JP2017500613A

JP2017500613A - 液晶表示装置及びその製造方法

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Publication number: JP2017500613A
Application number: JP2016542712A
Authority: JP
Inventors: 勇趙; ▲しん▼ 張; 水池連
Original assignee: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd; TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Current assignee: TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date: 2013-12-31
Filing date: 2014-01-08
Publication date: 2017-01-05
Also published as: WO2015100765A1; US20150219968A1; GB2535942A; US9229278B2; GB201610680D0; RU2016125807A; CN103728782A; GB2535942B; RU2664289C1; KR20160106105A

Abstract

【課題】本発明は、液晶表示装置及びその製造方法を開示する。【解決手段】前記液晶表示装置は、第１電極層と前記第１電極層を被覆する第１配向層を有し、ガラス基板とパッシベーション層との間にカラーフィルム層が形成され、さらにブラックマトリクスとフォトスペーサが設置されているＴＦＴアレイ基板と、第２電極層と前記第２電極層を被覆する第２配向層を有するＣＦ基板と、前記ＴＦＴアレイ基板の第１配向層と前記ＣＦ基板の第２配向層との間に設置される液晶層と、を含み、前記第１配向層と前記第２配向層に対応する配向領域の所定の配向方向は互いに直交し、前記第１配向層と前記第２配向層には各配向領域に対応する所定の配向方向を有する配向フィルムが形成されている。本発明を実施することにより、配向効果が良好であり、広視野角の色ずれを改善し開口率を向上することができる。【選択図】なし

Description

本発明は、薄膜トランジスタ液晶表示装置（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒｌｉｑｕｉｄｃｒｙｓｔａｌｄｉｓｐｌａｙ、ＴＦＴ−ＬＣＤ）の製造分野に関し、特に液晶表示装置及びその製造方法に関する。
本願は、２０１３年１２月３１日に中国専利局に提出された、出願番号２０１３１０７４７９７９．４、発明名称「液晶表示装置及びその製造方法」である中国特許出願の優先権を主張し、上記特許の全ての内容は本願に引用される。

図１は、従来のＰＳＶＡモード（高分子安定化垂直配向、ＰｏｌｙｍｅｒＳｔａｂｉｌｉｚａｔｉｏｎＶｅｒｔｉｃａｌ−Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の液晶表示装置によく用いられている画素電極を示す図であり、図に画素電極が示されている。従来のこのようなＰＳＶＡモードの液晶表示装置において、その画素電極は「米」字型に設計され、中央の垂直主幹部８０、水平主幹部８１及びｘ軸との夾角が±４５度、±１３５度である分岐部８２の３つの部分で構成される。垂直主幹部８０と水平主幹部８１は画素面積を均等に４つの領域に分割し、各領域はいずれも斜め方向４５度の分岐部８２により平らに敷かれ構成される。

図２は、図１の画素電極に対し電圧を印加した後の液晶が倒れる方向を示す図であり、図２は図１の画素電極に対し４Ｖの電圧を印加した後、液晶分子９０が画素電極の外側から徐々に内側へ倒れることを示す。倒れる角度は切欠き方向に沿い（すなわち、分岐部８２に沿う方向、図の矢印方向に示すように）、４つの領域の液晶が倒れる方向はそれぞれ±４５度、±１３５度であり、いずれも画素の中央領域を向く。上記の図に示すように、液晶が倒れる方向とｘ軸との夾角は、第１象限において−１３５度であり、第２象限において−４５度であり、第３象限において４５度であり、第４象限において１３５度である。従来のＰＳＶＡの製造工程は画素電極を「米」字型に設計することにより液晶分子の配向を制御し、さらに、広視野角の色ずれ問題を改善する。

しかし、従来のこのような方式は電極設計に強く依存し、表示領域において明らかな明暗の縞模様を発生し、そのため、光線の透過率を低減し、よって表示の効果と輝度に影響を与える。

本発明が解決しようとする技術的課題は、配向効果が良好であり、且つ広視野角の色ずれを改善し開口率を向上することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することである。

