CN105765276B - 密封机构、密封机构的驱动装置、输送装置和制造装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供用于分隔压力不同的2个空间的密封机构，其包括：外壳；轴，其插入到外壳中；环状密封部件，其与轴的径向外侧表面或固定于轴的旋转部的径向外侧表面接触，对间隙进行密封；以及润滑剂槽，其存储对环状密封部件与径向外侧表面之间供给的润滑剂。

Description

密封机构、密封机构的驱动装置、输送装置和制造装置
技术领域
本发明涉及用于分隔压力不同的2个空间的密封机构、密封机构的驱动装置、输送装置和制造装置。
背景技术
在输送装置、半导体制造装置或机床等制造装置中，会使用使旋转台旋转、或者使半导体基板、工件或工具旋转的旋转机构。作为这样的旋转机构，例如在专利文献1中记载了一种定位装置(参照图2)。
专利文献1：日本特开2007－9939号公报
发明内容
记载于专利文献1的技术，通过在密封槽内收纳有作为接触式密封件的O形环，来使真空腔室等处理室内与外部环境隔离的同时使轴旋转。然而，O形环虽然可提高密封性，但是由于强制性地使其变形与轴接触，所以O形环或轴可能产生变形或磨损。伴随O形环或轴的变形或磨损，部件更换作业要花费大量的时间和劳动，所以想要抑制其频率，期望一种抑制可提高密封性的部件的老化而降低部件更换频率的密封机构。
本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种能够降低可提高密封性的部件的更换频率的密封机构、密封机构的驱动装置、输送装置和制造装置。
为了实现上述目的，第一种形态的密封机构，其分隔压力不同的2个空间，包括：外壳；轴，其插入到上述外壳中；环状密封部件，其与上述轴的径向外侧表面或固定于上述轴的旋转部的径向外侧表面接触，对间隙进行密封；以及润滑剂槽，其存储对上述环状密封部件与上述径向外侧表面之间供给的润滑剂。由此，容易保持在径向外侧表面与环状密封部件之间有润滑剂的状态，所以能够抑制环状密封部件、轴或旋转部的磨损。因此，本发明涉及的密封机构能够降低可提高密封性的部件的更换频率。
理想的形态为，优选上述外壳包括：密封件固定用间隔件，其规定上述间隙的大小并且将上述环状密封部件固定；以及盖部，其将上述密封件固定用间隔件固定，上述盖部的径向内侧侧面位于与上述环状密封部件的位置相比铅垂方向的上方，上述润滑剂槽设置于上述盖部的径向内侧侧面。由此，润滑剂在重力作用下被稳定地从润滑剂槽供给到环状密封部件与径向外侧表面之间。
理想的形态为，优选上述盖部的径向内侧侧面与上述环状密封部件的位置相比位于上述压力不同的2个空间中的低压侧的位置，上述润滑剂槽设置于上述盖部的径向内侧侧面的一部分，上述盖部的径向内侧侧面中与上述润滑剂槽相比位于上述压力不同的2个空间中的低压侧的部分和上述径向外侧表面之间的距离小于上述间隙的大小。由此，润滑剂难以通过盖部与径向外侧表面之间。因此，能够抑制润滑剂向内部空间侧飞溅的事态。
理想的形态为，优选上述外壳包括：密封件固定用间隔件，其规定上述间隙的大小并且将上述环状密封部件固定；以及盖部，其将上述密封件固定用间隔件固定，上述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面位于与上述环状密封部件的位置相比铅垂方向的上方，上述润滑剂槽设置于上述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面。由此，即使在盖部配置在与环状密封部件相比铅垂方向的下方的情况下，润滑剂在重力作用下也被稳定地从润滑剂槽供给到环状密封部件与径向外侧表面之间。因此，即使在盖部配置在与环状密封部件相比铅垂方向的下方的情况下，密封机构也能够降低可提高密封性的部件的更换频率。
理想的形态为，优选上述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面与上述环状密封部件的位置相比位于上述压力不同的2个空间中的高压侧的位置，上述盖部的径向内侧侧面与上述环状密封部件的位置相比位于上述压力不同的2个空间中的低压侧的位置，上述盖部的径向内侧侧面与上述径向外侧表面之间的距离小于上述间隙的大小。由此，润滑剂难以通过盖部与径向外侧表面之间。因此，能够抑制润滑剂向内部空间侧飞溅的事态。
理想的形态为，优选上述轴以能够旋转的方式被支承。由此，密封机构能够在压力或气体不同的2个空间之间传递旋转运动。
理想的形态为，优选上述轴以能够进行使所述轴与所述外壳的相对位置在轴向上变化这样的直线运动的方式被支承。由此，密封机构能够在压力不同2个空间之间传递直线运动。
理想的形态为，优选密封机构的驱动装置包括上述密封机构、以及对上述轴施加旋转运动和直线运动中的至少一种运动的驱动装置。采用这种结构，密封机构的驱动装置能够实现较高的密封性。
理想的形态为，优选输送装置包括上述密封机构、以及使被输送物移动的可动部件，上述可动部件的动作与上述轴的旋转运动和直线运动中的至少一种运动连动。采用这种结构，输送装置能够实现较高的密封性。
理想的形态为，优选制造装置具有上述密封机构。采用这种结构，制造装置能够实现较高的密封性，提高产品的品质。
第二种形态的密封机构，其分隔压力不同的2个空间，优选包括：外壳；轴，其插入到上述外壳中；多个环状密封部件，其与上述轴的径向外侧表面或固定于上述轴的旋转部的径向外侧表面接触，在不同的位置对间隙进行密封；以及润滑剂槽，其存储对上述环状密封部件与上述径向外侧表面之间供给的润滑剂，上述多个环状密封部件中的至少1个环状密封部件位于与上述润滑剂槽相比靠近上述压力不同的2个空间中的低压侧。
理想的形态为，优选上述外壳具有密封件固定用间隔件，其规定上述间隙的大小并且将上述环状密封部件固定，上述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面位于上述多个环状密封部件之间的位置，上述润滑剂槽设置于上述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面。
理想的形态为，优选上述润滑剂槽设置于上述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面的一部分，上述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面中与上述润滑剂槽相比位于上述环状密封部件侧的部分与上述径向外侧表面之间的距离小于上述间隙的大小。
理想的形态为，优选上述外壳具有密封件固定用间隔件，其规定上述间隙的大小并且将上述环状密封部件固定，上述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面位于上述多个环状密封部件之间的位置，上述润滑剂槽设置于上述径向外侧表面中与上述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面相向的部分。
理想的形态为，优选上述润滑剂槽设置于上述径向外侧表面中与上述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面相向的部分的一部分中，上述径向外侧表面中与上述润滑剂槽相比位于上述环状密封部件侧的部分与上述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面之间的距离小于上述间隙的大小。
第三种形态的密封机构，其分隔压力不同的2个空间，优选包括：外壳；轴，其插入到上述外壳中；对间隙进行密封的环状密封部件，其包括固定部，其与上述外壳接触、唇部，其与上述轴的径向外侧表面或固定于上述轴的旋转部的径向外侧表面接触、和环状连结部，其连结上述固定部与上述唇部；以及施力部件，其将上述唇部的按压力施加于上述径向外侧表面侧。
理想的形态为，优选由上述唇部、上述环状连结部和上述固定部包围的空间向上述压力不同的2个空间中的高压侧开口。
理想的形态为，优选上述施力部件设置在由上述唇部、上述环状连结部和上述固定部包围的空间内。
理想的形态为，优选上述外壳包括：外壳主体；密封件固定用间隔件，其规定上述间隙的大小并且将上述环状密封部件固定；盖部，其固定于上述外壳主体，由此将上述密封件固定用间隔件固定；以及第二环状密封部件，其对由上述外壳主体、上述密封件固定用间隔件和上述盖部形成的空间进行密封，上述第二环状密封部件的直径比上述环状密封部件大。
理想的形态为，优选上述环状密封部件在上述固定部的径向外侧具有密封凸缘部，上述密封凸缘部由上述密封件固定用间隔件固定。
