CN105780051A - 印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备 - Google Patents

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黄仁全
聂和福
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Abstract

本发明涉及一种蚀刻组合物的再生装置,具体涉及一种印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备;包括控制柜和整流器,其特征在于:还包括电解槽、冷却池、蚀刻液槽、比重检测点、子液槽和抽液槽,电解槽连接抽液槽并且连接管道处设有第一泵;所述冷却池内分为冷却区和子液溢流区;所述电解槽与冷却池的冷却区连接有进流管和出流管,所述进流管处设有第二泵;蚀刻液槽管道连接冷却区并且管道处设有第三泵,所述比重检测点连接冷却区,子液槽管道连接液溢流区并且管道处设有第四泵;采用本方案的印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备铜回收率高、品质好。

Description

印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备
技术领域
本发明涉及一种蚀刻组合物的再生装置,具体涉及一种印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备。
背景技术
碱性蚀刻是PCB企业生产不可缺少的一道工序,蚀刻过程是线路板上铜的溶解、沉淀后析出成铜制品,用于回收铜,避免资源浪费和重金属废液污染环境。现有技术中的碱性蚀刻铜回收电解设备铜回收利用率较低,电解池电力线分步比较零散,直接影响电铜速率;并且母液添加系统流量控制与电解槽内铜离子范围区间匹配问题,即母液泵的流量计算和电解槽内的铜离子控制范围太宽,造成我们所电解出来的铜板纯度不够高,或影响出铜的重量;而且循环泵的循环方式比较单一,只能解决部分药水的流动度。现有技术中的出铜率按照24小时电解出铜量在60-80公斤左右,所电解的铜纯度不高,不成整块,摔在地上会成散碎小块,经济价值略低。
发明内容
本发明意在提供一种适用于立式脱硫塔的印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备。
本方案中的印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备,包括控制柜和整流器、电解槽、冷却池、蚀刻液槽、比重检测点、子液槽和抽液槽,电解槽连接抽液槽并且连接管道处设有第一泵;所述冷却池内分为冷却区和子液溢流区;所述电解槽与冷却池的冷却区连接有进流管和出流管,所述进流管处设有第二泵;蚀刻液槽管道连接冷却区并且管道处设有第三泵,所述比重检测点连接冷却区,子液槽管道连接液溢流区并且管道处设有第四泵。
本发明的优点是:电解槽通过控制柜进行控制,整流器保护控制柜,蚀刻液通过泵进行输送至冷却池,并且通过进流管和出流管在电解池内进行循环电解,防止铜离子浓度超过一定限值之后就会严重影响蚀刻品质。
进一步,所述电解槽内包括多个电解池组,所述电解池组包括阳极石墨和阴极钢板,所述阳极和阴极的距离为8~10cm。经过试验这样的距离在药水浓度相同的条件下是上铜速率最佳距离。
进一步,所述第一泵和第二泵所在管道之间连接有连通管。将循环泵与抽液泵合体,实现在循环过程中将药水到达底部和顶部双向混合,达到电解槽的药水铜离子很均匀的分步在电解液中,另一个方面很好的解决电解液在电解过程中的散热问题。
进一步,第四泵所在的管道处设有支管,支管连接所述蚀刻液槽。母液的添加系统在原有的单一出口改用双出口,一个出口引到电解副槽,一个出口引回到母液添加原桶,利用阀门来进行流量控制。这样便于保护泵,避免泵的压力过大将泵损坏,需要流量大的同时可以将回用泵阀关小。
附图说明
图1为本发明印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备的原理示意图;
图2为本发明印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备的电解池组的。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明:
根据图1、2所示,印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备,包括控制柜1和整流器2、电解槽3、冷却池4、蚀刻液槽5、比重检测点6、子液槽7和抽液槽8,电解槽3通过控制柜1进行控制,整流器2保护控制柜1,电解槽3连接抽液槽8并且连接管道处设有第一泵91;冷却池4内分为冷却区和子液溢流区;电解槽3与冷却池4的冷却区连接有进流管和出流管,进流管处设有第二泵92,蚀刻液通过泵进行输送至冷却池4,并且通过进流管和出流管在电解池内进行循环电解;蚀刻液槽5管道连接冷却区并且管道处设有第三泵93,比重检测点6连接冷却区,比重检测点6用于随时检测冷却区铜离子的浓度,子液槽7管道连接液溢流区并且管道处设有第四泵94。
具体的,电解槽3内包括多个电解池组10,本实施例优选为6个电解池组,电解池组10包括阳极11石墨和阴极12钢板,阳极11和阴极12的距离为8~10cm,优选为的为9cm。这个距离电力线分步密集,经过多次试验这样的距离在药水浓度相同的条件下是上铜速率最快,出铜品质较高。第一泵91和第二泵92所在管道之间连接有连通管13,第一泵91为循环泵,第二泵92为抽液泵,连接管将循环泵与抽液泵合体,实现在循环过程中将药水到达底部和顶部双向混合,达到电解槽3的药水铜离子很均匀的分步在电解液中,另一个方面很好的解决电解液在电解过程中的散热问题。第四泵94为母液吸取泵,第四泵94所在的管道处设有支管14,支管14连接蚀刻液槽5。母液的添加系统在原有的单一出口改用双出口,一个出口引到电解副槽,一个出口引回到母液添加原桶,利用阀门来进行流量控制。这样便于保护泵,避免泵的压力过大将泵损坏,需要流量大的同时可以将回用泵阀关小。流量进入恒定后,通过比重计来测试药水的波美度,让电解的蚀刻药水中的铜离子恒定在几个段,最开始电解的铜离子控制在80-90g/L,电解2-4小时,后续电解将铜离子控制在50-70g/L,电解20-22小时。通过比重计的设置实现自动化。
以上所述的仅是本发明的实施例,方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出,对于本领域的技术人员来说,在不脱离本发明结构的前提下,还可以作出若干变形和改进,这些也应该视为本发明的保护范围,这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。