本発明は、上記技術的課題を解決するために、第１電極層と前記第１電極層を被覆する第１配向層を有し、ガラス基板とパッシベーション層との間にカラーフィルム層が形成され、さらにブラックマトリクスとフォトスペーサが設置されているＴＦＴアレイ基板と、第２電極層と前記第２電極層を被覆する第２配向層を有するＣＦ基板と、前記ＴＦＴアレイ基板の第１配向層と前記ＣＦ基板の第２配向層との間に設置される液晶層と、を含む液晶表示装置を提供し、前記第１配向層と前記第２配向層はいずれも少なくとも１つの分割領域に分けられ、各分割領域は複数の配向領域に分けられ、前記第１配向層と前記第２配向層に対応する配向領域の所定の配向方向は互いに直交し、前記第１配向層と前記第２配向層の各配向領域に対しそれぞれ異なる方向の直線偏光を採用して照射し、前記各配向領域に対して照射した直線偏光の偏光方向は前記配向方向と互いに適応し、よって、前記第１配向層と前記第２配向層に各配向領域に対応する所定の配向方向を有する配向フィルムを形成する。

前記ＴＦＴアレイ基板は、さらに、ガラス基板、ゲート線、半導体層及びデータ線を含む。

前記ブラックマトリクスは、前記ＴＦＴアレイ基板のパッシベーション層の上に設置され、又は前記ＴＦＴアレイ基板のガラス基板の上、ゲート線の下に設置され、又は前記ＴＦＴアレイ基板のガラス基板の上、ゲート線の両側に設置され、又は前記ＴＦＴアレイ基板のカラーフィルム層とデータ線との間に設置される。

前記フォトスペーサは、前記ブラックマトリクスの上に設置され、又は前記ＴＦＴアレイ基板のパッシベーション層の上に設置される。

前記カラーフィルム層の材料は、オセイン、アクリル、ポリイミド及びポリエステルのいずれかを含む。

前記各分割領域は、２本の互いに直交する区切り線により４つの配向領域に分けられ、前記４つの配向領域における少なくとも２つの配向領域の所定の配向方向は異なる。

前記第１電極層は画素電極層であり、前記第２電極層は共通電極層である。

本発明は、さらに、第１電極層と前記第１電極層を被覆する第１配向層を有し、ガラス基板とパッシベーション層との間にカラーフィルム層が形成され、さらにブラックマトリクスとフォトスペーサが設置されているＴＦＴアレイ基板と、第２電極層と前記第２電極層を被覆する第２配向層を有するＣＦ基板と、前記ＴＦＴアレイ基板の第１配向層と前記ＣＦ基板の第２配向層との間に設置される液晶層と、を含む液晶表示装置を提供し、前記第１配向層と前記第２配向層はいずれも少なくとも１つの分割領域に分けられ、それぞれの分割領域は複数の配向領域に分けられ、前記第１配向層と前記第２配向層に対応する配向領域の所定の配向方向は互いに直交し、前記各分割領域は２本の互いに直交する区切り線により４つの配向領域に分けられ、前記４つの配向領域における少なくとも２つの配向領域の所定の配向方向は異なり、前記第１配向層と前記第２配向層の各配向領域に対しそれぞれ異なる方向の直線偏光を採用して照射し、前記各配向領域に対して照射した直線偏光の偏光方向は前記配向方向と互いに適応し、よって、前記第１配向層と前記第２配向層に各配向領域に対応する所定の配向方向を有する配向フィルムを形成する。

本発明は、さらに、
ＴＦＴアレイ基板とＣＦ基板を提供し、ＴＦＴアレイ基板のガラス基板とパッシベーション層との間にカラーフィルム層を形成し、前記ＴＦＴアレイ基板の第１電極層に偏光感受性材料を塗布して第１配向層を形成し、前記ＣＦ基板の第２電極層に偏光感受性材料を塗布して第２配向層を形成するステップと、
前記第１配向層と前記第２配向層をいずれも少なくとも１つの、複数の配向領域を含み、前記第１配向層と前記第２配向層に対応する配向領域の所定の配向方向は互いに直交する分割領域に分割するステップと、
前記第１配向層と前記第２配向層の各配向領域に対しそれぞれ異なる方向の、偏光方向が前記配向方向に適応する直線偏光を採用して照射し、よって、前記第１配向層と前記第２配向層に各配向領域に対応する所定の配向方向を有する配向フィルムを形成するステップと、
前記ＴＦＴアレイ基板における第１電極層とＣＦ基板における第２電極層に通電させ、液晶セルにおける液晶分子を配向させるステップと、
ブラックマトリクスを前記ＴＦＴアレイ基板に設置するステップ、及び
フォトスペーサを前記ＴＦＴアレイ基板に設置するステップと、を含む液晶表示装置の製造方法を提供する。