理想的形态为，优选上述环状密封部件由在上述密封件固定用间隔件与上述径向外侧表面之间产生的推斥力固定。
理想的形态为，优选包括：轴承，其设置于上述外壳，以上述轴能够旋转的方式支承上述轴；以及旋转部，其设置于上述轴的一端部，与上述轴一起旋转，上述环状密封部件与上述轴承相比配置于上述压力不同的2个空间中的低压侧。
理想的形态为，优选上述轴承包括外圈、配置于上述外圈的径向内侧的内圈、以及配置于上述外圈与上述内圈之间的滚动体，上述旋转部是将上述内圈固定的内圈按压部。
根据本发明，能够提供一种能够降低可提高密封性的部件的更换频率的密封机构、密封机构的驱动装置、输送装置和制造装置。
附图说明
图1是示意性地表示具有实施方式1涉及的密封机构的制造装置的截面图。
图2是示意性地表示实施方式1涉及的密封机构的截面图。
图3是图2的A－A向视图。
图4是实施方式1涉及的密封机构的间隙的放大图。
图5是实施方式1的变形示例1涉及的密封机构的间隙的放大图。
图6是示意性地表示实施方式1的变形示例2涉及的密封机构的截面图。
图7是示意性地表示实施方式1的变形示例3涉及的密封机构的截面图。
图8是示意性地表示具有实施方式2涉及的密封机构的制造装置的截面图。
图9是示意性地表示实施方式2涉及的密封机构的截面图。
图10是图9的B－B向视图。
图11是实施方式2涉及的密封机构的间隙的放大图。
图12是实施方式2的变形示例1涉及的密封机构的间隙的放大图。
图13是示意性地表示实施方式2的变形示例2涉及的密封机构的截面图。
图14是示意性地表示实施方式2的变形示例3涉及的密封机构的截面图。
图15是示意性地表示实施方式2的变形示例4涉及的密封机构的截面图。
图16是实施方式3涉及的密封机构的间隙的放大图。
图17是实施方式3的变形示例1涉及的密封机构的间隙的放大图。
图18是实施方式3的变形示例2涉及的密封机构的间隙的放大图。
图19是示意性地表示实施方式3的变形示例3涉及的密封机构的截面图。
图20是示意性地表示实施方式3的变形示例4涉及的密封机构的截面图。
图21是示意性地表示实施方式3的变形示例5涉及的密封机构的截面图。
符号说明
1、1A、1B、1C、1D、1E、1F、1G、1H、1I、1J、1K、1L、1M、1N 密封机构
2 外壳
3 旋转部件
4、4A、41、42、44、45、46 轴承
5、5A、5B 环状密封部件
6 密封机构的驱动装置
7 输送装置
8 电动机
8A 旋转驱动装置
8B 直线运动驱动装置
21 主干部
22 外壳凸缘部
23 盖部
23f 径向内侧侧面
23l 润滑剂槽
24 外圈止动部件
25、25A 密封件固定用间隔件
25a 间隔件定位部
25b 密封件固定凹部
25c 径向内周部
25d 径向外周部
25l 润滑剂槽
28、28A 密封件固定用间隔件
31 轴
31p 径向外侧表面
32 旋转部
32p 径向外侧表面
33 输送台(可动部件)
41a、42a 外圈
41c、42c 内圈
51 唇部
51a 内周侧前端
51d 内周侧基部
52 固定部
54 密封凸缘部
55 间隙
56 施力部件
56c 弯曲部
91 控制装置
100 制造装置
E 外部空间
Lu 润滑剂
V 内部空间
具体实施方式
下面，参照附图对用于实施本发明的方式(以下，称为实施方式)进行说明。另外，本发明不局限于下述实施方式。此外，下述实施方式中的结构要素中包括本领域技术人员容易想到的结构要素、实质上相同的结构要素、所谓等同范围的结构要素。而且，下述实施方式中公开的结构要素能够适当组合。
实施方式1
图1是示意性地表示具有实施方式1涉及的密封机构的制造装置的截面图。图2是示意性地表示实施方式1涉及的密封机构的截面图。图1和图2示出了用包含密封机构1的旋转中心轴Zr并且与旋转中心轴Zr平行的平面切开密封机构1而得到的截面。图3是图2的A－A向视图。图4是实施方式1涉及的密封机构的间隙的放大图。密封机构1是用于传递旋转的机械部件，例如在真空环境、减压环境、处理气体填充环境等特殊环境下使用。密封机构1应用于半导体制造或机床制造等制造装置、输送装置、旋转驱动装置中。这里，作为一个示例，对密封机构1是在用于半导体制造的制造装置中的具有作为旋转轴的主轴的旋转驱动装置(主轴单元)的情况进行说明，不过密封机构1的应用对象不局限于此。
如图1所示，例如用于半导体制造的制造装置100包括密封机构1、壳体10、电动机8、以及用于控制电动机8的控制装置91。密封机构1和电动机8作为密封机构的驱动装置6，传递电动机8的旋转，使输送台(可动部件)33旋转。制造装置100中，在使壳体10的内部空间V成为真空环境、减压环境、处理气体填充环境的基础上，输送装置7将位于内部空间V中的被输送物(例如半导体基板、工件或工具)搭载在输送台(可动部件)33上并使其移动。在使被输送物移动的情况下，如果将电动机8设置在内部空间V中，则可能因电动机8的动作而产生异物。因此，制造装置100将输送台33保留在内部空间V中，而将电动机8设置在外部空间E。这样，密封机构1是分隔内部空间V与外部空间E从而提高密封性、并同时将设置于外部空间E的电动机8的动力传递至内部空间V的旋转机构。电动机8例如是直接驱动马达、使用带传动的驱动装置、线性马达、伺服马达等。控制装置91包括输入电路、作为中央运算处理装置的CPU(Central Processing Unit，中央处理单元)、作为存储装置的存储器、以及输出电路。对应于存储在存储器中的程序来控制电动机8，将位于内部空间V的被输送物(例如半导体基板、工件或工具)搭载在输送台(可动部件)33上并使其移动，从而制造装置100能够制造所要求的制品。输送装置7具有使被输送物移动的输送台(可动部件)33，通过输送台(可动部件)33的动作与密封机构1的轴31的旋转运动连动，使被输送物移动。
密封机构1包括外壳2、旋转部件3和轴承4。外壳2是收纳轴承4的部件。在实施方式1中，外壳2具有作为筒状部件的主干部21和设置于主干部21的一端部的外壳凸缘部22作为外壳主体。而且，外壳2还具有用螺栓27固定于外壳凸缘部22的盖部23、以及配置在外壳主体的主干部21内部的外圈止动部件24和密封件固定用间隔件25。在实施方式1中，主干部21是筒状(例如圆筒)部件，具有从一端部通向另一端部的贯通孔。此外，在实施方式1中，盖部23在铅垂方向上与密封件固定用间隔件25相比配置在上方。
外壳凸缘部22是均呈板状的凸缘部件。在实施方式1中，外壳凸缘部22的形状在俯视时呈圆形，不过其形状不局限于圆形。外壳凸缘部22具有上述贯通孔，该贯通孔包含轴31的旋转中心轴Zr并且在厚度方向上贯穿。以从壳体10的外部覆盖壳体10的开口部10e的方式安装外壳凸缘部22，并用螺栓(未图示)紧固外壳凸缘部22与壳体10的壁面，从而将外壳2固定于壳体10。由此，外壳2能够从壳体10的外部封闭壳体10的开口部10e。在外壳凸缘部22在俯视时与壳体10重合的部分具有环状槽，在该环状槽中嵌入O形环(环状密封件)11，从而提高外壳凸缘部22与壳体10的密封性。
旋转部件3包括轴31、旋转部32和输送台(可动部件)33。轴31是密封机构1的输出轴(主轴)，一端部插入到外壳2中。轴31的另一端部经由联轴器82与电动机8的输出轴81连接。输送台(可动部件)33经由旋转部32固定于轴31的一端部。
输送台33和旋转部32与轴31一起旋转。输送台33，在其与轴31的一端部相反一侧的面上载置物体。在实施方式1中，输送台33是板状部件，俯视时呈圆形。输送台33突出至旋转部32的径向外侧，旋转部32与外壳2的外壳凸缘部22相比在轴向上突出。
轴承4设置在外壳2、在实施方式1中设置在外壳2的内部，以使轴31能够旋转的方式支承该轴31。轴承4包括轴承41和轴承42，隔着呈双重筒状的轴承间隔件43，沿着旋转中心轴Zr隔开距离地配置。由此，通过由轴承41和轴承42的多个部位支承轴31，轴承4能够抑制轴31的振摆旋转。在实施方式1中，轴31由2个轴承41、42支承于外壳2，不过轴承的数量不局限于2个。
如图2所示，轴承41、42包括外圈41a、42a、滚动体41b、42b、以及内圈41c、42c。内圈41c、42c配置于外圈41a、42a的径向内侧。这样，在实施方式1中，轴承41、42都是滚动轴承。滚动体41b、42b配置在外圈41a、42a与内圈41c、42c之间。轴承41、42的外圈41a、42a与外壳2的主干部21具有的贯通孔的内壁21c接触。