Claims (4)

1.印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备,包括控制柜和整流器,其特征在于:还包括电解槽、冷却池、蚀刻液槽、比重检测点、子液槽和抽液槽,电解槽连接抽液槽并且连接管道处设有第一泵;所述冷却池内分为冷却区和子液溢流区;所述电解槽与冷却池的冷却区连接有进流管和出流管,所述进流管处设有第二泵;蚀刻液槽管道连接冷却区并且管道处设有第三泵,所述比重检测点连接冷却区,子液槽管道连接液溢流区并且管道处设有第四泵。
2.根据权利要求1所述的印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备,其特征在于:所述电解槽内包括多个电解池组,所述电解池组包括阳极石墨和阴极钢板,所述阳极和阴极的距离为8~10cm。
3.根据权利要求1所述的印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备,其特征在于:所述第一泵和第二泵所在管道之间连接有连通管。
4.根据权利要求1所述的印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备,其特征在于:第四泵所在的管道处设有支管,支管连接所述蚀刻液槽。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0146732A1 (de) * 1983-11-08 1985-07-03 Holzer, Walter, Senator h.c. Dr.h.c.Ing. Arbeitsverfahren und Vorrichtung zur Ausübung des Verfahrens zur Abscheidung von z.B. Kupfer aus flüssigen Elektrolyten, der durch einen mehrzelligen Elektrolysebehälter geführt wird
CN101748430A (zh) * 2009-09-23 2010-06-23 王红华 印制板酸性蚀刻废液的铜回收系统及蚀刻液再生方法
CN201686754U (zh) * 2010-05-13 2010-12-29 王红雨 用于废蚀刻液电解提铜的自动控制装置
CN202499909U (zh) * 2012-01-12 2012-10-24 深圳市祺鑫天正环保科技有限公司 碱性蚀刻液循环再生电解铜装置
CN103628070A (zh) * 2012-08-24 2014-03-12 成都虹华环保科技有限公司 碱性蚀刻液循环再生设备
CN103741143A (zh) * 2013-12-31 2014-04-23 遂宁市广天电子有限公司 蚀刻液循环处理系统及方法
CN204356404U (zh) * 2014-12-23 2015-05-27 重庆航凌电路板有限公司 印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0146732A1 (de) * 1983-11-08 1985-07-03 Holzer, Walter, Senator h.c. Dr.h.c.Ing. Arbeitsverfahren und Vorrichtung zur Ausübung des Verfahrens zur Abscheidung von z.B. Kupfer aus flüssigen Elektrolyten, der durch einen mehrzelligen Elektrolysebehälter geführt wird
CN101748430A (zh) * 2009-09-23 2010-06-23 王红华 印制板酸性蚀刻废液的铜回收系统及蚀刻液再生方法
CN201686754U (zh) * 2010-05-13 2010-12-29 王红雨 用于废蚀刻液电解提铜的自动控制装置
CN202499909U (zh) * 2012-01-12 2012-10-24 深圳市祺鑫天正环保科技有限公司 碱性蚀刻液循环再生电解铜装置
CN103628070A (zh) * 2012-08-24 2014-03-12 成都虹华环保科技有限公司 碱性蚀刻液循环再生设备
CN103741143A (zh) * 2013-12-31 2014-04-23 遂宁市广天电子有限公司 蚀刻液循环处理系统及方法
CN204356404U (zh) * 2014-12-23 2015-05-27 重庆航凌电路板有限公司 印制电路板碱性蚀刻铜回收电解设备

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