ブラックマトリクスをＴＦＴアレイ基板のパッシベーション層の上に設置し、又はＴＦＴアレイ基板のガラス基板の上、ゲート線の下に設置し、又はＴＦＴアレイ基板のガラス基板の上、ゲート線の両側に設置し、又はＴＦＴアレイ基板のカラーフィルム層とデータ線との間に設置する。

フォトスペーサを前記ブラックマトリクスの上に設置し、又は前記ＴＦＴアレイ基板のパッシベーション層の上に設置する。

本発明を実施することにより、以下のような好適な効果を得られる。
第１は、本発明の実施例において、ＴＦＴアレイ基板の第１配向層とＣＦ基板の第２配向層に対し異なる方向の直線偏光を採用して照射することにより、特定の配向方向の配向層を形成し、画素電極に対する特別な設計を行う必要なく、従来技術における画素電極による明暗の縞模様を回避することができ、よって、光線の透過率を向上させることができる。

第２は、本発明の実施例において、第１配向層の各分割領域における各配向領域の所定の配向方向、及び第２配向層の各分割領域における各配向領域の所定の配向方向をいずれも柔軟に設置することができ、液晶セルの各画素構造における４つの領域の配向を柔軟に実現することができ、同時に広視野角の色ずれを改善することができる。

第３は、ＴＦＴアレイ基板にブラックマトリクスを設置することにより、ＴＦＴアレイ基板とＣＦ基板との間の位置ずれによる画素領域の開口率が減少する問題を防止することができる。

第４は、フォトスペーサをＴＦＴアレイ基板に設置することにより、ＴＦＴアレイ基板とＣＦ基板との間の位置ずれによる画素領域の暗線を防止し、配向不良を回避することができる。

第５は、適切なカラーフィルム材料を選択することにより、カラーフィルム層を絶縁層として機能させることができ、よって、一般的にカラーフィルム層の上下表面に設置される絶縁層を除去し、コストを削減し生産能力を向上させる効果に達する。

本発明の実施例又は従来技術における技術的解決手段をより明確に説明するために、以下、実施例又は従来技術の説明に使用される図面を簡単に説明する。言うまでもなく、下記説明における図面は本発明の幾つかの実施例に過ぎず、当業者にとって、創造的な労働を付しない前提で、さらにこられの図面に基づきその他の図面を獲得することができる。

従来のＰＳＶＡモードの液晶表示装置の画素電極を示す図である。図１の画素電極に対し電圧を印加した後の液晶が倒れる方向を示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の一実施例における画素構造を示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の一実施例における図３のＡ−Ａ方向の断面図である。本発明により提供される液晶表示装置の配向原理の説明における実施例１に係るＴＦＴアレイ基板の分割領域を示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の配向原理の説明における実施例１に係るＣＦ基板の分割領域を示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の配向原理の説明における実施例１に係るＣＦ基板に対して直線偏光を照射することを示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の配向原理の説明における実施例１に係る液晶配向結果を示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の配向原理の説明における実施例２に係るＴＦＴアレイ基板の分割領域を示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の配向原理の説明における実施例２に係るＣＦ基板の分割領域を示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の配向原理の説明における実施例２に係る液晶配向結果を示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の配向原理の説明における実施例３に係るＴＦＴアレイ基板の分割領域を示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の配向原理の説明における実施例３に係るＣＦ基板の分割領域を示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の配向原理の説明における実施例３に係る液晶配向結果を示す図である。本発明により提供される液晶表示装置の別の実施例の断面図である。本発明により提供される液晶表示装置のもう一つの実施例の断面図である。本発明により提供される液晶表示装置の製造方法のメインプロセスを示す図である。

以下、図面を参照しながら各実施例を説明し、本発明の実施可能な具体的な実施例を例示する。本発明に言及される方向用語、例えば、「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、「内」、「外」、「側面」などは、図面を参照する方向に過ぎない。そのため、使用される方向用語は本発明を説明し理解させるためのものであり、本発明を限定するものではない。

