隔垫物可为柱状隔垫物。

需要说明的是，上述的相接是指防漏光部分在衬底基板上的投影的内侧边缘与待设置隔垫物的区域的外侧边缘相接，它们之间的间距为零；上述的至少部分重叠是指防漏光部分在衬底基板上的投影的内侧边缘落在待设置隔垫物的区域内。另外，上述的待设置隔垫物的区域与待设置的隔垫物具有相同的尺寸和形状。当隔垫物在沿垂直于阵列基板的方向上的尺寸和形状不一致时，以隔垫物与显示基板相接触的面的大小和尺寸为准。另外，隔垫物可设置在显示基板上，隔垫物也可设置在阵列基板上并与显示基板上待设置隔垫物的区域相接触；当隔垫物设置在显示基板上时，隔垫物可划伤阵列基板上的取向膜，当隔垫物设置在阵列基板上时，隔垫物可划伤显示基板上的取向膜；此两种情况均在本实施例的保护范围之中。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，如图6所示，光致变色膜305还可包括覆盖隔垫物210的部分。即，光致变色膜305为覆盖隔垫物210且包括防漏光区域3050的一个整体。

例如，在本实施例一示例提供的显示基板中，由于隔垫物通常设置在黑矩阵覆盖的范围内，因此可针对性地在黑矩阵的两侧设置光致变色膜的防漏光部分以遮挡因隔垫物划伤取向膜而导致的漏光现象。其具体设置情况和位置关系可参见实施例一中相关的描述，在此不再赘述。

以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (18)

1.一种显示基板，包括：

衬底基板，所述衬底基板包括待设置隔垫物的区域；以及

光致变色膜，所述光致变色膜设置在所述衬底基板上，并配置为受光照射后透过率降低，所述光致变色膜至少包括设置为围绕所述待设置隔垫物的区域的防漏光部分，所述防漏光部分在所述衬底基板上的正投影与所述待设置隔垫物的区域相接或至少部分重叠。

2.如权利要求1所述的显示基板，其中，所述光致变色膜具有触发光照强度，所述光致变色膜配置为受大于等于具有触发光照强度的光的照射后透过率降低，所述触发光照强度大于所述显示基板正常工作情况下透过所述显示基板的光的最大光照强度。

3.如权利要求2所述的显示面板，其中，所述光致变色膜配置为受小于具有触发光照强度的光的照射后所述光致变色膜的透过率可恢复。

4.如权利要求2所述的显示基板，其中，所述光致变色膜配置为受大于等于具有触发光照强度的光的照射后变为不透可见光的膜。

5.如权利要求1所述的显示基板，其中，所述光致变色膜在所述衬底基板的正投影具有与所述待设置隔垫物的区域相同的形状。

6.如权利要求1所述的显示基板，其中，所述光致变色膜在所述衬底基板的正投影与所述待设置隔垫物的区域同心设置。

7.如权利要求1所述的显示基板，还包括：黑矩阵，所述黑矩阵覆盖所述待设置隔垫物的区域，所述光致变色膜至少包括设置在所述黑矩阵两侧的防漏光部分，所述防漏光部分在所述衬底基板上的正投影与所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影相接或至少部分重叠。

8.如权利要求1-7任一项所述的显示基板，其中，所述防漏光部分的宽度为1-100μm。

9.如权利要求1-7任一项所述的显示基板，其中，所述光致变色膜的材料包括卤化银。

10.如权利要求9所述的显示基板，其中，所述光致变色膜还包括催化剂。

11.如权利要求1-7任一项所述的显示基板，其中，所述光致变色膜的厚度为0.1-1μm。

12.如权利要求1-7任一项所述的显示基板，还包括：取向膜，所述取向膜设置在所述衬底基板上，所述光致变色膜设置在所述衬底基板和所述取向膜之间。

13.如权利要求12任一项所述的显示基板，还包括：彩色滤光图案，其中，所述彩色滤光图案设置在衬底基板与所述取向膜之间，所述光致变色膜设置在所述彩色滤光图案靠近所述取向膜的一侧。

14.一种显示基板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成光致变色材料；以及

图案化所述光致变色材料以形成具有预定图案的光致变色膜，

其中，所述光致变色膜配置为受光照射后透过率降低，所述衬底基板包括待设置隔垫物的区域，所述光致变色膜至少包括设置为围绕所述待设置隔垫物的区域的防漏光部分，所述防漏光部分在所述衬底基板上的正投影与所述待设置隔垫物的区域相接或至少部分重叠。

15.如权利要求14所述的显示基板的制作方法，其中，所述光致变色膜具有触发光照强度，所述光致变色膜配置为受大于等于具有触发光照强度的光的照射后透过率降低，所述触发光照强度大于所述显示基板正常工作情况下透过所述显示基板的光的最大光照强度。

16.如权利要求15所述的显示基板的制作方法，还包括：

在所述衬底基板上形成黑矩阵，所述黑矩阵覆盖所述待设置隔垫物的区域，

其中，所述光致变色膜至少包括设置在所述黑矩阵两侧的防漏光部分，所述防漏光部分在所述衬底基板上的正投影与所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影相接或至少部分重叠。

17.如权利要求14-16任一项所述的显示基板的制作方法，还包括：

在所述衬底基板上形成取向膜；以及

在所述衬底基板上形成彩色滤光图案，

其中，所述光致变色膜形成在所述彩色滤光图案靠近所述取向膜的一侧。

18.一种显示装置，包括：

阵列基板，所述阵列基板包括取向膜；

显示基板，所述显示基板与所述阵列基板对盒设置，且所述显示基板设置在显示装置的出光侧；以及

液晶层，所述液晶层设置在所述阵列基板和所述显示基板之间，

其中，所述显示基板包括上述权利要求1-13任一项所述的显示基板。