外圈41a的轴向一端与主干部21所具有的贯通孔被刻入而形成的定位部21a接触。外圈止动部件24的外圈按压部24a对外圈42a的轴向一端进行定位固定。因此，定位部21a和外圈止动部件24在轴向上将轴承41、轴承间隔件43和轴承42夹紧固定。采用这样的结构，将轴承41、42安装在外壳2中。在实施方式1中，两个轴承41、42都是球轴承，不过作为滚动轴承的轴承41、42的种类不局限于球轴承。此外，在实施方式1中，轴承41、42都是滚动轴承，不过也可以是滑动轴承。
旋转部32呈圆筒状，其径向外侧表面32p与外壳2具有规定大小的间隙55地对置。实施方式1的旋转部32与轴31为同轴，不过旋转部32与轴31相比直径较大而突出。因此，旋转部32，使其与输送台33相反一侧的端面32a与内圈42c抵接，能够构成内圈按压部。采用这样的结构，能够削减部件数量，提供廉价的密封机构1。内圈41c的轴向一端与轴31所具有的作为外周凹部的定位部31a接触。旋转部32对内圈42c的轴向一端进行定位固定，所以定位部31a和旋转部32在轴向上将轴承41、轴承间隔件43和轴承42夹紧固定。采用这样的结构，将轴承41、42安装于轴31。另外，实施方式1的旋转部32是与轴31一体设置的轴31的一端的一部分，不过不局限于此，实施方式1的旋转部32也可以是与轴31分开设置的、以同轴的方式固定于轴31的一端且与轴31的旋转连动地旋转的部件。
密封件固定用间隔件25规定间隙55的大小，并且固定环状密封部件5。如图3所示，密封件固定用间隔件25是环状部件。如图2所示，密封件固定用间隔件25包括：使径向外周侧的一部分在轴向上突出的间隔件定位部25a、密封件固定凹部25b、径向内周部25c、径向外周部25d、以及与径向内周部25c相比向旋转部32侧突出的环状凸部25e。径向外周部25d的至少一部分与主干部21的贯通孔的内壁21b接触。密封件固定用间隔件25作为环状密封部件5的导向件发挥作用，所以能够使环状密封部件5与旋转部32接触的接触压力为适当的设定值。
此外，在外壳凸缘部22以与旋转中心轴Zr呈同心圆状的方式形成有环状槽22a，径向外周部25d的至少一部分构成环状槽22a的壁面的一部分。盖部23由螺栓27固定于外壳凸缘部22，则嵌入在环状槽22a中的O形环(第二环状密封部件)26可提高密封性，进行密封。而且，O形环(第二环状密封部件)26配置于直径比环状密封部件5大的位置。此外，间隔件定位部25a夹在上述外圈止动部件24与主干部21的贯通孔的内壁21b之间被固定。在内部空间V的真空程度较低的情况下就不需要设置环状槽22a和O形环(第二环状密封部件)26。
如图3所示，环状密封部件5与旋转部32、密封件固定用间隔件25、以及固定于外壳凸缘部22的O形环(第二环状密封部件)26、O形环11一样，按照以旋转中心轴Zr为中心构成同心圆的方式配置。而且，如图2所示，环状密封部件5与轴承4相比配置在压力不同的2个空间中靠近低压侧的内部空间V。采用这样的结构，环状密封部件5使轴承4所用的润滑剂等不会向内部空间V侧飞溅。
如图4所示，环状密封部件5包括：与外壳2的密封件固定用间隔件25的径向内周部25c接触的固定部52、与旋转部32的径向外侧表面32p接触的唇部51、连结固定部52和唇部51的环状连结部53、以及密封凸缘部54。采用这样的结构，固定部52、环状连结部53和唇部51的截面形状呈大致U形，由固定部52、环状连结部53和唇部51包围的空间朝向压力不同的2个空间中的作为高压侧的外部空间E开口。另外，环状密封部件5的材质更优选为聚乙烯或聚四氟乙烯。聚乙烯或聚四氟乙烯作为环状密封部件5的材质，在耐磨损性、耐化学腐蚀性方面优异，适合与旋转部32之间的润滑。所接触的旋转部32的材质优选高碳铬轴承钢钢材、马氏体系不锈钢、析出硬化系不锈钢、含有3.4质量％以上的Si的析出硬化性不锈钢的高硅合金中的任一种。
如图4所示，盖部23由螺栓27固定于外壳凸缘部22，则密封件固定用间隔件25将插入到密封件固定凹部25b中的密封凸缘部54夹紧固定。由此，实施方式1的密封机构1中，由于环状密封部件5具有密封凸缘部54，所以能够抑制环状密封部件5因旋转部32的旋转而一起旋转的可能性。
由于旋转部32在环状密封部件5固定于外壳2的状态下旋转，所以在环状密封部件5与旋转部32之间产生摩擦。由该摩擦导致的发热可能加剧环状密封部件5或旋转部32的磨损。因此，需要减小该摩擦。于是，密封机构1设置有润滑剂槽23l，用于存储对环状密封部件5与旋转部32的径向外侧表面32p之间供给的润滑剂Lu。
盖部23具有相对于环状密封部件5在低压侧且与旋转部32的径向外侧表面32p相向的径向内侧侧面23f。径向内侧侧面23f位于与环状密封部件5的位置相比铅垂方向的上方。润滑剂槽23l是设置于径向内侧侧面23f的凹部。在图3中，由双点划线示出的部分，润滑剂槽23l形成为环状。存储在润滑剂槽23l中的润滑剂Lu例如是润滑油。例如，润滑剂Lu的一部分从润滑剂槽23l中溢出，由于表面张力而与径向外侧表面32p接触。由此，润滑剂Lu由润滑剂槽23l和径向外侧表面32p保持。此外，润滑剂Lu具有流动性，所以在重力作用下被稳定地从润滑剂槽23l供给到环状密封部件5与旋转部32的径向外侧表面32p之间。由此，容易保持在旋转部32与环状密封部件5之间有润滑剂Lu的状态。因此，能够抑制环状密封部件5或旋转部32的磨损，在实施方式1中，密封机构1能够降低可提高密封性的部件的更换频率。
此外，环状密封部件5和旋转部32的表面具有一定程度的微细凹凸即表面粗糙度。因此，环状密封部件5与旋转部32接触的部分的密封性可能取决于表面粗糙度的大小。在实施方式1中，由于将润滑剂Lu供给到环状密封部件5和旋转部32的表面，所以润滑剂Lu被填充到粗糙的表面的凹部中。由此，密封机构1能够利用润滑剂Lu改善环状密封部件5与旋转部32的表面粗糙度，从而提高密封性。
如图4所示，润滑剂槽23l设置在径向内侧侧面23f的一部分。此外，与环状密封部件5的位置相比，径向内侧侧面23f位于低压侧的位置。盖部23能够通过适当设定径向内侧侧面23f中与润滑剂槽23l相比位于低压侧的部分和径向外侧表面32p之间的间隙s1的距离Δd1来调整真空度。距离Δd1例如优选为0.001mm以上0.5mm以下。此外，距离Δd1小于间隙55的大小。由此，润滑剂Lu难以通过径向内侧侧面23f与径向外侧表面32p之间。因此，能够抑制润滑剂Lu向内部空间V侧飞溅的事态。同样，环状凸部25e能够通过适当设定径向内侧侧面25f与径向外侧表面32p之间的间隙s2的距离Δd2来调整真空度。距离Δd2例如优选为0.001mm以上0.5mm以下。在将距离Δd2设定得较小的情况下，能够容易地在间隙55中保持润滑剂Lu。
如图4所示，在由固定部52、环状连结部53和唇部51包围的空间内部配置有施力部件56，能够将唇部51的按压力向旋转部32侧施加。施力部件56例如是不锈钢等，是将均呈平板状的板状部56a和板状部56b在弯曲部56c弯折而成的、截面视图中呈V形的弹性体。施力部件56以使板状部56a和板状部56b的前端彼此扩展张开的方式进行施力。
环状密封部件5中，除了由于唇部51的弹性变形产生的压力以外，还受到施力部件56所施加的压力而唇部51与旋转部32的径向外侧表面32p接触。因此，密封机构1能够提高唇部51与旋转部32的径向外侧表面32p接触的接触压力。而且，由固定部52、环状连结部53和唇部51包围的空间朝向压力不同的2个空间中的作为高压侧的外部空间E开口，所以压力不同的2个空间的压力差能够提高唇部51与旋转部32的径向外侧表面32p接触的接触压力。由此，即使提高内部空间V的真空度，密封机构1也能够维持较高的密封性。此外，不仅唇部51的内周侧前端51a与径向外侧表面32p接触，而且唇部51的靠近环状连结部53的内周侧基部51d的至少一部分也与径向外侧表面32p接触。其结果是，唇部51的内周侧以面与径向外侧表面32p接触，所以能够维持密封性。
即使唇部51或轴31发生磨损或变形，施力部件56也发挥维持接触压力的作用。因此，密封机构1能够降低作为提高密封性的部件的环状密封部件5或旋转部32的更换频率。
由唇部51、环状连结部53和固定部52包围的空间向压力不同的2个空间即内部空间V和外部空间E中的高压侧的外部空间E开口。采用这样的结构，由环状密封部件5的唇部51自身的弹性变形产生的压力与由施力部件56施加的压力协同作用，因而能够提高环状密封部件5与旋转部32接触的接触压力。
施力部件56优选设置于由固定部52、环状连结部53和唇部51包围的空间中。采用这样的结构，能够容易地使唇部51与旋转部32面接触。