図３及び図４は本発明により提供される液晶表示装置の一実施例の構成図であり、該液晶表示装置は、
第１電極層１５と第１電極層１５を被覆する第１配向層１９を有し、ガラス基板１１とパッシベーション層１８０との間にカラーフィルム層１８が形成され、さらにブラックマトリクス（ＢｌａｃｋＭａｔｒｉｘ）２２とフォトスペーサ３０が設置されているＴＦＴアレイ基板１と、
第２電極層２４と第２電極層２４を被覆する第２配向層２９を有するＣＦ（ＣｏｌｏｒＦｉｌｔｅｒ、カラーフィルム）基板２と、
ＴＦＴアレイ基板１の第１配向層１９とＣＦ基板２の第２配向層２９との間に設置される液晶層３と、を含み、
第１配向層１９と第２配向層２９はいずれも少なくとも１つの分割領域に分けられ、それぞれの分割領域は複数の配向領域に分けられ、第１配向層１９と第２配向層２９に対応する配向領域の所定の配向方向は互いに直交し、
第１配向層１９と第２配向層２９の各配向領域に対し、それぞれ異なる方向の、偏光方向が配向方向と互いに適応する直線偏光を採用して照射し、よって、第１配向層１９と第２配向層２９に各配向領域に対応する所定の配向方向を有する配向フィルムを形成する。

以下、具体的な実施例に合わせて、まず上記第１配向層と第２配向層の配向原理及び過程を説明する。

図５〜図８は、本発明の実施例１を示す。該実施例において、図５に示すように、ＴＦＴアレイ基板１の第１配向層をさらに複数の配向領域１００を含む複数の分割領域１０に分割し、図５において、各分割領域１０は２本の互いに直交する区切り線により４つの配向領域１００（図には１つの分割領域１０が４つの配向領域に分割されたことのみを示したが、ここでは一例に過ぎない）に分けられ、各配向領域１００にはいずれも１つの配向方向が設定され（図の矢印参照）、１つの分割領域１０において、少なくとも２つの配向領域１００の所定の配向方向が異なり、左側の２つの配向領域１００の所定の配向方向は上向きであり、右側の２つの配向領域１００の所定の配向方向は下向きである。

同様に、図６に示すように、ＣＦ基板２の第２配向層をさらに複数の配向領域２００を含む複数の分割領域２０に分割し、図６において、各分割領域２０は２本の互いに直交する区切り線により４つの配向領域２００に分けられ、各配向領域２００にはいずれも１つの配向方向が設定され（図の矢印参照）、１つの分割領域２０において、少なくとも２つの配向領域２００の所定の配向方向は異なり、上側の２つの配向領域２００の所定の配向方向は右向きであり、下側の２つの配向領域２００の所定の配向方向は左向きである。

第１配向層の各配向領域１００と第２配向層に対応する各配向領域２００の所定の配向方向は互いに直交する。

図７は直線偏光を利用して基板を照射することを示す図である。該直線偏光は紫外線（ＵＶ）を採用し、図７は、紫外線が図６におけるＣＦ基板２の第２配向層のうちの１つの分割領域２０の下側の配向領域２００を照射する場合を示す。矢印方向は直線偏光の照射方向であり、その上の黒色の横線は直線偏光の偏光方向を示し、この実施例において、直線偏光の偏光方向と第２配向層の分割領域２０の下側の配向領域２００の所定の配向方向が適応すること（例えば、同一）を保証しなければならず、よって、直線偏光を照射することにより、該配向領域２００に所定の配向方向を有する配向フィルムを形成させることができる。

同様に、第２配向層に所定の配向方向を有する配向フィルムを形成させるために、その他の異なる方向の直線偏光を採用して第２配向層の各分割領域２０におけるその他の配向領域２００を照射しなければならず、同時に、第１配向層に所定の配向方向を有する配向フィルムを形成させるために、直線偏光を採用して第１配向層の各分割領域１０の各配向領域１００を照射しなければならない。

