CN105833928B - 一种生化仪试剂仓温度控制系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种生化仪试剂仓温度控制系统，包括：制冷仓、制冷装置、循环管路、散热器和温控系统，所述制冷装置的数量至少为三组且均匀设置于制冷仓的底部，所述制冷装置包括：与制冷仓底部相接触的半导体制冷片，设置于半导体制冷片上方的水冷头，设置于水冷头上方的压板，所述制冷装置之间、制冷装置与散热器之间均通过循环管路连接，所述温控系统用于监测制冷仓的温度并控制半导体制冷片的功率。通过上述方式，本发明能够提高制冷效率；减少中间水箱，简化了结构，与其他流路隔离不产生相互干扰；管路通畅、维护方便，减少了各个执行元件的故障率。
Description
技术领域
本发明涉及医疗器械领域，特别是涉及一种生化仪试剂仓温度控制系统。
背景技术
目前生化仪试剂仓温度控制多采用风冷和水冷两种形式保证试剂存储的条件。制冷效率较高的是水冷。通常的结构是通过水箱、循环泵和散热器的循环将半导体制冷片产生的热量带走来保证半导体制冷片的正常工作，并通过温控器来达到对试剂仓的低温温控。水箱一般与设备的进水箱共用，以简化结构布局。
现有的这种制冷循环方式会产生几种弊端：1、循环通路上产生的水垢、细菌会对其他流路产生干扰，对循环泵、电磁阀等元件造成损坏（尤其水冷头的翅片式结构容易堵塞，使循环不畅）；2、循环管路较长，制冷效率不高，高温环境会超出试剂仓的工作温度（一般为5～8℃，部分大测速设备在4～12℃）；3、循环水在排空气泡后，很难判断液体的流动，从而难排查循环泵的正常工作状态；4、循环水的导热效率较低，挥发较快，对循环管路中铜、铝等有一定腐蚀性（铜锈等产生）。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种生化仪试剂仓温度控制系统，能够提高制冷效率；减少中间水箱，简化了结构，与其他流路隔离不产生相互干扰；管路通畅、维护方便，减少了各个执行元件的故障率。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种生化仪试剂仓温度控制系统，包括：制冷仓、制冷装置、循环管路、散热器和温控系统，所述制冷装置的数量至少为三组且均匀设置于制冷仓的底部，所述制冷装置包括：与制冷仓底部相接触的半导体制冷片，设置于半导体制冷片上方的水冷头，设置于水冷头上方的压板，所述制冷装置之间、制冷装置与散热器之间均通过循环管路连接，所述温控系统用于监测制冷仓的温度并控制半导体制冷片的功率。
优选的，所述温控系统包括：温控器、温度传感器和温度保护开关，所述温控器、温度传感器与温度保护开关之间电气连接，所述温控器与半导体制冷片之间电气连接。
优选的，所述温度传感器的测温点设置在制冷仓底部与相邻半导体制冷片距离较远且接近制冷仓内侧壁的位置。
优选的，所述循环管路处还设置有水流指示器、循环泵和加液装置，所述加液装置包括一加液口和一回流口，所述加液口和回流口形成一U型连通器。
优选的，所述制冷装置的制冷剂采用冰点低于-7℃的制冷剂，-8℃时效果更佳。
优选的，所述水冷头处设置有进水口、出水口和散热翅片，所述进水口、出水口分别连接循环管路。
优选的，所述制冷仓的外壁包覆有一层EPS保温层。
优选的，所述循环管路由硅胶管组成。
优选的，所述半导体制冷片的外表面涂覆有导热硅脂。
本发明还公开了一种生化仪试剂仓温度控制系统的制冷剂的加液方法，包括如下步骤：
一、首次装机时，先从加液装置的加液口用加液瓶加入适量的制冷剂，要求循环泵入口处充满制冷剂，且液面不超过加液装置内部接口，便于排气；
二、启动循环泵，同时继续加入制冷剂直到回流口的回流渐渐将循环管路中空气排空，期间如果排气来不及可关闭循环泵排气，然后再启动，当循环稳定正常后，将加液口堵住；
三、通过水流指示器观察流路运行，加液口液面刚高过回流口1cm为宜；
四、2-3个月观察加液口液面高度，低于回流口时，循环中可能会有少量气泡进入，补充适量制冷剂，即可排出气泡，定期观察水流指示器和温控器温度，排查循环故障。
本发明的有益效果是：本发明与现有结构相比，本申请有以下优点：1、制冷效率明显提高：开机到试剂仓达到设定温度时间缩短5-8分钟；30℃环境现有结构在开机后稳定状态下制冷温度接近12℃，本申请的结构可达到8.5℃；2、水流指示器方便故障排查；3、能够抑制水垢等产生，循环管路工作稳定，设备故障率大大降低，维护简单，维护周期较长，在三年有效期内除了定期补充制冷剂，无需其他维护；4、工作温度范围比纯水大，-8℃是该制冷剂的冰点，因此更能适应一些低温环境。