如上所述，密封机构1能够分隔压力不同的2个空间即内部空间V和外部空间E。密封机构1包括：外壳2；插入到外壳2中的轴31；设置于外壳2并且以轴31能够旋转的方式支承该轴31的轴承4；以及设置于轴31的一端部与轴31一起旋转，并且其径向外侧表面32p与外壳2的密封件固定用间隔件25具有规定大小的间隙55地对置的旋转部32。此外，密封机构1包括：将间隙55密封的环状密封部件5；以及存储对环状密封部件5与旋转部32的径向外侧表面32p之间供给的润滑剂Lu的润滑剂槽23l。由此，容易保持在旋转部32与环状密封部件5之间有润滑剂Lu的状态。因此，能够抑制环状密封部件5或旋转部32的磨损，在实施方式1中密封机构1能够降低可提高密封性的部件的更换频率。
此外，在密封机构1中，外壳2具有：规定间隙55的大小并且将环状密封部件5固定的密封件固定用间隔件25；以及将密封件固定用间隔件25固定的盖部23。此外，盖部23的径向内侧侧面23f位于与环状密封部件5的位置相比铅垂方向的上方，润滑剂槽23l设置于盖部23的径向内侧侧面23f。由此，润滑剂Lu在重力作用下被稳定地从润滑剂槽23l供给到环状密封部件5与旋转部32的径向外侧表面32p之间。
此外，在密封机构1中，盖部23的径向内侧侧面23f与环状密封部件5的位置相比位于压力不同的2个空间中的低压侧的位置，润滑剂槽23l设置于盖部23的径向内侧侧面23f的一部分。此外，盖部23的径向内侧侧面23f中与润滑剂槽23l相比位于压力不同的2个空间中的低压侧的部分与旋转部32的径向外侧表面32p之间的距离Δd1小于间隙55的大小。由此，润滑剂Lu难以通过径向内侧侧面23f与径向外侧表面32p之间。因此，能够抑制润滑剂Lu向内部空间V侧飞溅的事态。
实施方式1的变形示例1
图5是实施方式1的变形示例1涉及的密封机构的间隙的放大图。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略其说明。实施方式1的变形示例1涉及的密封机构1A被配置成，密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f位于与环状密封部件5相比的铅垂方向的上方。因此，图5中的上侧是铅垂方向的下侧，图5中的下侧是铅垂方向的上侧。实施方式1的变形示例1涉及的密封机构1A具有用于存储对环状密封部件5与旋转部32的径向外侧表面32p之间供给的润滑剂Lu的润滑剂槽25l。
密封件固定用间隔件25具有与环状密封部件5相比在高压侧与旋转部32的径向外侧表面32p相向对置的径向内侧侧面25f。与环状密封部件5的位置相比，径向内侧侧面25f位于铅垂方向上方。润滑剂槽25l是设置在密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f的环状凹部。存储在润滑剂槽25l中的润滑剂Lu例如是润滑油。例如，润滑剂Lu的一部分从润滑剂槽25l中溢出，由于表面张力而与径向外侧表面32p接触。由此，润滑剂Lu由润滑剂槽25l和径向外侧表面32p保持。此外，润滑剂Lu具有流动性，所以在重力作用下被稳定地从润滑剂槽25l供给到环状密封部件5与旋转部32的径向外侧表面32p之间。由此，即使在盖部23配置在与环状密封部件5相比的铅垂方向的下方的情况下，润滑剂Lu也在重力作用下被稳定地从润滑剂槽25l供给到环状密封部件5与旋转部32的径向外侧表面32p之间。因此，实施方式1的变形示例1涉及的密封机构1A，即使在盖部23配置在与环状密封部件5相比的铅垂方向的下方的情况下，也能够降低可提高密封性的部件的更换频率。
此外，密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f与环状密封部件5的位置相比位于高压侧的位置。此外，盖部23的径向内侧侧面23f与环状密封部件5的位置相比位于低压侧的位置。能够通过适当设定径向内侧侧面23f与径向外侧表面32p之间的间隙s1的距离Δd1来调整真空度。距离Δd1例如优选为0.001mm以上0.5mm以下。此外，距离Δd1小于间隙55的大小。由此，润滑剂Lu难以通过径向内侧侧面23f与径向外侧表面32p之间。因此，能够抑制润滑剂Lu向内部空间V侧飞溅的事态。同样，对于环状凸部25e，也能够通过适当设定径向内侧侧面25f与径向外侧表面32p之间的间隙s2的距离Δd2来调整真空度。距离Δd2例如优选为0.001mm以上0.5mm以下。在将距离Δd2设定得较小的情况下，能够容易地在间隙55中保持润滑剂Lu。
实施方式1的变形示例2
图6是示意性地表示实施方式1的变形示例2涉及的密封机构的截面图。实施方式1的变形示例2涉及的密封机构1B与实施方式1和实施方式1的变形示例1一样，能够分隔压力不同的2个空间，不过不同之处在于，轴31除了旋转以外，还能够在轴31的轴向上进行直线运动。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略说明。
实施方式1的变形示例2涉及的密封机构1B包括外壳2和旋转部件3。外壳2不同于上述的实施方式1，不收纳轴承4，而是轴31贯穿其中。这样，实施方式1的变形示例2涉及的密封机构1B不像上述的实施方式1那样，轴31在轴向上的位置被轴承4等限制。在实施方式1的变形示例2中，外壳2具有密封件固定用间隔件25A、盖部23A作为外壳主体，密封件固定用间隔件25A、盖部23A在轴向上层叠。实施方式1的变形示例2涉及的盖部23A由螺栓等固定部件27A固定于密封件固定用间隔件25A。实施方式1的变形示例2涉及的盖部23A与实施方式1涉及的外壳凸缘部22一样，用螺栓等固定部件27B将其俯视时与壳体10重合的部分与壳体10固定。实施方式1的变形示例2涉及的盖部23A在俯视时与壳体10重合的部分具有环状槽，在该环状槽中嵌入O形环(环状密封件)11，从而提高盖部23A与壳体10的密封性。盖部23A由螺栓等固定部件27A固定于密封件固定用间隔件25A，则嵌入在环状槽中的O形环(第二环状密封部件)26A可提高密封性，进行密封。此外，盖部23A与密封件固定用间隔件25A的轴向一端抵接。而且，O形环(第二环状密封部件)26A配置在直径比环状密封部件5大的位置。
盖部23A在比环状密封部件5靠近内部空间V的一侧配置有润滑剂槽23l，并且在润滑剂槽23l中积存有用于环状密封部件5的润滑剂。由此，从润滑剂槽23l一直向环状密封部件5供给润滑剂。从盖部23A的内部空间V侧的面至润滑剂槽23l的距离L1优选是作为轴31的直线运动中所允许的最大长度的行程以上。由此，实施方式1的变形示例2涉及的密封机构1B例如在内部空间V为高真空环境的情况下，能够抑制由从润滑剂槽23l附着于轴31表面的润滑剂导致的真空度下降(劣化)。这里，为了确保距离L1，在实施方式1的变形示例2涉及的密封机构1B中，盖部23A在内部空间V侧的端部具有圆筒状的圆筒部，在圆筒部的外周侧具有高低差。用于确保距离L1的结构不局限于该高低差，不过通过使用盖部23A，实施方式1的变形示例2涉及的密封机构1B能够小型化。
实施方式1的变形示例2涉及的密封机构的驱动装置6具有旋转驱动装置8A和直线运动驱动装置8B。旋转驱动装置8A和直线运动驱动装置8B由直线运动引导机构89连结。
旋转部件3具有轴31和输送台(可动部件)33。轴31是密封机构1B的输出轴(主轴)，一端部插入到外壳2中。轴31的另一端部经由联轴器82与旋转驱动装置8A的马达部83的输出轴81连接。输送台(可动部件)33固定于轴31的一端部。
旋转驱动装置8A在马达外壳80内设置有马达部83、以及用于检测输出轴81的旋转的检测器84。马达部83在马达外壳80内设置有马达定子83a和马达转子83b。
马达部83被由轴承44、45、46组合而成的轴承4A支承，使得马达转子83b相对于马达外壳80以旋转中心轴Zr为中心自由旋转。马达外壳80呈以旋转中心轴Zr为中心的中空圆筒的筒状，在内周侧固定有马达定子83a以及轴承44、45、46的外圈。此外，轴承44、45、46的内圈固定于输出轴81的外周。由于轴31的另一端部经由联轴器82与旋转驱动装置8A的马达部83的输出轴81连接，所以轴承4A也能够以使轴31旋转自由的方式支承该轴31。
马达定子83a隔着具有绝缘性的绝缘体卷绕有励磁线圈。马达定子83a是利用粘合、嵌合突起、铆接等方式将电磁钢板、冷轧钢板等薄板层叠而制造的圆筒状筒体。励磁线圈是线状的电线，基于控制装置91的控制接受电力供给，能够激励马达定子83a使其产生旋转磁场。马达定子83a就是马达部83的通常所说的定子。