図８は、本発明により提供される液晶表示装置における実施例１に係る液晶配向結果を示す図である。配向フィルムを形成した後、ＴＦＴアレイ基板における第１電極とＣＦ基板における第２電極に通電させるステップにより、液晶セルにおける液晶分子を配向させる。第１配向層の各配向領域１００と対応する第２配向層の各配向領域２００の所定の配向方向は直交するため、第１配向層と第２配向層の作用下、液晶セルの各配向領域に対応する液晶分子を倒れるようにし、配向を完了させることができる。図８は図５と図６における１つの分割領域に対応する液晶分子の配向を示す図である。最終的に、第３象限における液晶分子はＸ軸とａ度の角を形成し、第１象限における液晶分子はＸ軸と−ａ度の角を形成し、第２象限における液晶分子はＸ軸と（ａ−１８０）度の角を形成し、第４象限における液晶分子はＸ軸と（１８０−ａ）度の角を形成し、よって、広視野角の色ずれ問題を改善することができる。その他の分割領域における液晶分子の配向はこれに類似する。
図９〜図１１は本発明の実施例２を示す。該実施例において、ＴＦＴアレイ基板１の第１配向層の１つの分割領域１０において、その上側の２つの配向領域１００の所定の配向方向は下向きであり、下側の２つの配向領域１００の所定の配向方向は上向きである。ＣＦ基板２の第２配向の対応する分割領域２０において、その右側の２つの配向領域２００の所定の配向方向は左向きであり、左側の２つの配向領域２００の所定の配向方向は右向きである。最終的に、液晶表示装置の対応する領域の液晶分子は、配向が完了した後、いずれも中心位置（図１１参照）を向かい、第１象限における液晶分子はＸ軸とｃ角度を形成する。

図１２〜図１４は本発明の実施例３を示す。該実施例において、ＴＦＴアレイ基板１の第１配向層の１つの分割領域１０において、その右側の２つの配向領域１００の所定の配向方向は右向きであり、左側の２つの配向領域１００の所定の配向方向は左向きである。ＣＦ基板２の第２配向の対応する分割領域２０において、その上側の２つの配向領域２００の所定の配向方向は上向きであり、下側の２つの配向領域２００の所定の配向方向は下向きである。最終的に、液晶表示装置の対応する領域の液晶分子は、配向が完了した後、いずれも中心位置（図１４参照）から離れる方向に向かい、第１象限における液晶分子はＸ軸とｂ角度を形成する。

上記から分かるように、上記３つの実施例は例示的なものに過ぎず、本発明のその他の実施例において、第１配向層の各分割領域における各配向領域の所定の配向方向は、さらに必要に応じて調整することができ、同様に、それに対応する第２配向層における配向領域の所定の配向方向は、適応的に変えることができる。

一実施例において、第１電極層１５は画素電極層であり、第２電極層２４は共通電極層である。配向層の各分割領域の大きさをＴＦＴアレイ基板１の１つの画素構造の大きさと位置に対応させることができる。

以下、さらに本発明により提供される液晶表示装置の構造を具体的に説明する。図３と図４に示すように、該ＴＦＴアレイ基板１は、さらに、ガラス基板１１及び該ガラス基板１１に設置されるゲート線１３と共通電極１４を含む。

ゲート線１３の上方にはさらに半導体層１７が設置され、半導体層１７にはドレイン電極とソース電極を形成するためのデータ線１２が設置され、その後、その上にはパッシベーション層１８０が設置され、パッシベーション層１８０には画素電極１５が形成され、第１配向層１９は画素電極１５の上に設置される。

液晶セル（液晶層）の上下表面の平坦化を実現するために、カラーフィルム層１８をＴＦＴアレイ基板１のガラス基板１１とパッシベーション層１８０との間に設置しなければならない。適切なカラーフィルム材料を選択することにより、カラーフィルム層１８を絶縁層として機能させることができ、よって、一般的にカラーフィルム層１８の上下表面に設置される絶縁層を除去し、コストを低減し生産能力を向上させる効果に達する。カラーフィルム材料は、オセイン、アクリル、ポリイミド、ポリエステルなどを含む。

ＣＦ基板２は、具体的に、ガラス基板２１、及びガラス基板２１の上に被覆される共通電極層２４を含み、第２配向層２９は共通電極層２４の上に設置される。
液晶層３は、具体的に液晶分子（図示せず）及びフォトスペーサ３０を含む。
本発明において、ＴＦＴアレイ基板１とＣＦ基板２との間の位置ずれによる画素領域の開口率が減少する問題を防止するために、ＴＦＴアレイ基板にブラックマトリクス２２が設置されている。

図４に示すように、本実施例において、ブラックマトリクス２２をＴＦＴアレイ基板１のパッシベーション層１８０の上に設置し、ＣＦ基板２にはブラックマトリクスを設置しない。