附图说明
图1是本发明一种生化仪试剂仓温度控制系统一较佳实施例的立体结构示意图；
图2是所示制冷仓底部的结构示意图；
图3是所述制冷装置的立体结构示意图；
图4是所述水冷头的俯视图；
图5是所述水冷头的左视图；
附图中各部件的标记如下：1、制冷仓，2、散热器，3、循环管路，4、水流指示器，5、加液装置，6、循环泵，7、温控系统，8、制冷装置，9、支架，31、进水口，32、出水口，51、加液口，52、回流口，71、温控器，72、温度传感器，73、温度保护开关，81、压板，82、水冷头，83、半导体制冷片，821、散热翅片。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
请参阅图1-图5，本发明实施例包括：
一种生化仪试剂仓温度控制系统，包括：制冷仓1、制冷装置8、循环管路3、散热器2和温控系统7，所述制冷装置8的数量为四组且均匀设置于制冷仓1的底部，所述制冷装置8包括：与制冷仓1底部相接触的半导体制冷片83，设置于半导体制冷片83上方的水冷头82，设置于水冷头82上方的压板81，所述制冷装置8之间、制冷装置8与散热器2之间均通过循环管路3连接，所述温控系统7用于监测制冷仓1的温度并控制半导体制冷片83的功率。
如图2和图3所示，制冷仓1底部均匀分布有四个半导体制冷片83，半导体制冷片83的外表面涂覆有一层导热硅脂，其上设置有水冷头82，水冷头82上覆盖有压板81，压板81上表面固定有温度保护开关73，温度传感器72的测温点设置于制冷仓1底部与相邻半导体制冷片83距离较远且接近制冷仓1内侧壁的位置，该点受周边环境影响小，温度相对接近试剂瓶内的温度，温控器71选择精度在±0.1℃的温控器，制冷仓1外侧包覆EPS保温层，相对于常用的橡塑保温层，具有更好的绝热效果。
进一步的，循环泵6和散热器2设置于制冷仓1的下方，加液装置5布置在循环泵6的入口前，保持10cm以上的液位高度差，循环泵6的出口先接水流指示器4，再接入制冷仓1底部的水冷头82进水口31，四个水冷头82串联连接。
如图1中箭头所示，将水冷头82串联的出水口32接散热器2的入口，散热器2的出口接加液装置5回流口52，加液装置5的下端接循环泵6入口，要求管路尽量竖直，便于排气，加液装置5的加液口51在加液时打开回流口52组成U型连通器。
本发明的加液过程如下所示：首次装机时，先从加液装置5的加液口51用加液瓶加入适量的制冷剂，要求循环泵6入口处充满制冷剂，且液面不超过加液装置5内部接口，便于排气；
启动循环泵6，同时继续加入制冷剂直到回流口52的回流渐渐将循环管路3中空气排空，期间如果排气来不及可关闭循环,6排气，然后再启动，当循环稳定正常后，将加液口51堵住；
通过水流指示器4观察流路运行，加液口51液面刚高过回流口1cm为宜；
2-3个月观察加液口51液面高度，低于回流口52时，循环中可能会有少量气泡进入，补充适量制冷剂，即可排出气泡，定期观察水流指示器4和温控器71温度，排查循环故障。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (4)
1.一种生化仪试剂仓温度控制系统，其特征在于，包括：制冷仓、制冷装置、循环管路、散热器和温控系统，所述制冷装置的数量至少为三组且均匀设置于制冷仓的底部，所述制冷装置包括：与制冷仓底部相接触的半导体制冷片，设置于半导体制冷片上方的水冷头，设置于水冷头上方的压板，所述制冷装置之间、制冷装置与散热器之间均通过循环管路连接，所述温控系统用于监测制冷仓的温度并控制半导体制冷片的功率，所述温控系统包括：温控器、温度传感器和温度保护开关，所述温控器、温度传感器与温度保护开关之间电气连接，所述温控器与半导体制冷片之间电气连接，所述温度传感器的测温点设置在制冷仓底部与相邻半导体制冷片距离较远且接近制冷仓内侧壁的位置，所述循环管路处还设置有水流指示器、循环泵和加液装置，所述加液装置包括一加液口和一回流口，所述加液口和回流口形成一U型连通器，所述制冷装置的制冷剂采用冰点低于-7℃的制冷剂，所述水冷头处设置有进水口、出水口和散热翅片，所述进水口、出水口分别连接循环管路。
2.根据权利要求1所述一种生化仪试剂仓温度控制系统，其特征在于，所述制冷仓的外壁包覆有一层EPS保温层。
3.根据权利要求1所述一种生化仪试剂仓温度控制系统，其特征在于，所述循环管路由硅胶管组成。
4.根据权利要求1所述一种生化仪试剂仓温度控制系统，其特征在于，所述半导体制冷片的外表面涂覆有导热硅脂。
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