马达转子83b在以旋转中心轴Zr为中心的铁芯材的外周侧固定有磁体。马达转子83b中，磁体沿着马达转子83b的径向外侧的外周表面贴附，在圆周方向上设置有多个。磁体是永久磁铁，S极和N极在马达转子83b的圆周方向上交替且等间隔地配置。这样的马达转子83b被称为PM(PermanentMagnet，永磁)式转子。马达转子83b与励磁线圈在马达定子铁芯的齿部激励的旋转磁场对应地旋转。
检测器84例如是旋转变压器装置，位于轴向(与旋转中心平行的方向)上的马达部83的端部。检测器84具有旋转变压器定子84a和旋转变压器转子84b。旋转变压器转子84b固定于马达转子83b的一端。旋转变压器定子84a固定于马达外壳80。检测器84能够根据与马达转子83b的旋转连动的旋转变压器转子84b的旋转，从旋转变压器定子84a输出检测信号。来自旋转变压器定子84a的检测信号输入至控制装置91，控制装置91能够检测出输出轴81的旋转。检测器84例如不局限于旋转变压器装置，也可以是其他的磁传感器或旋转检测传感器。
直线运动驱动装置8B具有驱动马达90、螺纹轴85、连结部86、支承部件87、定位部88、以及直线运动引导机构89。驱动马达90是与电动机8同样的电动机。直线运动驱动装置8B只要是提供与轴31的轴向平行的直线运动的移动自由度的直线运动驱动装置即可，不局限于上述结构。
驱动马达90与壳体10的相对基准位置由支承部件87固定。螺纹轴85和连结部86是滚珠螺杆机构，将由驱动马达90传递来的螺纹轴85的旋转转换成直线运动，使连结部86在与螺纹轴85延伸的方向(螺纹轴85的轴向)平行的MZ方向上移动。连结部86与定位部88连结，定位部88的位置与对应于连结部86的直线运动按照直线运动引导机构89的引导所决定的位置连动。定位部88是能在其上表面设置旋转驱动装置8A的工作台。因此，直线运动驱动装置8B能够沿着轴31的轴向，能够连同旋转驱动装置8A一起使轴31在直线上移动(直线运动)。
实施方式1的变形示例2涉及的控制装置91对旋转驱动装置8A的马达部83和直线运动驱动装置8B的驱动马达90进行控制，对轴31提供旋转运动和直线运动中的至少一种运动。因此，实施方式1的变形示例2涉及的控制装置91能够以对输送台(可动部件)33提供旋转运动和直线运动中的至少一种运动的方式，来对旋转驱动装置8A的马达部83和直线运动驱动装置8B的驱动马达90进行控制。而且，输送装置7具有使被输送物移动的输送台(可动部件)33，通过输送台(可动部件)33的动作与轴31的旋转运动和直线运动中的至少一种运动连动，由此能够使被输送物移动。
在实施方式1的变形示例2涉及的环状密封部件5中，在环状密封部件5固定于外壳2的状态下轴31也进行旋转运动和直线运动中的至少一种运动，所以在环状密封部件5与轴31之间产生摩擦。实施方式1的变形示例2涉及的密封机构1B具有环状密封部件5和存储润滑剂的润滑剂槽23l，所以容易保持在轴31的径向外侧表面31p与环状密封部件5之间有润滑剂的状态。因此，能够抑制环状密封部件5或轴31的磨损，所以实施方式1的变形示例2涉及的密封机构1B能够降低可提高密封性的部件的更换频率。
另外，旋转运动和直线运动的应力施加于实施方式1的变形示例2涉及的环状密封部件5。因此，环状密封部件5的强度优选具有大于0.1Gpa的弹性模量。
实施方式1的变形示例3
图7是示意性地表示实施方式1的变形示例3涉及的密封机构的截面图。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略说明。
实施方式1的变形示例3涉及的密封机构1C具有密封件固定用间隔件25A、盖部23B作为外壳主体，密封件固定用间隔件25A、盖部23B在轴向上层叠。
实施方式1的变形示例3涉及的密封机构1C被配置成，密封件固定用间隔件25A的径向内侧侧面25f位于与环状密封部件5相比的铅垂方向的上方。因此，图7中的上侧是铅垂方向的下侧，图7中的下侧是铅垂方向的上侧。实施方式1的变形示例3涉及的密封机构1C具有润滑剂槽25l。
润滑剂槽25l是设置于密封件固定用间隔件25A的径向内侧侧面25f的环状凹部。在润滑剂槽25l中存储润滑剂。例如，润滑剂的一部分从润滑剂槽25l溢出，由于表面张力而与轴31的径向外侧表面31p接触。由此，润滑剂由润滑剂槽25l和径向外侧表面31p保持。此外，润滑剂具有流动性，所以在重力作用下被稳定地从润滑剂槽25l供给到环状密封部件5与轴31的径向外侧表面31p之间。由此，即使在盖部23B配置在与环状密封部件5相比的铅垂方向的下方的情况下，润滑剂也在重力作用下被稳定地从润滑剂槽25l供给到环状密封部件5与轴31的径向外侧表面31p之间。因此，实施方式1的变形示例3涉及的密封机构1C，即使在盖部23B配置在与环状密封部件5相比的铅垂方向的下方的情况下，也能够降低可提高密封性的部件的更换频率。
实施方式2
图8是示意性地表示具有实施方式2涉及的密封机构的制造装置的截面图。图9是示意性地表示实施方式2涉及的密封机构的截面图。图8和图9示出了用包含密封机构1D的旋转中心轴Zr并且与旋转中心轴Zr平行的平面切开密封机构1而得到的截面。图10是图9的B－B向视图。图11是实施方式2涉及的密封机构的间隙的放大图。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略说明。
实施方式2涉及的密封机构1D具有在沿着旋转中心轴Zr的方向上的不同位置对间隙55进行密封的2个环状密封部件5A、5B。在实施方式2中，2个环状密封部件5A、5B是配置位置彼此不同的相同部件。例如，2个环状密封部件5A、5B是与上述实施方式1的环状密封部件5相同的部件。另外，环状密封部件只要是多个即可，也可以是3个以上。
实施方式2涉及的外壳2包括：由螺栓27固定于外壳凸缘部22的盖部23、配置在外壳主体的主干部21内部的外圈止动部件24、密封件固定用间隔件25、以及密封件固定用间隔件28。密封机构1D被配置成该贯通孔沿着铅垂方向并且该贯通孔的内部空间V侧为铅垂方向上侧。因此，图8和图9中的上侧是铅垂方向上侧，图8和图9中的下侧是铅垂方向下侧。
密封件固定用间隔件25规定间隙55的大小并且将环状密封部件5A固定。如图10所示，密封件固定用间隔件25是环状部件。密封件固定用间隔件25作为环状密封部件5A的导向件发挥作用，所以能够使环状密封部件5A与旋转部32接触的接触压力为适当的设定值。
密封件固定用间隔件28是环状部件，规定间隙55的大小并且将环状密封部件5B固定。如图9所示，密封件固定用间隔件28具有密封件固定凹部28b、径向内周部28c和径向外周部28d。径向外周部28d的至少一部分与主干部21的贯通孔的内壁21b接触。密封件固定用间隔件28作为环状密封部件5B的导向件发挥作用，所以能够使环状密封部件5B与旋转部32接触的接触压力为适当的设定值。
在外壳凸缘部22以与旋转中心轴Zr呈同心圆状的方式形成有环状槽22a，径向外周部25d的至少一部分构成环状槽22a的壁面的一部分。盖部23由螺栓27固定于外壳凸缘部22，则嵌入在环状槽22a中的O形环(第二环状密封部件)26可提高密封性，进行密封。而且，O形环(第二环状密封部件)26配置在直径比环状密封部件5A、5B大的位置。此外，间隔件定位部25a夹在上述密封件固定用间隔件28的径向外周部28d与主干部21的贯通孔的内壁21b之间被固定。在内部空间V的真空程度较低的情况下就不需要设置环状槽22a和O形环(第二环状密封部件)26。
如图10所示，环状密封部件5A与旋转部32、密封件固定用间隔件25、以及固定于外壳凸缘部22的O形环(第二环状密封部件)26、O形环11一样，按照以旋转中心轴Zr为中心构成同心圆的方式配置。环状密封部件5B也与环状密封部件5A一样，按照以旋转中心轴Zr为中心构成同心圆的方式配置。而且，如图8所示，环状密封部件5A、5B与轴承4相比配置在压力不同的2个空间中靠近低压侧的内部空间V。采用这种结构，环状密封部件5A、5B使轴承4所用的润滑剂等不会向内部空间V侧飞溅。
如图11所示，盖部23由螺栓27固定于外壳凸缘部22，则密封件固定用间隔件25将插入到密封件固定凹部25b中的密封凸缘部54夹紧固定。由此，密封机构1D中，由于环状密封部件5A具有密封凸缘部54，所以能够抑制环状密封部件5A因旋转部32旋转而一起旋转的可能性。
此外，如图11所示，盖部23由螺栓27固定于外壳凸缘部22，则密封件固定用间隔件28将插入到密封件固定凹部28b中的密封凸缘部54夹紧固定。由此，密封机构1D中，由于环状密封部件5B具有密封凸缘部54，所以能够抑制环状密封部件5B因旋转部32旋转而一起旋转的可能性。