図１５は本発明により提供される液晶表示装置の別の実施例の断面図である。該実施例と図４に示す実施例との主な違いは、本実施例において、ブラックマトリクス２２をＴＦＴアレイ基板１のガラス基板１の上、ゲート線１３の下に設置し、ＣＦ基板２にはブラックマトリクスを設置しないことであり、その他の構造は図４に示す実施例と同じく、ここで詳細な説明を省略し、図４に対する説明を参照することができる。

図１６は本発明により提供される液晶表示装置のもう一つの実施例の断面図である。該実施例と図４に示す実施例との主な違いは、本実施例において、ブラックマトリクス２２をＴＦＴアレイ基板１のガラス基板１の上、ゲート線１３の両側に設置し、ＣＦ基板２にはブラックマトリクスを設置しないことであり、その他の構造は図４に示す実施例と同じく、ここで詳細な説明を省略し、図４に対する説明を参照することができる。

上記から分かるように、その他の実施例において、さらに必要に応じてブラックマトリクス２２をＴＦＴアレイ基板１のその他の位置に設置することができ、例えば、ブラックマトリクス２２をＴＦＴアレイ基板１のカラーフィルム層１８とデータ線１２との間に設置することができる。設置する位置は前記説明を参照することができ、同じ効果を達成することもできるため、ここで詳細な説明を省略する。

さらに、図４、図１５と図１６に示すように、本発明はさらにフォトスペーサ３０（Ｐｈｏｔｏｓｐａｃｅｒ）をＴＦＴアレイ基板１に設置し、具体的に、図４においてはフォトスペーサ３０をブラックマトリクス２２の上に設置し、図１５と図１６においてはいずれもフォトスペーサをパッシベーション層１８０の上に設置している。フォトスペーサ３０（Ｐｈｏｔｏｓｐａｃｅｒ）をＴＦＴアレイ基板１に設置する目的は、ＣＦ基板２とＴＦＴアレイ基板１の位置ずれによる画素領域の暗線（ｄｉｓｃｌｉｎａｔｉｏｎｌｉｎｅ）を防止することである。フォトスペーサ３０の高さが大きいため、その近傍の液晶セル内の平坦度を変化させることにより配向不良を引き起こす。一般的には、フォトスペーサ３０を表示領域から一定の距離離れたところに設置するが、フォトスペーサ３０をＣＦ基板２に設置する場合、ＣＦ基板２とＴＦＴアレイ基板１とに位置ずれが発生した時、フォトスペーサ３０はＴＦＴアレイ基板１の表示領域に入り配向不良（暗線は液晶の配向不良によるものである）を引き起こす可能性がある。フォトスペーサ３０はＣＦ基板２と当接することができ、一定の距離を保つこともできる。

前記配向原理、過程及び液晶表示装置構造に関する説明に基づき、本発明はさらに該液晶表示装置の製造方法を提供する。図１７は本発明により提供される液晶表示装置の製造方法の一実施例のメインプロセスを示す図である。該実施例において、該製造方法は、
ＴＦＴアレイ基板とＣＦ基板を提供し、ＴＦＴアレイ基板のガラス基板とパッシベーション層との間にカラーフィルム層を形成し、ＴＦＴアレイ基板の第１電極層に偏光感受性材料を塗布して第１配向層を形成し、ＣＦ基板の第２電極層に偏光感受性材料を塗布して第２配向層を形成するステップＳ１０と、
第１配向層と第２配向層をいずれも少なくとも１つの、複数の配向領域を含み、第１配向層と第２配向層に対応する配向領域の所定の配向方向が互いに直交する、分割領域に分割するステップＳ１１と、
第１配向層と第２配向層の各配向領域に対しそれぞれ異なる方向の、偏光方向が配向方向に適応する直線偏光を採用して照射し、よって、第１配向層と第２配向に各配向領域に対応する所定の配向方向を有する配向フィルムを形成するステップＳ１２と、
ＴＦＴアレイ基板における第１電極層とＣＦ基板における第２電極層に通電させ、液晶セルにおける液晶分子を配向させるステップＳ１３と、
ブラックマトリクスをＴＦＴアレイ基板に設置するステップＳ１４と、
フォトスペーサをＴＦＴアレイ基板に設置するステップＳ１５と、を含む。