由于旋转部32在环状密封部件5A、5B固定于外壳2的状态下旋转，所以在环状密封部件5A、5B与旋转部32之间产生摩擦。由该摩擦导致的发热可能加剧环状密封部件5A、5B或旋转部32的磨损。因此，需要减小该摩擦。于是，密封机构1D设置有润滑剂槽25l，用于存储对环状密封部件5A、5B与旋转部32的径向外侧表面32p之间供给的润滑剂Lu。
密封件固定用间隔件25在环状密封部件5A、5B之间的位置具有与旋转部32的径向外侧表面32p对置的径向内侧侧面25f。径向内侧侧面25f位于与环状密封部件5B的位置相比的铅垂方向的上方。润滑剂槽25l是设置于密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f的凹部。在图10中，如虚线示出的部分，润滑剂槽25l形成环状。存储在润滑剂槽25l中的润滑剂Lu例如是润滑油。例如，润滑剂Lu的一部分从润滑剂槽251中溢出，由于表面张力而与径向外侧表面32p接触。由此，润滑剂Lu由润滑剂槽25l和径向外侧表面32p保持。此外，润滑剂Lu具有流动性，所以在重力作用下被稳定地从润滑剂槽25l供给到环状密封部件5B与旋转部32的径向外侧表面32p之间。由此，容易保持在旋转部32的径向外侧表面32p与环状密封部件5B之间有润滑剂Lu的状态。此外，润滑剂Lu在因旋转部32与环状密封部件5B之间很小的空气泄漏而产生的压力作用下被供给到环状密封部件5A。此外，润滑剂Lu在内部空间V的压力变动时(制造装置100开始工作时和停止时)也被供给到环状密封部件5A，所以能够抑制环状密封部件5A、5B或旋转部32的磨损。因此，密封机构1D能够降低可提高密封性的部件的更换频率。
此外，环状密封部件5A、5B中的环状密封部件5A与润滑剂槽25l相比位于低压侧。由此，从润滑剂槽25l向环状密封部件5A侧移动的润滑剂Lu向内部空间V侧的移动被环状密封部件5A阻碍。因此，密封机构1D能够降低被供给到接触式密封件的表面的润滑剂Lu向内部空间V飞溅的可能性。
此外，环状密封部件5A、5B和旋转部32的表面具有一定程度的微细凹凸即表面粗糙度。因此，环状密封部件5A、5B与旋转部32接触的部分的密封性可能取决于表面粗糙度的大小。在实施方式2中，由于将润滑剂Lu供给到环状密封部件5A、5B和旋转部32的表面，所以润滑剂Lu被填充到粗糙的表面的凹部中。由此，密封机构1D能够利用润滑剂Lu改善环状密封部件5A、5B和旋转部32的表面粗糙度，从而提高密封性。
盖部23能够通过适当设定径向内侧侧面23f与径向外侧表面32p之间的间隙s1的距离Δd1来调整真空度。距离Δd1例如优选为0.001mm以上0.5mm以下。
如图11所示，润滑剂槽25l设置于径向内侧侧面25f的一部分。密封件固定用间隔件25能够通过适当设定径向内侧侧面25f中与润滑剂槽25l相比位于环状密封部件5A侧的部分与径向外侧表面32p之间的间隙s2的距离Δd2来调整真空度。此外，密封件固定用间隔件25也能够通过适当设定径向内侧侧面25f中与润滑剂槽25l相比位于环状密封部件5B侧的部分与径向外侧表面32p之间的间隙s3的距离Δd2来调整真空度。距离Δd2例如优选为0.001mm以上0.5mm以下。此外，距离Δd2小于间隙55的大小。由此，润滑剂Lu慢慢通过径向内侧侧面25f与径向外侧表面32p之间的间隙s2、s3。因此，能够抑制润滑剂Lu被过量地供给到环状密封部件5A、5B侧的事态。另外，在实施方式2中，间隙s2和间隙s3是为相同距离Δd2的间隙，不过也可以是不同距离的间隙。
环状密封部件5A、5B中，除了由于唇部51发生弹性变形所产生的压力以外，还受到施力部件56所施加的压力而唇部51与旋转部32的径向外侧表面32p接触。因此，密封机构1D能够提高唇部51与旋转部32的径向外侧表面32p接触的接触压力。而且，由固定部52、环状连结部53和唇部51包围的空间朝向压力不同的2个空间中的作为高压侧的外部空间E开口，所以压力不同的2个空间的压力差能够提高唇部51与旋转部32的径向外侧表面32p接触的接触压力。由此，即使提高内部空间V的真空度，密封机构1D也能够维持较高的密封性。此外，不仅唇部51的内周侧前端51a与径向外侧表面32p接触，而且唇部51的靠近环状连结部53的内周侧基部51d的至少一部分也与径向外侧表面32p接触。其结果是，唇部51的内周侧以面与径向外侧表面32p接触，所以能够维持密封性。
即使唇部51或轴31发生磨损或变形，施力部件56也发挥维持接触压力的作用。因此，密封机构1D能够降低作为可提高密封性的部件的环状密封部件5A、5B或旋转部32的更换频率。
由唇部51、环状连结部53和固定部52包围的空间朝向压力不同的2个空间即内部空间V和外部空间E中的高压侧的外部空间E开口。采用这种结构，由环状密封部件5A、5B的唇部51自身的弹性变形产生的压力和由施力部件56施加的压力协同作用，因而能够提高环状密封部件5A、5B与旋转部32接触的接触压力。
另外，密封机构1D被配置成主干部21的贯通孔沿着铅垂方向，不过也可以配置成该贯通孔沿着水平方向。在这样配置的情况下，由于存在润滑剂槽25l位于与旋转部32相比的铅垂方向的上方的部位，所以润滑剂Lu在重力作用下被供给到旋转部32的径向外侧表面32p。然后，润滑剂Lu沿着径向外侧表面32p被供给到环状密封部件5A、5B与旋转部32之间。
如上所述，密封机构1D能够分隔压力不同的2个空间即内部空间V和外部空间E。密封机构1D包括：外壳2；插入到外壳2中的轴31；设置于外壳2并且以轴31能够旋转的方式支承该轴31的轴承4；以及设置于轴31的一端部与轴31一起旋转，并且其径向外侧表面32p与外壳2的密封件固定用间隔件25具有规定大小的间隙55地对置的旋转部32。此外，密封机构1D包括：在不同的位置对间隙55进行密封的多个环状密封部件5A、5B；以及存储对环状密封部件5A、5B与旋转部32的径向外侧表面32p之间供给的润滑剂Lu的润滑剂槽25l。多个环状密封部件5A、5B中的至少1个环状密封部件5A与润滑剂槽25l相比位于压力不同的2个空间中的低压侧。由此，从润滑剂槽25l向环状密封部件5A侧移动的润滑剂Lu向内部空间V侧的移动被环状密封部件5A阻碍。因此，密封机构1D能够降低被供给到接触式密封件的表面的润滑剂Lu向内部空间V飞溅的可能性。
此外，在密封机构1D中，外壳2具有：规定间隙55的大小并且将环状密封部件5A固定的密封件固定用间隔件25。密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f位于多个环状密封部件5A、5B之间的位置，润滑剂槽25l设置于密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f。由此，润滑剂Lu容易被供给到多个环状密封部件5A、5B的表面，所以能够抑制环状密封部件5A、5B或旋转部32的磨损。因此，密封机构1D能够降低可提高密封性的部件的更换频率。
此外，在密封机构1D中，润滑剂槽25l设置于密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f的一部分。密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f中与润滑剂槽25l相比位于环状密封部件5A、5B侧的部分与旋转部32的径向外侧表面32p之间的距离Δd2小于间隙55的大小。由此，润滑剂Lu慢慢通过径向内侧侧面25f与径向外侧表面32p之间的间隙s2、s3。因此，密封机构1D能够抑制润滑剂Lu被过量地供给到环状密封部件5A、5B侧的事态。
实施方式2的变形示例1
图12是实施方式2的变形示例1涉及的密封机构的间隙的放大图。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略说明。实施方式2的变形示例1涉及的密封机构1E具有用于存储对环状密封部件5A、5B与旋转部32的径向外侧表面32p之间供给的润滑剂Lu的润滑剂槽32l。
润滑剂槽32l设置于旋转部32的径向外侧表面32p中与密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f对置的部分。即，如图12所示，润滑剂槽32l设置于旋转部32的径向外侧表面32p中由平面S1和平面S2夹着的范围，其中，平面S1与旋转中心轴Zr垂直且通过径向内侧侧面25f的环状密封部件5A侧端部，平面S2与旋转中心轴Zr垂直且通过径向内侧侧面25f的环状密封部件5B侧端部。润滑剂槽32l以旋转中心轴Zr为中心呈环状地设置。例如，润滑剂Lu的一部分从润滑剂槽32l溢出，由于表面张力而与密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f接触。由此，润滑剂Lu由润滑剂槽32l和径向内侧表面25f保持。此外，润滑剂Lu具有流动性，所以在重力作用下被稳定地从润滑剂槽32l供给到环状密封部件5B与旋转部32的径向外侧表面32p之间。由此，容易保持在旋转部32的径向外侧表面32p与环状密封部件5B之间有润滑剂Lu的状态。此外，润滑剂Lu在因旋转部32与环状密封部件5B之间很小的空气泄漏而产生的压力的作用下被供给到环状密封部件5A。此外，润滑剂Lu在内部空间V的压力变动时(制造装置100开始工作时和停止时)也被供给到环状密封部件5A，所以能够抑制环状密封部件5A、5B或旋转部32的磨损。因此，密封机构1E能够降低可提高密封性的部件的更换频率。
另外，润滑剂槽32l只要位于旋转部32的径向外侧表面32p中由平面S1和平面S2夹着的范围内即可，可以不以旋转中心轴Zr为中心呈环状地设置。润滑剂槽32l例如可以以相对于旋转中心轴Zr构成角度的直线为中心呈环状地设置。
如图12所示，润滑剂槽32l设置在旋转部32的径向外侧表面32p中与密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f对置的部分的一部分中。密封件固定用间隔件25能够通过适当设定旋转部32的径向外侧表面32p中与润滑剂槽32l相比位于环状密封部件5A侧的部分与密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f之间的间隙s2的距离Δd2来调整真空度。此外，密封件固定用间隔件25能够通过适当设定旋转部32的径向外侧表面32p中与润滑剂槽32l相比位于环状密封部件5B侧的部分与密封件固定用间隔件25的径向内侧侧面25f之间的间隙s3的距离Δd2来调整真空度。距离Δd2例如优选为0.001mm以上0.5mm以下。此外，距离Δd2小于间隙55的大小。由此，润滑剂Lu慢慢通过径向内侧侧面25f与径向外侧表面32p之间的间隙s2、s3。因此，能够抑制润滑剂Lu被过量供给到环状密封部件5A、5B侧的事态。另外，在实施方式2的变形示例1中，间隙s2和间隙s3是为相同距离Δd2的间隙，不过也可以是不同距离的间隙。
实施方式2的变形示例2
图13是示意性地表示实施方式2的变形示例2涉及的密封机构的截面图。实施方式2的变形示例2涉及的密封机构1F与实施方式2和实施方式2的变形示例1一样，能够分隔压力不同的2个空间，不过不同之处在于，轴31除了旋转以外，还能够在轴31的轴向上进行直线运动。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略说明。
外壳2具有密封件固定用间隔件28A、密封件固定用间隔件25A、盖部23B作为外壳主体，密封件固定用间隔件28A、密封件固定用间隔件25A、盖部23B在轴向上层叠。
实施方式2的变形示例2涉及的密封件固定用间隔件28A由螺栓等固定部件27C将俯视时与密封件固定用间隔件25A重合的部分固定。密封件固定用间隔件28A在俯视时与密封件固定用间隔件25A重合的部分具有环状槽，并且在该环状槽中嵌入O形环(第二环状密封部件)26B，从而提高密封件固定用间隔件25A与密封件固定用间隔件28A的密封性。密封件固定用间隔件28A由螺栓等固定部件27C固定于密封件固定用间隔件25A，则嵌入在环状槽中的O形环(第二环状密封部件)26B提高密封性，进行密封。此外，密封件固定用间隔件28A与密封件固定用间隔件25A在轴向上的另一端抵接。而且，O形环(第二环状密封部件)26B配置于直径比环状密封部件5B大的位置。
实施方式2的变形示例3
图14是示意性地表示实施方式2的变形示例3涉及的密封机构的截面图。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略说明。
环状密封部件5A与环状密封部件5B之间的空间的压力(以下称为密封间压力)为壳体10的内部空间V与外部空间E的中间的压力。或者，在环状密封部件5A使耐腐蚀性能优先而密封性能低于环状密封部件5B的情况下，密封间压力为接近壳体10的内部空间V的压力例如低真空等。
密封间压力相对于壳体10的内部空间V侧的状态变化进行一阶滞后系统的变化。因此，要求确保密封间压力达到稳定所需的时间作为起动时间。而实施方式2的变形示例3涉及的密封机构1G，在外壳2设置有与环状密封部件5A和环状密封部件5B之间的空间连接的作为排气管路的流路25H。环状密封部件5A与环状密封部件5B之间的空间的气体通过流路25H排出，由此密封间压力成为恒定。其结果，密封机构1G能够缩短起动时间。
密封机构1G还可以设置有：作为压力变动装置的泵92、以及测量流路25H内的压力或气体流量的测量器93。控制装置91可以根据测量出的流路25H内的压力或气体流量，控制泵92的气体排出量来进行压力控制，以使密封间压力恒定。由此，密封机构1G能够缩短起动时间。
密封机构1G记录由控制装置91测量出的流路25H内的压力或气体流量的经时变化，在超过规定阈值的情况下，能够警告环状密封部件5A或环状密封部件5B已劣化。其结果，能够在对壳体10的内部空间V产生较大影响之前确认环状密封部件5A或环状密封部件5B的更换时期。
实施方式2的变形示例4
图15是示意性地表示实施方式2的变形示例4涉及的密封机构的截面图。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略说明。
在密封机构1H中，润滑剂槽25l在流路25H的两侧各配置有1个。即，流路25H设置在2个润滑剂槽25l之间的位置。流路25H是排气管路或供气管路。
密封机构1H具有作为压力变动装置的排气泵92a和供气泵92b。在排气泵92a和供气泵92b中的排气泵92a工作时，环状密封部件5A与环状密封部件5B之间的空间的气体通过流路25H进行排气，由此密封间压力恒定。其结果，密封机构1H能够缩短起动时间。在排气泵92a和供气泵92b中的供气泵92b工作时，环状密封部件5A与环状密封部件5B之间的空间的压力升高，由此润滑剂槽25l的润滑剂被供给到环状密封部件5A和环状密封部件5B。密封机构1H能够有目的性地将润滑剂供给到环状密封部件5A和环状密封部件5B。例如，即使在轴31的行程较小的情况下，密封机构1H也容易地将润滑剂供给到环状密封部件5A和环状密封部件5B。
此外，密封机构1H优选具有润滑剂供给装置94和润滑剂供给装置95。润滑剂供给装置94和润滑剂供给装置95例如能够经由设置于外壳2的流路等将润滑剂供给到润滑剂槽25l。由此，即使在存储在润滑剂槽25l中的润滑剂減少的情况下，密封机构1H也能够容易地将润滑剂补给到润滑剂槽25l中。
实施方式3
图16是实施方式3涉及的密封机构的间隙的放大图。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略说明。实施方式3涉及的密封机构1I是具有环状密封部件5而在外壳2没有设置润滑剂槽的一个示例。
实施方式3的变形示例1
图17是实施方式3的变形示例1涉及的密封机构的间隙的放大图。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略其说明。如图17所示，在实施方式3的变形示例1涉及的密封机构1J中，施力部件56例如是不锈钢等，是将均呈平板状的板状部56a和板状部56b在弯曲部56c弯折而成的、截面呈U形的弹性体。在密封机构1J中，弯曲部56c以使其具有规定曲率的方式弯折而成。而且，施力部件56以板状部56a和板状部56b的前端彼此扩展张开的方式进行施力。
实施方式3的变形示例2
图18是实施方式3的变形示例2涉及的密封机构的间隙的放大图。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略其说明。如图18所示，在实施方式3的变形示例2涉及的密封机构1K中，施力部件56例如是不锈钢等的线状部件，呈圆筒螺旋状地卷绕来作为螺旋弹簧。如图18所示，施力部件56配置在由固定部52、环状连结部53和唇部51包围的空间的内部、且位于唇部51的径向外侧。而且，使由旋转部32和唇部51规定的直径大于施力部件56的螺旋弹簧的直径。由此，施力部件56能够将唇部51的按压力施加于旋转部32侧。
实施方式3的变形示例3