具体的には、ステップＳ１４において、ブラックマトリクスをＴＦＴアレイ基板のパッシベーション層の上に設置し、又はＴＦＴアレイ基板のガラス基板の上、ゲート線の下に設置し、又はＴＦＴアレイ基板のガラス基板の上、ゲート線の両側に設置し、又はＴＦＴアレイ基板のその他の位置、例えば、ＴＦＴアレイ基板のカラーフィルム層とデータ線との間に設置する。

ステップＳ１５において、フォトスペーサをブラックマトリクスの上に設置し、又はＴＦＴアレイ基板のパッシベーション層の上に設置する。

本発明はカラーフィルム層をＴＦＴアレイ基板に設置することにより、液晶セルの上下表面の平坦化処理を実現することができ、よって、ステップＳ１３においてより良好な配向効果を獲得している。また、適切なカラーフィルム材料を選択することにより、カラーフィルム層を絶縁層として機能させることができ、よって、一般的にカラーフィルム層の上下表面に設置される絶縁層を除去し、コストを低減し生産能力を向上させる効果に達する。カラーフィルム材料は、オセイン、アクリル、ポリイミド、ポリエステルなどを含む。

第１配向層と第２配向層に関する配向原理及び過程は、図５〜１４に対する説明を参照し、ここで重複する説明を省略する。

第５は、適切なカラーフィルム材料を選択することにより、カラーフィルム層を絶縁層として機能させることができ、よって、一般的にカラーフィルム層の上下表面に設置される絶縁層を除去し、コストを低減し生産能力を向上させる効果に達する。

また、本発明の実施例において、カラーフィルム層をＴＦＴアレイ基板に設置することにより、液晶セル（液晶層）の上下表面の平坦化を実現することができ、液晶配向の効果を向上することができる。

以上に開示されたものは本発明の好適な実施例に過ぎず、当然ながら、本発明の権利範囲を限定するものではなく、従って、等価変形は、依然として本発明の保護範囲に含まれる。