图19是示意性地表示实施方式3的变形示例3涉及的密封机构的截面图。在实施方式3的变形示例3涉及的密封机构1L中，环状密封部件5不具有密封凸缘部54。因此，在密封件固定用间隔件25也不具有密封件固定凹部25b。
在密封机构1L中，环状密封部件5由在密封件固定用间隔件25与旋转部32之间产生的推斥力而被固定。实施方式3涉及的密封机构1I与实施方式3的变形示例3涉及的密封机构1L相比，能够抑制共同旋转，所以即使提高旋转部件3的转速，也能够确保密封性。因此，实施方式3涉及的密封机构1I与实施方式3的变形示例3涉及的密封机构1L相比，能够保持真空程度较高的内部空间V。但根据旋转部件3的转速，也可以使用实施方式3的变形示例3涉及的密封机构1L。实施方式3的变形示例3涉及的密封机构1L中，由于环状密封部件5和密封件固定用间隔件25的形状简单，所以能够减轻加工负担，使价格降低。
实施方式3的变形示例4
图20是示意性地表示实施方式3的变形示例4涉及的密封机构的截面图。实施方式3的变形示例4涉及的密封机构1M与实施方式3和实施方式3的变形示例1～变形示例3一样，能够分隔压力不同的2个空间，不过不同之处在于轴31除了旋转以外，还能够在轴31的轴向上进行直线运动。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略说明。
实施方式3的变形示例5
图21是示意性地表示实施方式3的变形示例5涉及的密封机构的截面图。实施方式3的变形示例5涉及的密封机构1N与实施方式3的变形示例4相比不同之处在于具有导向部件29。对与上述结构要素相同的结构要素标注相同的符号，并省略说明。
导向部件29是圆筒状部件，由螺栓等固定部件27D固定于密封件固定用间隔件25A。导向部件29例如在内壁设置有作为直线运动球轴承的轴承291。轴承291具有润滑剂。轴承291与轴31接触，由此导向部件29能够对轴31进行导向。从轴承291的内部空间V侧的面至环状密封部件5的距离L2优选为轴31的直线运动中所允许的最大长度的行程以上。由此，能够抑制环状密封部件5的润滑剂与轴承291的润滑剂的混合。例如，在环状密封部件5的润滑剂与轴承291的润滑剂为不同材料的情况下，如果两者混合则可能产生润滑剂的劣化。因此，密封机构1N能够抑制润滑剂的劣化。
另外，密封机构1N的环状密封部件5与实施方式3的变形示例3涉及的密封机构1L一样不具有密封凸缘部54。在轴承291的允许转数设定得较低、即旋转部件3的转数较低的情况下，能够减轻加工负担，使价格降低，基于这一点，优选不具有密封凸缘部54。另外，密封机构1N的环状密封部件5也可以具有密封凸缘部54。
以上，对实施方式1至实施方式3进行了说明，不过实施方式1至实施方式3不局限于上述内容。此外，在不脱离实施方式1至实施方式3的要旨的范围内，能够进行结构要素的各种省略、置换和变更中的至少一种。

Claims (8)

1.一种密封机构，其分隔压力不同的2个空间，其特征在于，包括：
外壳；
轴，其插入到所述外壳中；
环状密封部件，其与所述轴的径向外侧表面或固定于所述轴的旋转部的径向外侧表面接触，对间隙进行密封；以及
润滑剂槽，其存储对所述环状密封部件与所述径向外侧表面之间供给的润滑剂；
所述外壳包括：密封件固定用间隔件，其规定所述间隙的大小并且将所述环状密封部件固定；以及盖部，其将所述密封件固定用间隔件固定，
所述盖部的径向内侧侧面位于与所述环状密封部件的位置相比铅垂方向的上方，
所述盖部的径向内侧侧面与所述环状密封部件的位置相比位于所述压力不同的2个空间中的低压侧的位置，
所述润滑剂槽设置于所述盖部的径向内侧侧面的一部分，
所述盖部的径向内侧侧面中与所述润滑剂槽相比位于所述压力不同的2个空间中的低压侧的部分和所述径向外侧表面之间的距离小于所述间隙的大小。
2.一种密封机构，其分隔压力不同的2个空间，其特征在于，包括：
外壳；
轴，其插入到所述外壳中；
环状密封部件，其与所述轴的径向外侧表面或固定于所述轴的旋转部的径向外侧表面接触，对间隙进行密封；以及
润滑剂槽，其存储对所述环状密封部件与所述径向外侧表面之间供给的润滑剂；
所述外壳包括：密封件固定用间隔件，其规定所述间隙的大小并且将所述环状密封部件固定；以及盖部，其将所述密封件固定用间隔件固定，
所述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面位于与所述环状密封部件的位置相比铅垂方向的上方，
所述润滑剂槽设置于所述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面，
所述密封件固定用间隔件的径向内侧侧面与所述环状密封部件的位置相比位于所述压力不同的2个空间中的高压侧的位置，
所述盖部的径向内侧侧面与所述环状密封部件的位置相比位于所述压力不同的2个空间中的低压侧的位置，
所述盖部的径向内侧侧面与所述径向外侧表面之间的距离小于所述间隙的大小。
3.根据权利要求1或2所述的密封机构，其特征在于：
所述轴以能够旋转的方式被支承。
4.根据权利要求1所述的密封机构，其特征在于：
所述轴以能够进行使所述轴与所述外壳的相对位置在轴向上变化这样的直线运动的方式被支承，
所述盖部的所述压力不同的2个空间中的低压侧的面至所述润滑剂槽的距离，是作为所述轴的直线运动中所允许的最大长度的行程以上。
5.根据权利要求3所述的密封机构，其特征在于：
所述轴以能够进行使所述轴与所述外壳的相对位置在轴向上变化这样的直线运动的方式被支承。
6.一种密封机构的驱动装置，其特征在于，包括：
权利要求1至5中任一项所述的密封机构；以及
驱动装置，其对所述轴施加旋转运动和直线运动中的至少一种运动。
7.一种输送装置，其特征在于，包括：
权利要求1至5中任一项所述的密封机构；以及
使被输送物移动的可动部件，
所述可动部件的动作与所述轴的旋转运动和直线运动中的至少一种运动连动。
8.一种制造装置，其特征在于，包括：
权利要求1至5中任一项所述的密封机构。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106246926B (zh) * 2016-08-31 2018-12-25 南京创力传动机械有限公司 一种产气装置内的称重密封结构
EP3923087A1 (fr) * 2020-06-10 2021-12-15 Meco S.A. Dispositif d'etancheite

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10083288B3 (de) * 1999-09-27 2012-08-30 Jtekt Corp. Dichtung und Rotationsanordnung zur Verwendung dieser Dichtung
JP2001099326A (ja) * 1999-09-27 2001-04-10 Koyo Seiko Co Ltd シール
JP2002228010A (ja) * 2000-10-25 2002-08-14 Teijin Seiki Co Ltd 真空シール機構および真空シール装置
CN2656721Y (zh) * 2003-11-21 2004-11-17 中国石化集团胜利石油管理局钻井工艺研究院 一种高压旋转密封装置
JP2007009939A (ja) 2005-06-28 2007-01-18 Nsk Ltd 位置決め装置
AT503578B1 (de) * 2006-04-28 2007-11-15 Andritz Ag Maschf Dichtanordnung
CN201225402Y (zh) * 2008-07-11 2009-04-22 中国石油化工股份有限公司 可调式自动跟踪和蜂窝复合油封
CN201554859U (zh) * 2008-12-18 2010-08-18 张宝德 抽油机减速箱注剂式轴封装置
CN201912913U (zh) 2011-01-21 2011-08-03 辽宁工业大学 搅拌釜搅拌轴密封结构
CN202228679U (zh) * 2011-09-09 2012-05-23 湖南远扬煤机制造有限公司 旋转轴回流式密封壳体
JP2013204792A (ja) * 2012-03-29 2013-10-07 Hitachi Automotive Systems Ltd 緩衝器

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