Claims

液晶表示装置であって、
第１電極層（１５）と前記第１電極層（１５）を被覆する第１配向層（１９）を有し、ガラス基板（１１）とパッシベーション層（１８０）との間にカラーフィルム層（１８）が形成され、さらにブラックマトリクス（２２）とフォトスペーサ（３０）が設置されているＴＦＴアレイ基板（１）と、
第２電極層（２４）と前記第２電極層（２４）を被覆する第２配向層（２９）を有するＣＦ基板（２）と、
前記ＴＦＴアレイ基板（１）の第１配向層（１９）と前記ＣＦ基板（２）の第２配向層（２９）との間に設置される液晶層（３）と、
を含み、
前記第１配向層（１９）と前記第２配向層（２９）はいずれも少なくとも１つの分割領域（１０、２０）に分けられ、それぞれの分割領域は複数の配向領域（１００、２００）に分けられ、前記第１配向層（１９）と前記第２配向層（２９）に対応する配向領域（１００、２００）の所定の配向方向は互いに直交し、
前記第１配向層（１９）と前記第２配向層（２９）の各配向領域（１００、２００）に対しそれぞれ異なる方向の直線偏光を採用して照射し、前記各配向領域に対して照射した直線偏光の偏光方向と前記配向方向は互いに適応し、よって、前記第１配向層（１９）と前記第２配向層（２９）に各配向領域（１００、２００）に対応する所定の配向方向を有する配向フィルムを形成する、
ことを特徴とする液晶表示装置。
前記ＴＦＴアレイ基板（１）は、さらに、ガラス基板（１１）、ゲート線（１３）、半導体層（１７）及びデータ線（１２）を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記ブラックマトリクス（２２）は、前記ＴＦＴアレイ基板（１）のパッシベーション層（１８０）の上に設置され、又は前記ＴＦＴアレイ基板（１）のガラス基板（１１）の上、ゲート線（１３）の下に設置され、又は前記ＴＦＴアレイ基板（１）のガラス基板（１１）の上、ゲート線（１３）の両側に設置され、又は前記ＴＦＴアレイ基板（１）のカラーフィルム層（１８）とデータ線（１２）との間に設置されることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
前記フォトスペーサ（３０）は、前記ブラックマトリクス（２２）の上に設置され、又は前記ＴＦＴアレイ基板（１）のパッシベーション層（１８０）の上に設置されることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
前記カラーフィルム層（１８）の材料は、オセイン、アクリル、ポリイミド及びポリエステルのいずれかを含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記各分割領域（１０、２０）は２本の互いに直交する区切り線により４つの配向領域に分けられ、前記４つの配向領域における少なくとも２つの配向領域の所定の配向方向は異なることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記第１電極層（１５）は画素電極層であり、前記第２電極層（２４）は共通電極層であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
液晶表示装置であって、
第１電極層（１５）と前記第１電極層（１５）を被覆する第１配向層（１９）を有し、ガラス基板（１１）とパッシベーション層（１８０）との間にカラーフィルム層（１８）が形成され、さらにブラックマトリクス（２２）とフォトスペーサ（３０）が設置されているＴＦＴアレイ基板（１）と、
第２電極層（２４）と前記第２電極層（２４）を被覆する第２配向層（２９）を有するＣＦ基板（２）と、
前記ＴＦＴアレイ基板（１）の第１配向層（１９）と前記ＣＦ基板（２）の第２配向層（２９）との間に設置される液晶層（３）と、
を含み、
前記第１配向層（１９）と前記第２配向層（２９）はいずれも少なくとも１つの分割領域（１０、２０）に分けられ、それぞれの分割領域は複数の配向領域（１００、２００）に分けられ、前記第１配向層（１９）と前記第２配向層（２９）に対応する配向領域（１００、２００）の所定の配向方向は互いに直交し、前記各分割領域（１０、２０）は２本の互いに直交する区切り線により４つの配向領域に分けられ、前記４つの配向領域における少なくとも２つの配向領域の所定の配向方向は異なり、
前記第１配向層（１９）と前記第２配向層（２９）の各配向領域（１００、２００）に対しそれぞれ異なる方向の直線偏光を採用して照射し、前記各配向領域に対して照射した直線偏光の偏光方向と前記配向方向は互いに適応し、よって、前記第１配向層（１９）と前記第２配向層（２９）に各配向領域（１００、２００）に対応する所定の配向方向を有する配向フィルムを形成する
ことを特徴とする液晶表示装置。
液晶表示装置の製造方法であって、
ＴＦＴアレイ基板とＣＦ基板を提供し、ＴＦＴアレイ基板のガラス基板とパッシベーション層との間にカラーフィルム層を形成し、前記ＴＦＴアレイ基板の第１電極層に偏光感受性材料を塗布して第１配向層を形成し、前記ＣＦ基板の第２電極層に偏光感受性材料を塗布して第２配向層を形成するステップと、
前記第１配向層と前記第２配向層をいずれも少なくとも１つの、複数の配向領域を含み、前記第１配向層と前記第２配向層に対応する配向領域の所定の配向方向は互いに直交する分割領域に分割するステップと、
前記第１配向層と前記第２配向層の各配向領域に対しそれぞれ異なる方向の直線偏光を採用して照射し、前記各配向領域に対して照射した直線偏光の偏光方向と前記配向方向は互いに適応し、よって、前記第１配向層と前記第２配向層に各配向領域に対応する所定の配向方向を有する配向フィルムを形成するステップと、
前記ＴＦＴアレイ基板における第１電極層とＣＦ基板における第２電極層に通電させることにより、液晶セルにおける液晶分子を配向させるステップと、
ブラックマトリクスを前記ＴＦＴアレイ基板に設置するステップ、及び
フォトスペーサを前記ＴＦＴアレイ基板に設置するステップと、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
前記ＴＦＴアレイ基板は、さらに、ガラス基板、ゲート線、半導体層及びデータ線を含むことを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
ブラックマトリクスをＴＦＴアレイ基板のパッシベーション層の上に設置し、又はＴＦＴアレイ基板のガラス基板の上、ゲート線の下に設置し、又はＴＦＴアレイ基板のガラス基板の上、ゲート線の両側に設置し、又はＴＦＴアレイ基板のカラーフィルム層とデータ線との間に設置することを特徴とする請求項１０に記載の製造方法。
フォトスペーサを前記ブラックマトリクスの上に設置し、又は前記ＴＦＴアレイ基板のパッシベーション層の上に設置することを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
前記カラーフィルム層の材料は、オセイン、アクリル、ポリイミド及びポリエステルのいずれかを含むことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。